动态反应池-ICP-MS分析半导体级盐酸中杂质

本文由 美国perkinelmer有限公司 整理汇编

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• 动态反应池-ICP-MS分析半导体级盐酸中杂质

  动态反应池-ICP-MS分析半导体级盐酸中杂质[详细]

  2013-08-06 00:00

  选购指南

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• 使用动态反应池型的ICPMS分析半导体级TMAH的应用报告

  使用动态反应池型的ICPMS分析半导体级TMAH的应用报告[详细]

  2024-09-29 14:00

  报价单

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• 利用ICP-MS对半导体级盐酸中的杂质进行分析

  在半导体设备的生产过程中，许多流程中都要用到各种酸类试剂。其中Z重要的是盐酸（HCl），其主要用途是与过氧化氢和水配制成混合物用来清洁硅晶片的表面。由于半导体设备尺寸不断缩小，其生产中使用的试剂纯度变得越来越重要，这是因为即使是少量杂质也会导致设备的失效。国际SEMI标准规定的是金属杂质的Zda浓度（SEMI标准C27-07081用于盐酸），而半导体设备的生产商对杂质浓度的要求往往更加严格，这样就给试剂供应商带来了更大的挑战。其结果是，分析仪器也必须能够对更低浓度的杂质成分极ng确检测。电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）具备极ng确测定纳克/升（ng/L，PPT）甚至更低浓度元素含量的能力，是Z适合测量痕量及超痕量金属的技术。然而，常规的测定条件下，氩、氧、氢离子会与酸基体相结合，对待测元素产生多原子离子干扰。[详细]

  2018-08-17 10:00

  产品样册

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• NexION 300S ICP-MS测定半导体级TMAH中的杂质

  NexION 300S ICP-MS测定半导体级TMAH中的杂质[详细]

  2013-07-17 00:00

  其它

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• NexION 300S ICP-MS测定半导体级硝酸中的杂质

  NexION 300S ICP-MS测定半导体级硝酸中的杂质[详细]

  2024-09-12 18:28

  操作手册

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• NexION 300S ICP-MS测定半导体级硫酸中的杂质

  NexION 300S ICP-MS测定半导体级硫酸中的杂质[详细]

  2024-09-15 17:52

  期刊论文

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• 利用动态反应池电感耦合等离子体质谱仪分析硝酸中不纯物

  利用动态反应池电感耦合等离子体质谱仪分析硝酸中不纯物[详细]

  2013-08-12 00:00

  选购指南

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• NexION 300S 测定半导体级TMAH中的杂质

  四甲基氢氧化铵（TMAH）是一种广泛用于半导体光刻工艺和液晶显示器生产中形成酸性光阻的基本溶剂，因此对TMAH纯度的检测变得越来越重要。由于具有快速测定各种工艺化学品中超痕量浓度待测元素的能力，电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）已成为了质量控制不可缺少的分析工具。然而，解决由基体带来的多原子干扰和由于含有碳造成的基体YZ效应是非常重要的。本应用报告证明了NexION?300SICP-MS去除干扰，从而在使用高温等离子体的条件下通过一次分析就能够对TMAH中全部痕量水平的杂质元素进行测定的能力。[详细]

  2018-08-17 10:00

  产品样册

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• 动态反应池ICPMS测定超纯水中的痕量元素

  动态反应池ICPMS测定超纯水中的痕量元素[详细]

  2024-09-29 06:17

  产品样册

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• NexION300S ICP-MS测定半导体行业中使用有机溶剂的杂质

  NexION300S ICP-MS测定半导体行业中使用有机溶剂的杂质[详细]

  2024-10-05 12:26

  实验操作

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• 利用NexION 2000 对半导体级盐酸中的杂质进行分析

  电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）具备极ng确测定纳克/升（ng/L，PPT）甚至更低浓度元素含量的能力，是Z适合测量痕量及超痕量金属的技术。然而，常规的测定条件下，氩、氧、氢离子会与酸基体相结合，对待测元素产生多原子离子干扰。[详细]

  2018-08-17 10:00

  产品样册

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• 动态反应池等离子体质谱法测定天然物料中痕量AlAsCrF

  动态反应池等离子体质谱法测定天然物料中痕量AlAsCrF[详细]

  2013-08-06 00:00

  产品样册

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• 利用 NexION 1000 ICP-MS 的通用碰撞 / 反应池技术分析饮用水中微量元素

  饮用水的主要来源包括河流、湖泊和地下水。由于地质情况和供水区域的人类活动不同，这些水体中的元素浓度差异很大 1。随着这些区域内的城镇化、工业化、矿业以及农业的发展，人们对监控饮用水中有害成分的需求正变得越来越强烈。许多国家已经制定了生活用水和饮用水必须达到的严格标准（表 1）2-9。这些标准要求分析仪器必须能够达到检测下限，确保准确、极ng确定量微量元素浓度。 [详细]

  2024-09-12 18:28

  应用文章

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• 利用蛋壳里ICP-MS在反应模式下测定半导体有机溶剂中的含铁纳米颗粒

  利用蛋壳里ICP-MS在反应模式下测定半导体有机溶剂中的含铁纳米颗粒[详细]

  2016-08-24 00:00

  实验操作

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• NexION 300S ICP-MS测定硅晶片中的杂质

  NexION 300S ICP-MS测定硅晶片中的杂质[详细]

  2013-07-17 00:00

  操作手册

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• NexION300S测定半导体行业中使用有机溶剂的杂质

  半导体行业中Z常用的两种有机溶剂是异丙醇（IPA）和丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA）。两种有机溶剂都必须检测痕量金属污染物的含量，因为这些物质的存在将会对存储设备的可靠性产生不利影响。由于具有快速测定各种工艺化学品中超痕量浓度待测元素的能力，电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）已成为了质量控制不可缺少的分析工具。本应用报告证明了NexION300ICP-MS去除干扰，从而在使用高温等离子体的条件下通过一次分析就能够很容易的对IPA和PGMEA中全部痕量水平的杂质元素进行测定的能力。这一实验在一次测定中同时使用标准模式和反应模式可以得到**的分析结果。[详细]

  2018-08-17 10:00

  产品样册

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• 茶碱中杂质分析

  茶碱中杂质分析[详细]

  2024-10-06 08:16

  标准

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• 双GC系统对燃料电池反应池废气进行同步分析

  双GC系统对燃料电池反应池废气进行同步分析[详细]

  2014-05-19 00:00

  应用文章

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• 盐酸氨溴索杂质

  盐酸氨溴索杂质[详细]

  2024-09-14 05:36

  选购指南

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• AN 43325-采用 Thermo Scientific iCAP RQ ICP-MS 分析药物产品中杂质元素

  AN 43325-采用 Thermo Scientific iCAP RQ ICP-MS 分析药物产品中杂质元素[详细]

  2018-09-20 15:22

  应用文章

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