利用NexION 2000 对半导体级盐酸中的杂质进行分析

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• 利用NexION 2000 对半导体级盐酸中的杂质进行分析

  电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）具备极ng确测定纳克/升（ng/L，PPT）甚至更低浓度元素含量的能力，是Z适合测量痕量及超痕量金属的技术。然而，常规的测定条件下，氩、氧、氢离子会与酸基体相结合，对待测元素产生多原子离子干扰。[详细]

  2018-08-17 10:00

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• 利用ICP-MS对半导体级盐酸中的杂质进行分析

  在半导体设备的生产过程中，许多流程中都要用到各种酸类试剂。其中Z重要的是盐酸（HCl），其主要用途是与过氧化氢和水配制成混合物用来清洁硅晶片的表面。由于半导体设备尺寸不断缩小，其生产中使用的试剂纯度变得越来越重要，这是因为即使是少量杂质也会导致设备的失效。国际SEMI标准规定的是金属杂质的Zda浓度（SEMI标准C27-07081用于盐酸），而半导体设备的生产商对杂质浓度的要求往往更加严格，这样就给试剂供应商带来了更大的挑战。其结果是，分析仪器也必须能够对更低浓度的杂质成分极ng确检测。电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）具备极ng确测定纳克/升（ng/L，PPT）甚至更低浓度元素含量的能力，是Z适合测量痕量及超痕量金属的技术。然而，常规的测定条件下，氩、氧、氢离子会与酸基体相结合，对待测元素产生多原子离子干扰。[详细]

  2018-08-17 10:00

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• NexION 300S 测定半导体级TMAH中的杂质

  四甲基氢氧化铵（TMAH）是一种广泛用于半导体光刻工艺和液晶显示器生产中形成酸性光阻的基本溶剂，因此对TMAH纯度的检测变得越来越重要。由于具有快速测定各种工艺化学品中超痕量浓度待测元素的能力，电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）已成为了质量控制不可缺少的分析工具。然而，解决由基体带来的多原子干扰和由于含有碳造成的基体YZ效应是非常重要的。本应用报告证明了NexION?300SICP-MS去除干扰，从而在使用高温等离子体的条件下通过一次分析就能够对TMAH中全部痕量水平的杂质元素进行测定的能力。[详细]

  2018-08-17 10:00

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• NexION 300S ICP-MS测定半导体级TMAH中的杂质

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  操作手册

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• NexION 300S ICP-MS测定半导体级硫酸中的杂质

  NexION 300S ICP-MS测定半导体级硫酸中的杂质[详细]

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  应用文章

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  在检测尿液中的微量金属元素时主要需要攻克两大难关：基体产生的多原子离子干扰的存在和用于评估污染物接触的某些元素的含量极低，包括砷（As）、镉（Cd）、汞（Hg）等。PerkinElmerNexION2000ICP质谱仪（ICP-MS）的通用池系统具有标准（Standard）、碰撞（KED）和反应（DRC）三种模式，并具有三个气路，可选择的碰撞/反应气体种类也很丰富，所以NexION2000能够Z有效地排除干扰，准确地测定Zdi的浓度水平。[详细]

  2018-08-17 10:00

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• NexION 300S ICP-MS测定硅晶片中的杂质

  NexION 300S ICP-MS测定硅晶片中的杂质[详细]

  2013-07-17 00:00

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  2018-08-17 10:00

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  2018-08-17 10:00

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• 利用 AAS 对饮用水样中铯进行分析

  采用 Perkinelmer 公司的 PinAAcle 900T AAS，可对饮用水样 中的 Cs 进行测定，灵敏度高，稳定性好，加标回收率稳定。Cs 容易挥发，配置标准储备液时一定要带酸基质，建议采用 0.5% 的硝酸以确保标准溶液的稳定性。此外，采用 0.2%（V/ V）硫酸作为基体改进剂可改善峰形，提高测量的重现性。[详细]

  2024-09-19 19:56

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