化学气相沉积技术指标和应用

化学气相沉积为一种化工技术，在衬底表面上含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质进行化学反应使得薄膜生成为该技术的主要方法。近几十年化学气相淀积这种对无机材料进行制备的新技术发展了起来。化学气相淀积法已经在各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料的淀积，新晶体的研制以及物质的提纯方便得到了非常广泛地应用。这些材料既能够是碳化物、氮化物、硫化物、氧化物也能够为III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素间化合物，并且能够利用气相掺杂的淀积过程来对它们的物理功能进行精确地控制。化学气相淀积已经变成无机合成化学的一个新领域。

化学气相沉积技术指标

气体控制系统

SiCl4、GeCl4、POCl3、BCL3 4个鼓泡瓶单元；控制计算机、控制软件、PLC、其他必需的控制组件；管道加热装置、其他必需的管道、控制等组件以及设备内气体管道、阀门和相应的质量流量计均包含于气体控制系统中。

MCVD机械控制系统

尾灯、校管工具、旋转密封接头、手灯、预制棒压力控制系统、主灯火焰抽风罩、红外高温探测仪、SOOT自动去除系统、载台速度好位置的高精度编码定位控制系统、水冷不锈钢N2气调节火焰形状主灯、机架、石英管卡盘、载台移动和卡盘旋转的DC伺服控制马达均包含于MCVD机械控制系统中。

化学气相沉积技术应用

大量功能各异的无机新材料为现代科学和技术所需要，高纯为这些功能材料的必要条件，或者将某种杂质形成的掺杂材料有意地掺入到高纯材料中。然而如高温熔炼、水溶液中沉淀和结晶等我们过去所熟悉的许多制备方法对于上述要求无法满足，对于高纯度的产品的得到也很难保证。所以，现代材料科学中的主要课题即为无机新材料的合成。