等离子清洗机_等离子去胶机介绍

不可否认，国内等离子清洗行业目前确实存在一些问题，主要表现在有：

一、亟待提高准入门槛。

由于目前国内等离子清洗行业存在有多头管理、条块分割现象，因此行业保护、无序竞争、工程服务质量良莠不齐现象比比皆是。

国产等离子清洗机品牌-金铂利莱

第二、品牌企业不多。

由于行业没有准入门槛，因此等离子清洗行业以个体企业为主，占到近60～70%，并呈急剧上升之势，这些企业当中有一批不具备清洗大型工程的技术和设备，但却可以以低价扰乱工程的投标。

第三、行业标准落后。

没有出台一个行业共同认可的文件。

但是不能就此下结论国内就没有可靠的等离子清洗设备，随着这些年国际交流增多，这个就需要用户多多了解和理性甄别了。

深圳金铂利莱科技有限公司成立于2014年，主要立足于真空及常压等离子清洗设备、冲压机器人，搬运机器人，伺服压机及非标自动化设备的研发、成产、销售。 等离子清洗设备不仅在国内广受赞誉，还出口欧美等工业发达国家、受到国际市场认可。

kimberlite等离子清洗机

等离子去胶机（Plasma Cleaner）

为何要去除光刻胶？

在现代半导体生产过程中，会大量使用光刻胶来将电路板图图形通过掩模版和光刻胶的感光与显影，转移到晶圆光刻胶上，从而在晶圆表面形成特定的光刻胶图形，然后在光刻胶的保护下，对下层薄膜或晶圆基底完成进行图形刻蚀或离子注入，最后再将原有的光刻胶彻底去除。

去胶是光刻工艺中的最后一步。在刻蚀/离子注入等图形化工艺完成后，晶圆表面剩余光刻胶已完成图形转移和保护层的功能，通过去胶工艺进行完全清除。

光刻胶去除是微加工工艺过程中非常重要的环节，光刻胶是否彻底去除干净、对样片是否有造成损伤，都会直接影响后续集成电路芯片制造工艺效果。

半导体光刻胶去除工艺有哪些？

半导体光刻胶去除工艺，一般分成两种，湿式去光刻胶和干式去光刻胶。湿式去胶又根据去胶介质的差异，分为氧化去胶和溶剂去胶两种类别。干式去胶适合大部分去胶工艺，去胶彻底且速度快，是现有去胶工艺中zui好的方式。

一、等离子去胶机简述：

氧等离子去胶是利用氧气在微波发生器的作用下产生氧等离子体，具有活性的氧等离子体与有机聚合物发生氧化反应，使有机聚合物被氧化成水蒸汽和二氧化碳等排除腔室，从而达到去除光刻胶的目的，这个过程我们有时候也称之为灰化或者剥离。氧等离子去胶相比于湿法去胶工艺更为简单、适应性更好，去胶过程纯干法工艺，无液体或者有机溶剂参与。当然我们需要注意的是，这里并不是说氧等离子去胶工艺100%好于湿法去胶，同时也不是所有的光刻胶都适用于氧等离子去胶，以下几种情形我们需要注意：

① 部分稳定性极高的光刻胶如SU-8、PI（聚酰亚胺），往往胶厚也比较大，纯氧等离子体去胶速率也比较有限，为了保证快速去胶，往往还会在工艺气体中增加氟基气体增加去胶速率，因此不只是氧气是反应气体，有时候我们也需要其他气体参与；

② 涂胶后形成类非晶态二氧化硅的HSQ光刻胶。由于其构成并不是单纯的碳氢氧，所以是无法使用氧等离子去胶机来实现去胶；

③ 当我们的样品中有其他需要保留的结构层本身就是有机聚合物构成的，在等离子去胶的过程中，这些需要保留的层也可能会在氧等离子下发生损伤；

④ 样品是由容易氧化的材料或者有易氧化的结构层，氧等离子去胶过程，这些材料也会被氧化，如金属AG、C、CR、Fe以及Al，非金属的石墨烯等二维材料；

市面上常见氧等离子去胶机按照频率可分为微波等离子去胶机和射频等离子去胶机两种，微波等离子去胶机的工作频率为2.45GHz，射频等离子去胶机的工作频率为13.5MHz，更高的频率决定了等离子体拥有更高的离子浓度、更小的自偏压，更高的离子浓度决定了去胶速度更快，效率更高；更低的自偏压决定了其对衬底的刻蚀效应更小，也意味着去胶过程中对衬底无损伤，而射频等离子去胶机其工作原理与刻蚀机相似，结构上更加简单。因此，在光电器件的加工中，去胶机的选择更推荐使用损伤更小的微波等离子去胶机。

