日本理音(RION)便携式VA-12振动分析仪
SiC/中束流离子注入/ FLEXion 200/400
美国KPM 在线近红外分析仪Guardian-HD基础型
赛可SEC 在线式X-RAY检测设备 6300AXI
赛可（SEC）X-RAY检测设备X-eye 5000N
PULSION离子注入机技术指标
优势：3D浸没式全方位离子注入，不受形状、大小、表面状态限制;可靠性高，气体消耗量低，易于维护，成本低;独特的脉冲等离子体配置和偏振技术，所需能量低，电流输入输出能力高，工艺稳定性高，可以实现保形处理;能够以较小的占地面积处理大型部件;工艺时间短:工艺时间与待注入的机械部件的大小无关，即使要求的注入量非常高;可按照用户要求定制;有全自动、工程和手动模式，工程和手动模式下可人为控制单步骤工艺;工艺可编辑，参数可监测、控制和记录，可查看报警历史。
原理：把要处理的部件放在真空室中的夹具上，并完全浸入待注入离子电离形成的高密度等离子体中。当夹具在脉冲电压模式下被偏置到负电压时，开始注入。
应用：改善表面机械性能，减少磨损、摩擦力和金属疲劳;提高表面耐腐蚀、耐化学、耐高温性能;改变表面理化性能如表面能、粘附性等;
提高生物相容性;逸出功工程;加氢，吸气;
用于高级存储器和硅基光电学的纳米沉淀和纳米结构
加速电压：1 kV-10kV
标准注入电流：5 mA-100 mA (N2)
标准注入时间：30 min -3 h
可注入选项：N，C,O, Ar, H, He, F, Ge, Si...
注入部件尺寸：<400 mmx400 mmx200 mm
辐射：在任意外部屏蔽点10cm处，辐射值<0.6μSv/h1
注入剂量范围：1xE14 at/cm2至1xE18 at/cm2
腔室idle气压：<5xE-6 mbar
设备尺寸：1.6x2.15x2.3m(标准型);2.15x2.15x2.3m(加大型)
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PMMA 光刻胶是学术界和工业界广泛使用的行业标准正性电子束光刻胶，适用于高分辨率特征和剥离工艺。它也可用于纳米压印应用，以及石墨烯薄片转移等其他晶圆厂和研发工艺。P(MMA-MAA) 共聚物光刻胶可与 PMMA 配合使用，用于 T 型栅极等双层光刻胶工艺。它也可单独用作高灵敏度正性光刻胶。
产品介绍 什么是 V-ITEX V-ITEX 是一种先进的微萃取方法，它基于经典的管内萃取 (ITEX) 硬件，但在萃取过程中引入了减压（真空）条件。想象一下，在真空环境下，样品中的挥发性物质更容易“逃逸”到气相中，从而被更高效地捕获和分析！ V-ITEX 的核心优势 超高萃取效率与灵敏度 与传统的顶空固相微萃取 (HS-SPME) 和经典 HS-ITEX 相比，V-ITEX 能够萃取到高达 450 倍的化合物量！ 这意味着可以检测到更多种类、含量更低的挥发性化合物，显著提升分析的灵敏度和全面性。
1、安东帕服务工程师能够利用专利性 T-Check 系统验证精确的温度测量 2、常规测量可以根据您的 SOP 构建，并预先定义合格/不合格标准。可以配置检查间隔，以根据您的测量设备控制协议，执行系统适用性测试。 3、综合分析仪器和系统验证 (AISQ+) 极大减少了使用新制药用折光仪所需的工作量。它可打印或完全数字化电子签名，从而加快资格审查过程中的审查和批准。
蔡司激光共聚焦显微系统 LSM 990 集多种成像技术于一体的多功能共聚焦系统 [ 产品简介 ] 蔡司激光共聚焦显微系统 LSM 990 集多种显微成像技术与一身，是一款专为生命科学研究而设计的多功能先进共聚焦显微成像系统。该系统采用高灵敏度的检测器和多种激光源，可以轻松实现从微米到数十纳米的多色超分辨三维成像。其出色的分辨率，优异的成像深度及超快的成像速度能够满足多种应用场景需要，为使用者提供优异的灵活性和成像质量。同时，作为综合性的多功能成像平台，LSM 990特殊的光路设计及强大的电子控制系统赋予了其出色的扩展能力。可通过搭载多种功能模块，使其具备双光子成像、超高分辨率成像、
【特点】 1、领先的屏幕截取功能：直接将仪器屏幕上的各种波形图保存为BMP文件，并输出到PC机 2、领先的关机自动保存功能：方便下次开机读取测量的数据 3、240*320彩色TET LED显示屏：更适用于黑暗环境下作业 4、较VA-11S采样点数提高一倍左右，为8192个采样点更精确的了解每一单一频率下的幅值。 5、三种显示方式：振动表，时域谱和FFT分析功能。测量数据保存在存储卡上。 7、附带中文软件方便于PC机上分析，打印报表。
特点 开口部大，提高安全性 还标准装备防止机械、电气事故的机构，如在开口部（开口部扩大，方便样品进出）设置防止误操作的区域传感器等。 细致应对作业需要 搭载容易固定小样品的磁板、日常检查不可或缺的标准试验片等装备。除此之外，在软件方面，也针对以丰富帮助功能等为代表的增强日常操作性进行了极其细微的应对。 追求使用便捷性和安全性 图像 为了更容易使用、更安全地作业，对细节进行了精心考虑，如两侧的大型窗口、LED照明、电源开关的保护盖、前面的透明板可安装拆卸等。 还有固定弯曲印刷电路板的治具、测定时防止样品背面沾水的局部浸水装置等选购件，请随时咨询。
适合科研领域的中小型实验净房与纳米加工的学术研究领域 原位成像和灰度光刻模块的热探针光刻解决方案 NanoFrazor® Scholar特别适合纳米加工研究的学术单位，用于在1D/2D 材料， 例如量子点和纳米数组上制作量子器件的纳米结构，其独特的功能使能够应用任何新材料。 例如，灰度光子学设备、纳米流道结构或用于细胞生长的仿生基质等进阶应用； 通过加热探针对材料进行局部改性，例如化学反应和物理相变。
光学系统上的创新与突破-平行化曝光制程技术制版系统 VPG +大尺寸曝光系统适合用于先进封装，半导体，显示器，彩色滤光片，LED和触摸屏等相关掩膜版制作的应用。 VPG +系统支持所有工业等级数据化格式，并提供Mura优化功能，呈现完美的CD均匀性和分辨率。 VPG + 1400是我们大的系统，特别针对显示器领域和FPD的应用，例如TFT数组和彩色滤光片以及ITO。 VPG + 1400具有高精度的设备架构，分辨率低至1.2 nm的差分干涉仪及先进的Mura校正功能。
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