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快来解锁引线框架工艺品控新助手!

来源:赛默飞化学分析仪器 更新时间:2023-09-08 11:41:27 阅读量:122
导读:快!准!全!ARL QUANT\x26#39;X满足您的高标准分析需求

引线框架是半导体封装的基础材料,是集成电路的芯片载体,借助于键合焊丝(金丝、铝丝、铜丝)实现芯片内部电路引出端与外引线的电气连接,形成电气回路的关键结构件,起到和外部导线连接的桥梁作用。

引线框架在生产环节,需要对电镀液的成分含量进行测定,这既是为了保证电镀质量达到工艺要求,也是为了合理使用电镀用的贵金属,控制生产成本。因此,电镀液的快速准确检测,对提高生产效率和降低成本至关重要。

作为国际领先的X射线分析仪器生产厂家,赛默飞世尔科技的高端ARL QUANT'X X射线荧光光谱仪,不仅在硬件配置上性能优异,而且对于“引线框架电镀液成分检测”的要求,开发了有针对性的解决方案,并在引线框架行业的头部企业中得到了应用和认可。针对不同客户的电镀液配方,ARL QUANT'X X射线荧光光谱仪能够生成相应的分析检测方案。在空气分析环境中,它可以在短时间内(通常10-30秒)快速分析出电镀液中贵金属元素的含量,且检测结果准确稳定,可以克服镀缸中随时加入药剂引起的基体波动,满足半导体引线框架行业的高标准分析需求。


1

标准配置可涵盖F~ U 元素范围, 选配可拓展至C~U元素范围

2


可优化不同能量段元素的采谱条件,以保证不同类型样品的分析结果精确性,一次采谱可选择多达9 种的分析条件、可分别或同时设置,并可同时定量分析多达48 种元素


3

三种分析环境模式(空气、真空、氦气),从而确保各类样品(无论液体、松散粉末或固体)均可实现Z佳轻元素分析


4

分析元素的浓度范围: ppm~100%



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X 射线系统

X 光管采用先进的端窗发射管,Z 大限度地提高了X-射线的发射强度(相较侧窗发射提高10% 的强度)

高压电源采用数字控制系统,仅在采谱时激发光管(不采谱则不激发),从而有效提高X-光管的使用寿命,并保证了分析数据长期稳定(相较持续激发光管的方式,可延长X-光管使用寿命4-6 倍)

探测器系统

优异的分辨率不仅提高了对于轻元素的检测能力,而且降低了元素谱线重叠对检测造成的干扰(Mn、Ka 分辨率优于 140eV)

6 级电制冷技术可以使探测器快速进入稳定状态(开机后2 分钟即可执行测样),并且能够保持探测器晶体的温度稳定,确保了探测的长期稳定性

超大面积的晶体活性尺寸(>30mm2)确保了元素分析范围的宽度,超出常规的晶体厚度 (1mm)使得针对痕量重元素的探测具有优异的灵敏度

采用先进的全数字脉冲处理器技术,大幅度提高信号采集效率,有效降低本底噪声,提高痕量元素的检出能力

10 位和20位的自动进样器可批量分析标准的液体样,减少人工操作,提省检测效率。支持样液体品杯、粉末压片、气溶胶和滤膜

定量分析功能

采用UniQuant 无标样分析专 利技术,在少标样和完全无标样的情况下,仍然可以出色完成对于复杂多样类型样品的定量分析


应用案例展示

使用赛默飞Z 新型号的ARL QUANT'X EDXRF,在空气条件下即可建立各种电镀液的分析方法。

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优异的曲线线性度

Ni、Au、高浓度Ag、低浓度Ag和Pd元素的工作曲线情况如下

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良好的结果一致性


从生产线随机取不同时间段的Ni、Au、高浓度Ag、低浓度Ag和Pd电镀液,分别在ICP和QUANT'X上进行测试。得到表1~5中的结果对比表。结果显示EDXRF测试值和ICP测试值一致性非常好。

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稳定的检测重复性


表6~10为Ni、Au、Ag、Pd电镀液的稳定性测试结果表。结果显示EDXRF测试各种电镀液的稳定性极 佳。

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