立式炉管清洗机定制_苏州芯矽

立式炉管清洗机专为半导体、光伏、光学镀膜等领域设计，用于高效清洗石英炉管、石英舟、硅片承载器等关键部件。采用垂直结构设计，结合化学湿法清洗与物理清洗技术，可快速去除炉管表面的颗粒物、氧化物、残留化学品及微小污染物，确保生产工艺的洁净度与稳定性。

一、核心技术特点

多模式清洗组合

DIW喷淋清洗：高压去离子水（DIW）冲刷，快速剥离表面颗粒。

超声波空化清洗：通过高频振动分解顽固杂质，提升清洗均匀性。

化学循环清洗：兼容酸液（如HF、HNO₃）或碱液，去除金属残留与氧化层。

智能化控制系统

PLC触摸屏操作：支持自动化流程设定（时间、温度、流速等），实时监控清洗状态。

数据追溯功能：记录清洗参数，满足半导体行业洁净度追溯要求（如ISO 1-5级）。

耐腐蚀材质与结构

主体材质：PP/PVC防腐内槽 + 不锈钢骨架，适应强酸/碱环境，延长设备寿命。

模块化设计：可拆卸喷嘴、滤网及管路，便于维护与更换。

安全与环保设计

安全防护：配备EMO急停按钮、漏电保护、气体排放过滤系统，防止化学泄漏。

节能工艺：封闭式清洗腔体，减少化学品挥发；DIW循环利用，降低资源消耗。

二、定制化服务

炉管兼容性：支持定制直径（50-300mm）、长度（500-2000mm）及异形结构（如弯管、扩口型）。

清洗工艺适配：根据污染物类型（如抛光液残留、氧化膜）调整超声波频率、化学配比及喷淋角度。

洁净度升级：可选配在线颗粒检测（LPC）、烘干模块及洁净空气吹扫功能。

三、应用领域

半导体制造：清洗扩散炉、氧化炉石英炉管，避免颗粒污染芯片。

光伏行业：处理多晶硅/单晶硅生长炉管，提升硅片良品率。

光学镀膜：清洁真空镀膜机炉腔，防止光学元件表面缺陷。

科研实验：高精度清洗实验室级石英器件，保障实验数据准确性。