二、等离子清洗去胶机的工作原理：

氧气是干式等离子体脱胶技术中的首要腐蚀气体。它在真空等离子体脱胶机反应室内高频和微波能的作用下，电离产生氧离子、自由氧原子O*、氧分子和电子混合的等离子体，其间氧化能力强的自由氧原子（约10-20%）在高频电压作用下与光刻胶膜发生反应：O2→O*+O*，CxHy+O*→CO2↑+H2O↑。反应后产生的CO2和H2O然后被抽走。

三、等离子去胶机的优势：

1、等离子清洗机的加工过程易于控制、可重复且易于自动化；使用等离子扫胶机可以使得清洗效率获得更大的提高。整个清洗工艺流程几分钟内即可完成，因此具有产率高的特点

2、等离子扫胶机清洗对象经等离子清洗之后是干燥的，不需要再经干燥处理即可送往下一道工序，可以提高整个工艺流水线的处理效率；

3、等离子扫胶机使得用户可以远离有害溶剂对人体的伤害，同时也避免了湿法清洗中容易洗坏清洗对象的问题；

4、避免使用ODS有害溶剂，这样清洗后不会产生有害污染物，因此这种清洗方法属于环保的绿色清洗方法；

5、等离子去胶机采用无线电波范围的高频产生的等离子体与激光等直射光线不同，等离子体的方向性不强，这使得它可以深入到物体的微细孔眼和凹陷的内部完成清洗任务，因此不需要过多考虑被清洗物体的形状；

6、等离子去胶机在完成清洗去污的同时，还可以改良材料本身的表面性能，如提高表面的润湿性能、改良膜的黏着力等，这在许多应用中都是非常重要的。

四、等离子去胶的主要影响因素：

频率选择：频率越高，氧越易电离形成等离子体。频率太高，以至电子振幅比其平均自由程还短，则电子与气体分子碰撞几率反而减少，使电离率降低。一般常用频率为 13.56MHz及2.45GHZ 。

功率影响：对于一定量的气体，功率大，等离子体中的的活性粒子密度也大，去胶速度也快；但当功率增大到一定值，反应所能消耗的活性离子达到饱和，功率再大，去胶速度则无明显增加。由于功率大，基片温度高，所以应根据工艺需要调节功率。

真空度的选择：适当提高真空度，可使电子运动的平均自由程变大，因而从电场获得的能量就大，有利电离。另外当氧气流量一定时，真空度越高，则氧的相对比例就大，产生的活性粒子浓度也就大。但若真空度过高，活性粒子浓度反而会减小。

氧气流量的影响：氧气流量大，活性粒子密度大，去胶速率加快；但流量太大，则离子的复合几率增大，电子运动的平均自由程缩短，电离强度反而下降。若反应室压力不变，流量增大，则被抽出的气体量也增加，其中尚没参加反应的活性粒子抽出量也随之增加， 因此流量增加对去胶速率的影响也就不甚明显。

五、等离子去胶机的应用：

1、光刻胶的去除、剥离或灰化

2、SU-8的去除/ 牺牲层的去除

3、有机高分子聚合物的去除

4、等离子去除残胶/去浮渣/打底膜

5、失效分析中的扁平化处理

6、表面沾污清除和内腐蚀（深腐蚀）应用

7、清洗微电子元件，电路板上的钻孔或铜线框架

8、剥离金属化工艺前去除浮渣

9、提高黏附性，消除键合问题

10、塑料的表面改型：O2处理以改进涂覆性能

11、产生亲水或疏水表面

NPC-3500型微波等离子去胶机

微波等离子去胶机工作原理：

为了产生等离子，系统使用远程微波源。氧在真空环境下受高频及微波能量作用，电离产生具有强氧化能力的游离态氧原子，它在高频电压作用下与光刻胶薄膜反应，反应后生成的 CO2 和 H2O 通过真空系统被抽走。CF4 气体可以达到更快速的去胶速率，尤其对于难以去除的光刻胶也具备出色的去除能力。

在微波等离子体氛围中，活性气体被等离子化，将跟光刻胶产生化学反应，反应生产的化合物通过真空泵被快速抽走，可以达到高效的去胶效果。该去胶机微波源为远程微波源，轰击性的离子将被过滤掉之后微波等离子进入到工艺腔室参与反应，因此可以实现无损的去胶。

微波等离子去胶机主要用途：

• MEMS压力传感器加工工艺中光刻胶批量处理；

• 去除有机或无机物，而无残留；

• 去胶渣、深刻蚀应用；

• 半导体晶圆制造中光刻胶及SU8工艺；

• 平板显示生产中等离子体预处理；

• 太阳能电池生产中边缘绝缘和制绒；

• 先进晶片(芯片)封装中的衬底清洁和预处理；

NANO-MASTER微波等离子去胶机系统优势：

1）Downstream结构，等离子分布均匀；

2）远程微波，无损伤；

3）远程微波，支持金属材质；

4）批处理，一次可支持1-25片；

5）微波等离子，可以深入1um以内的孔隙进行清洗；

6）光刻胶去除的方式为化学方式，而非物理轰击，可实现等离子360度全方位的分布；

7）旋转样品台，进一步提高去胶的均匀性。

8) 腔体内无电极，更高洁净度；

9）微波波段无紫外排放，操作更安全；

10）高电子密度，去胶效率高。

在科技高速发展的时代，等离子清洗工艺的出现，大大提高了企业的生产效率。在使用新科技设备时，小编发现有许多人都会有这样的担心：等离子清洗机是否会对人体的产生危害?今天金铂利莱为大家详细解答使用等离子机需要了解的相关知识。

