NexION 300S ICP-MS测定硅晶片中的杂质

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• NexION 300S ICP-MS测定硅晶片中的杂质

  NexION 300S ICP-MS测定硅晶片中的杂质[详细]

  2013-07-17 00:00

  操作手册

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  2013-07-17 00:00

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  NexION 300S ICP-MS测定半导体级硫酸中的杂质[详细]

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  四甲基氢氧化铵（TMAH）是一种广泛用于半导体光刻工艺和液晶显示器生产中形成酸性光阻的基本溶剂，因此对TMAH纯度的检测变得越来越重要。由于具有快速测定各种工艺化学品中超痕量浓度待测元素的能力，电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）已成为了质量控制不可缺少的分析工具。然而，解决由基体带来的多原子干扰和由于含有碳造成的基体YZ效应是非常重要的。本应用报告证明了NexION?300SICP-MS去除干扰，从而在使用高温等离子体的条件下通过一次分析就能够对TMAH中全部痕量水平的杂质元素进行测定的能力。[详细]

  2018-08-17 10:00

  产品样册

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  2024-09-14 16:18

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  NexION300S ICP-MS测定半导体行业中使用有机溶剂的杂质[详细]

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  实验操作

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• 采用NexION 2000 ICP-MS分析尿液中的微量元素

  在检测尿液中的微量金属元素时主要需要攻克两大难关：基体产生的多原子离子干扰的存在和用于评估污染物接触的某些元素的含量极低，包括砷（As）、镉（Cd）、汞（Hg）等。PerkinElmerNexION2000ICP质谱仪（ICP-MS）的通用池系统具有标准（Standard）、碰撞（KED）和反应（DRC）三种模式，并具有三个气路，可选择的碰撞/反应气体种类也很丰富，所以NexION2000能够Z有效地排除干扰，准确地测定Zdi的浓度水平。[详细]

  2018-08-17 10:00

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  2024-09-14 06:17

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