NexION 300S ICP-MS测定半导体级TMAH中的杂质

本文由 美国perkinelmer有限公司 整理汇编

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• NexION 300S ICP-MS测定半导体级TMAH中的杂质

  NexION 300S ICP-MS测定半导体级TMAH中的杂质[详细]

  2013-07-17 00:00

  其它

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• NexION 300S 测定半导体级TMAH中的杂质

  四甲基氢氧化铵（TMAH）是一种广泛用于半导体光刻工艺和液晶显示器生产中形成酸性光阻的基本溶剂，因此对TMAH纯度的检测变得越来越重要。由于具有快速测定各种工艺化学品中超痕量浓度待测元素的能力，电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）已成为了质量控制不可缺少的分析工具。然而，解决由基体带来的多原子干扰和由于含有碳造成的基体YZ效应是非常重要的。本应用报告证明了NexION?300SICP-MS去除干扰，从而在使用高温等离子体的条件下通过一次分析就能够对TMAH中全部痕量水平的杂质元素进行测定的能力。[详细]

  2018-08-17 10:00

  产品样册

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• NexION 300S ICP-MS测定半导体级硝酸中的杂质

  NexION 300S ICP-MS测定半导体级硝酸中的杂质[详细]

  2024-09-12 18:28

  操作手册

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• NexION 300S ICP-MS测定半导体级硫酸中的杂质

  NexION 300S ICP-MS测定半导体级硫酸中的杂质[详细]

  2024-09-15 17:52

  期刊论文

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• NexION 300S ICP-MS测定硅晶片中的杂质

  NexION 300S ICP-MS测定硅晶片中的杂质[详细]

  2013-07-17 00:00

  操作手册

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• NexION 300S ICP-MS 对光刻胶中的Si的分析

  使用ICP、ICP-MS分析时存在光学干扰，而仪器的结构又决定了Si的检出限比其他元素更高，所以为了分析低浓度的Si，必须去除光学干扰或更换仪器进样系统 ( 雾室、雾化器、ZX管、炬管 )。 本实验的目的是利用NexION 的 DRC模式确定分析Si的**条件。 [详细]

  2024-09-14 16:18

  应用文章

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• 动态反应池-ICP-MS分析半导体级盐酸中杂质

  动态反应池-ICP-MS分析半导体级盐酸中杂质[详细]

  2013-08-06 00:00

  选购指南

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• NexION300S ICP-MS测定半导体行业中使用有机溶剂的杂质

  NexION300S ICP-MS测定半导体行业中使用有机溶剂的杂质[详细]

  2024-10-05 12:26

  实验操作

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• 使用动态反应池型的ICPMS分析半导体级TMAH的应用报告

  使用动态反应池型的ICPMS分析半导体级TMAH的应用报告[详细]

  2024-09-29 14:00

  报价单

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• 利用ICP-MS对半导体级盐酸中的杂质进行分析

  在半导体设备的生产过程中，许多流程中都要用到各种酸类试剂。其中Z重要的是盐酸（HCl），其主要用途是与过氧化氢和水配制成混合物用来清洁硅晶片的表面。由于半导体设备尺寸不断缩小，其生产中使用的试剂纯度变得越来越重要，这是因为即使是少量杂质也会导致设备的失效。国际SEMI标准规定的是金属杂质的Zda浓度（SEMI标准C27-07081用于盐酸），而半导体设备的生产商对杂质浓度的要求往往更加严格，这样就给试剂供应商带来了更大的挑战。其结果是，分析仪器也必须能够对更低浓度的杂质成分极ng确检测。电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）具备极ng确测定纳克/升（ng/L，PPT）甚至更低浓度元素含量的能力，是Z适合测量痕量及超痕量金属的技术。然而，常规的测定条件下，氩、氧、氢离子会与酸基体相结合，对待测元素产生多原子离子干扰。[详细]

  2018-08-17 10:00

  产品样册

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• 利用NexION 2000 对半导体级盐酸中的杂质进行分析

  电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）具备极ng确测定纳克/升（ng/L，PPT）甚至更低浓度元素含量的能力，是Z适合测量痕量及超痕量金属的技术。然而，常规的测定条件下，氩、氧、氢离子会与酸基体相结合，对待测元素产生多原子离子干扰。[详细]

  2018-08-17 10:00

  产品样册

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• NexION300S测定半导体行业中使用有机溶剂的杂质

  半导体行业中Z常用的两种有机溶剂是异丙醇（IPA）和丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA）。两种有机溶剂都必须检测痕量金属污染物的含量，因为这些物质的存在将会对存储设备的可靠性产生不利影响。由于具有快速测定各种工艺化学品中超痕量浓度待测元素的能力，电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）已成为了质量控制不可缺少的分析工具。本应用报告证明了NexION300ICP-MS去除干扰，从而在使用高温等离子体的条件下通过一次分析就能够很容易的对IPA和PGMEA中全部痕量水平的杂质元素进行测定的能力。这一实验在一次测定中同时使用标准模式和反应模式可以得到**的分析结果。[详细]

  2018-08-17 10:00

  产品样册

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• 使用NexION 5000 ICP-MS直接测定高纯氧化钕中的稀土杂质 Application Note (706124_CHN _01)

  使用NexION 5000 ICP-MS直接测定高纯氧化钕中的稀土杂质 Application Note (706124_CHN _01)[详细]

  2024-09-12 16:02

  应用文章

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• ICP-MS 用于NexION ICP-MS的全基体进样系统 (AMS)

  ICP-MS 用于NexION ICP-MS的全基体进样系统 (AMS) [详细]

  2020-07-17 14:16

  应用文章

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• ICP-MS 用于NexION ICP-MS的全基体进样系统 (AMS)

  ICP-MS 用于NexION ICP-MS的全基体进样系统 (AMS) [详细]

  2024-09-10 22:38

  应用文章

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• 采用NexION 2000 ICP-MS分析尿液中的微量元素

  在检测尿液中的微量金属元素时主要需要攻克两大难关：基体产生的多原子离子干扰的存在和用于评估污染物接触的某些元素的含量极低，包括砷（As）、镉（Cd）、汞（Hg）等。PerkinElmerNexION2000ICP质谱仪（ICP-MS）的通用池系统具有标准（Standard）、碰撞（KED）和反应（DRC）三种模式，并具有三个气路，可选择的碰撞/反应气体种类也很丰富，所以NexION2000能够Z有效地排除干扰，准确地测定Zdi的浓度水平。[详细]

  2018-08-17 10:00

  产品样册

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• NexION 5000 ICP-MS在血液分析中的应用

  NexION 5000 ICP-MS在血液分析中的应用 [详细]

  2020-07-17 14:08

  应用文章

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• NexION 5000 ICP-MS在血液分析中的应用

  NexION 5000 ICP-MS在血液分析中的应用 [详细]

  2020-07-17 14:08

  应用文章

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• NexION 5000 ICP-MS在超纯水分析中的应用

  NexION 5000 ICP-MS在超纯水分析中的应用[详细]

  2024-09-13 05:07

  应用文章

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• 使用NexION 5000 ICP-MS直接测定高纯氧化钆中的稀土杂质 Application Note (745526 (705300)_CHN _01)

  使用NexION 5000 ICP-MS直接测定高纯氧化钆中的稀土杂质 Application Note (745526 (705300)_CHN _01)[详细]

  2024-09-14 06:17

  应用文章

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