首先由金铂利莱小编为大家讲解等离子清洗原理：

当等离子清洗机舱体内接近真空状态时，开启射频电源，这时气体分子电离，产生等离子体，并且伴随辉光放电现象，等离子体在电场下加速，从而在电场作用下高速运动，对物体表面发生物理碰撞，等离子的能量足以去除各种污染物，同时氧离子可以将有机污染物氧化为二氧化碳和水蒸气排出舱体外。

当你了解了等离子清洗机的工作原理，你是否也明白了，等离子清洗机是一种提高工作效率的同时也响应了环保的号召。不过在等离子清洗机工作的时候，是会产生一定的辐射，不过这种辐射是非常小的，堪比电脑辐射，是不会对人体产生较大的危害。并且，金铂利莱自主研发生产的等离子清洗机，可以搭配自动化生产设备，不需要工人24小时站在机器旁边，在处理完成后会自动提醒，所以担心等离子清洗机会对人体产生危害的朋友们，不需要有所顾虑了。

等离子清洗设备-金铂利莱（等离子清洗机厂家）

深圳等离子清洗机广泛应用于电子光学、半导体、航天航空、汽车制造等行业应用中。感兴趣欢迎您前来咨询，我们是一家2014年成立的老牌生产厂家，自主研发生产，厂家直销，为客户带来优质的产品和优惠的价格。

真空等离子清洗设备-金铂利莱（等离子清洗机厂家）

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微波等离子清洗机的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看，等离子体清洗通常包括以下过程：无机气体被激发为等离子态；气相物质被吸附在固体表面；被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子；产物分子解析形成气相；反应残余物脱离表面。

微波等离子清洗机技术的Z大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。

微波等离子清洗机还具有以下几个特点：容易采用数控技术，自动化程度高；具有高精度的控制装置，时间控制的精度很高；正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证；由于是在真空中进行，不污染环境，保证清洗表面不被二次污染。

-仪器介绍-

小型等离子表面处理设备是专门针对于大学，研究机构和工厂研发机构设计的小批量样品处理装置，作为有针对的设计，突出移动方便，多种配置功能和高性能以及稳定性，操作方便的使用特性。

-设置参数-

　　a. 频率偏移量： 小于0.2KHz

　　b. 特性阻抗： 50欧姆，自动匹配

　　c. 真空度： 10Pa—1000Pa

　　d. 气体流量： 60—600ml/min(可调)

　　e. 过程控制： MCU自动与手动方式

　　f. 清洗时间： 1-100分钟可调

　　g. 功率大小 10%-100%可调

　　h. 真空泵： 2XZ-4

　　i. 真空室温度： 小于65°C

　　j. 冷却方式： 强制风冷

-仪器特点-

　　（1）体积小，，可放置在任何实验台上。

　　（2）性能可靠，“肚量”宽大。真空腔体采用T6061航空铝合金材料无缝焊接，电极面积达到89mm*170mm，腔体与电极之间的间隙可到53mm，样品放置空间大。

　　（3）配置灵活，可配置不同的频率及功率：50KHz，13.56MHz；控制系统可选择了PLC微电脑控制和更精j准的全数字电脑控制，以满足不同用户的要求。

　　（4）操作简便，一般操作人员在极短的时间内就可以熟练操作，甚至只需要几分钟就可掌握。

　　（5） 安全保障：在小型设备中，引入一键急停保护按钮，可以快速终止实验，以最小程度降低因操作失误而造成对样品的损害。

-仪器应用-

　　光学镜片清洗：清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。

　　去除氧化物：移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质，去除金属材料表面的氧化物。

　　芯片清洗：清洗生物芯片、微流控芯片、沉积凝胶的基片。

　　表面修饰：高分子材料表面的修饰。

　　封装领域：封装领域中的清洗和改性，增强其粘附性，适用于直接封装及粘和。

　　改善粘合力：改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。

　　涂覆镀膜：对玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性，使其活化，增强表面粘附性、浸润性、相容性，显著提高涂覆镀膜质量。

　　牙科领域：对钛制牙移植物和硅酮压模材料表面的预处理，增强其浸润性和相容性。

　　医用领域：修复学上移植物和生物材料表面的预处理，增强其浸润性、粘附性和相容性