高速版-Speed 无掩模光刻机

托托科技推出的无掩模光刻机，以其革命性的技术革新，为微电子、集成电路等制造领域带来了灵活性和效率。无论是在科学研究、定制化生产、快速原型制造，还是在电子器件、生物医药、光学元件、微机械等众多领域，我们的无掩模光刻机都能提供解决方案。

激光直写光刻技术与DMD无掩模光刻技术

激光直写技术通过激光束直接在材料表面进行高精度加工，而DMD无掩模技术通过数字微镜阵列投影光束进行图案化加工，适用于大面积光刻。

DMD无掩模光刻技术路线介绍

基本原理：DMD技术利用数字微镜装置（Digital Micromirror Device）来控制微镜的角度，从而通过投影系统在材料表面快速形成图像或光刻图案 。这些微镜根据电信号的控制会精确调节反射角度，将激光或光源投射到特定位置。

系统组成：基于DMD的无掩模光刻系统通常由光源模组、匀光模组、DMD模组、投影模组、运动台模组和软件等几大部分构成，这些模组高效的协同工作，实现了高分辨率图案的快速无掩模光刻。

工作流程：上位机的发送图形数据到DMD模组，DMD显示对应的图形，经由DMD反射的光携带着图形信息，并经过一系列光学元件后照射到基片上，实现了图形的转移。高精度运动平台的协同工作，确保不同曝光区域的拼接实现大型、复杂图案的动态曝光。

高速版-Speed 无掩模光刻机

更快的加工速度、更强的设备性能，适用于小批量生产制造

●8 英寸加工幅面

●最小特征尺寸可达0.5 μm

●扫描式光刻