
紫外臭氧清洗机原理:
通过紫外灯发出适当强度的 185nm 和 254nm 波长高能紫外线破坏有物分子 ( 污染物 )。185nm 波长紫外光的光能 量能将空气中的氧气 (O2) 分解成臭氧 (O3),而 254nm 波长的紫外光的光能量能将 O3 分解成 O2 和原子氧 (O), 254 nm 紫外线同时激发表面的有机物分子,提高其敏感性,可以被臭氧分子团破坏。在连续进行的光敏氧化反应中,生成的 活性原子氧 (O) 与活化了的有机物 ( 即碳氢化合物 ) 分子发生氧化反应,生成挥发性气体 ( 如 CO2,CO, H2O,NO 等 ) 逸 出材料表面,从而清除粘附在材料表面上的碳和有机污染物,达到清洗的目的。



产品特点
◆ UVO 基础型系列采用可编程数字控制器,设置操作简单方便,四键操作控制。UVOP、UVOT 系列采用 5 寸彩色触摸屏 中英文互动操作界面,设置显示计时时间及加热温度。
◆ 自动补偿功能,自动恒定光强光密度,不会因为低压汞灯老化光强衰减影响清洗效果。
◆ 数字倒计显示清洗时间,1-999 分钟之间可自行设置清洗时间。
◆ 任何时间可以手动中断处理过程。
◆ 自动记录之前清洗参数设置。
◆ 样品台可控温(可选),控温范围 RT-200℃,控温精度 0.1℃。
◆ 顶置下压式铰链开关盖方式,操作简单方便。
◆ 上置式样品台设计,360 度自由放置样品,操作方便。
◆ 样品台高度可调,通过调节灯与样品之间的间距,可以合理定位样品高度和位置,并可锁定。
◆ UV 石英低压汞蒸汽格栅灯,灯管寿命大约为 8000 小时。
◆ 高强度 UV 灯源,波长 185nm 和 254nm。
◆ 可累计计时 UV 格栅灯使用时长,更换提示。
◆ UV 反射罩(长 X 宽)比 UV 格栅灯大 25mm。
◆ 双重安全保护,带有安全锁,当清洗腔打开时,系统自动关掉 UV 灯,并有灯光通断提示。
◆ 带进 & 出气口双气路设计。
◆ 可接入氧气或者臭氧,增加臭氧产量。
◆ UVO5 可选外置臭氧中和器,UVO9、UVO13 系列可选外置或者内置臭氧中和器,用于臭氧清除。
◆ 可根据客户要求定制铝或石英材料真空反应腔。
技术参数
产品型号 | UVO5/UVO5P/UVO5T | UVO9/UVO9P/UVO9T | UVO13/UVO13P/UVO13T |
UV 灯尺寸 | 130x130mm | 230x230mm | 330x330mm |
样品台高度 | 0-50mm 可调 | 0-50mm 可调 | 0-50mm 可调 |
电 源 | AC220V 50/60Hz 140/190/690W | AC220V 50/60Hz 140/190/690W | AC220V 50/60Hz 140/190/1160W |
外型尺寸 | L260xW320xH200mm | L370xW470xH200mm | L465xW575xH200mm |
包装尺寸 | L375xW470xH390mm | L490xW600xH320mm | L575xW680xH320mm |
整机重量 | 8kg | 15kg | 18kg |
注: UVO 型基础型样品台不带加热功能,样品台高度可调; UVOP 可选配样品台加热功能,样品台高度可调; UVOT 标配 样品台加热功能,样品台高度可调。可选臭氧中和装置。
报价:面议
已咨询2589次CIF紫外臭氧清洗机
报价:面议
已咨询971次CIF紫外臭氧清洗机
报价:面议
已咨询244次等离子表面处理仪
报价:面议
已咨询717次CIF紫外臭氧清洗机
报价:面议
已咨询402次紫外臭氧清洗
报价:面议
已咨询3727次美国bioforce公司
报价:面议
已咨询1038次紫外线UV清洗光源设备
报价:面议
已咨询2497次英国Ossila公司
电子增材打印设备是一种先进的增材制造设备,主要应用于显示、半导体封装、新能源锂电等行业,可打印具有电子功能的微纳米级特征结构,被视为增材制造领域的下一个前沿。「西湖未来智造」通用型电子增材打印平台,采用微纳墨水直写(DIW)增材打印技术,结合独创自研纳米级墨水材料,实现最小具有1~10 um特征尺寸的高性能金属导电材料、聚合物及复合介质材料的三维增材制造,可用于打印精密互联线路、微波天线、无源器件
提供了一种方便的方法来创建纳米模式,而无需使用缓慢且昂贵的光掩膜。这对于研究和快速原型设计特别有用。
紫外臭氧清洗机(UVOzone Cleaner, UVO),是一种简单,经济,快速高效的材料表面清洗设备,能快速去除大多数无机基材(比如石英,硅片,金,镍,铝,砷化镓,氧化铝等)表面上的有机污染物。
CIF专为处理粉体如粉状、颗粒状材料样品而设计的粉体专用等离子清洗机,可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材料,改变传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题。
CIF 扫描电镜(SEM)等离子清洗机采用远程等离子清洗源 设计,清洗快速、高效、低轰击损伤,主要用于 SEM 或 FIB 等腔 体内碳氢化合物的清洗。
CIF 透射电镜(TEM)样品杆清洗机采用远程离子清洗源 设计,清洗快速高效, 低轰击损伤, 同时可实现常规等离子清洗。 主要用于 TEM透射电镜样品杆的等离子体清洗和真空检漏。
CIF 推出的旋涂机系列产品转速稳定、启动迅速,旋涂均匀,操作简单,结构紧凑实用,为实验室提供了理想的解决方案。
CIF烤胶机是一种控温加热 设备。主要用于半导体硅片, 载玻片,晶片,基片,ITO 导 电玻璃等工艺的制版的表面涂 覆后薄膜烘干、固化。