英国EM Resist PMMA 及共聚物光刻胶
等离子去胶机IoN 100WB-40Q
MicroChem 电子束光刻胶 PMMA
ZEON 电子束光刻胶ZEP530A
MicroChem PMGI & LOR Lift-off光刻胶
PMMA & Copolymer Resists
PMMA 及共聚物光刻胶
PMMA Resist is the industry standard positive tone electron beam resist used across academia and industry for high resolution features and lift-off applications. It can also be used in nanoimprint applications as well as other fab and R&D processes such as graphene flake transfer. P(MMA-MAA) copolymer resists can be used in conjunction with PMMA for bilayer resist applications such as T-gates. It can also be used on its own as a high sensitivity positive tone resist.
PMMA 光刻胶是学术界和工业界广泛使用的行业标准正性电子束光刻胶，适用于高分辨率特征和剥离工艺。它也可用于纳米压印应用，以及石墨烯薄片转移等其他晶圆厂和研发工艺。P(MMA-MAA) 共聚物光刻胶可与 PMMA 配合使用，用于 T 型栅极等双层光刻胶工艺。它也可单独用作高灵敏度正性光刻胶。
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If you are looking for a high resolution resist with good etch resistance, take a look at our SML Resist.
如果您正在寻找高分辨率且蚀刻抗性良好的光刻胶，请查看我们的 SML Resist。
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PMMA 光刻胶是学术界和工业界广泛使用的行业标准正性电子束光刻胶，适用于高分辨率特征和剥离工艺。它也可用于纳米压印应用，以及石墨烯薄片转移等其他晶圆厂和研发工艺。P(MMA-MAA) 共聚物光刻胶可与 PMMA 配合使用，用于 T 型栅极等双层光刻胶工艺。它也可单独用作高灵敏度正性光刻胶。
产品介绍 什么是 V-ITEX V-ITEX 是一种先进的微萃取方法，它基于经典的管内萃取 (ITEX) 硬件，但在萃取过程中引入了减压（真空）条件。想象一下，在真空环境下，样品中的挥发性物质更容易“逃逸”到气相中，从而被更高效地捕获和分析！ V-ITEX 的核心优势 超高萃取效率与灵敏度 与传统的顶空固相微萃取 (HS-SPME) 和经典 HS-ITEX 相比，V-ITEX 能够萃取到高达 450 倍的化合物量！ 这意味着可以检测到更多种类、含量更低的挥发性化合物，显著提升分析的灵敏度和全面性。
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蔡司激光共聚焦显微系统 LSM 990 集多种成像技术于一体的多功能共聚焦系统 [ 产品简介 ] 蔡司激光共聚焦显微系统 LSM 990 集多种显微成像技术与一身，是一款专为生命科学研究而设计的多功能先进共聚焦显微成像系统。该系统采用高灵敏度的检测器和多种激光源，可以轻松实现从微米到数十纳米的多色超分辨三维成像。其出色的分辨率，优异的成像深度及超快的成像速度能够满足多种应用场景需要，为使用者提供优异的灵活性和成像质量。同时，作为综合性的多功能成像平台，LSM 990特殊的光路设计及强大的电子控制系统赋予了其出色的扩展能力。可通过搭载多种功能模块，使其具备双光子成像、超高分辨率成像、
【特点】 1、领先的屏幕截取功能：直接将仪器屏幕上的各种波形图保存为BMP文件，并输出到PC机 2、领先的关机自动保存功能：方便下次开机读取测量的数据 3、240*320彩色TET LED显示屏：更适用于黑暗环境下作业 4、较VA-11S采样点数提高一倍左右，为8192个采样点更精确的了解每一单一频率下的幅值。 5、三种显示方式：振动表，时域谱和FFT分析功能。测量数据保存在存储卡上。 7、附带中文软件方便于PC机上分析，打印报表。
特点 开口部大，提高安全性 还标准装备防止机械、电气事故的机构，如在开口部（开口部扩大，方便样品进出）设置防止误操作的区域传感器等。 细致应对作业需要 搭载容易固定小样品的磁板、日常检查不可或缺的标准试验片等装备。除此之外，在软件方面，也针对以丰富帮助功能等为代表的增强日常操作性进行了极其细微的应对。 追求使用便捷性和安全性 图像 为了更容易使用、更安全地作业，对细节进行了精心考虑，如两侧的大型窗口、LED照明、电源开关的保护盖、前面的透明板可安装拆卸等。 还有固定弯曲印刷电路板的治具、测定时防止样品背面沾水的局部浸水装置等选购件，请随时咨询。
适合科研领域的中小型实验净房与纳米加工的学术研究领域 原位成像和灰度光刻模块的热探针光刻解决方案 NanoFrazor® Scholar特别适合纳米加工研究的学术单位，用于在1D/2D 材料， 例如量子点和纳米数组上制作量子器件的纳米结构，其独特的功能使能够应用任何新材料。 例如，灰度光子学设备、纳米流道结构或用于细胞生长的仿生基质等进阶应用； 通过加热探针对材料进行局部改性，例如化学反应和物理相变。
光学系统上的创新与突破-平行化曝光制程技术制版系统 VPG +大尺寸曝光系统适合用于先进封装，半导体，显示器，彩色滤光片，LED和触摸屏等相关掩膜版制作的应用。 VPG +系统支持所有工业等级数据化格式，并提供Mura优化功能，呈现完美的CD均匀性和分辨率。 VPG + 1400是我们大的系统，特别针对显示器领域和FPD的应用，例如TFT数组和彩色滤光片以及ITO。 VPG + 1400具有高精度的设备架构，分辨率低至1.2 nm的差分干涉仪及先进的Mura校正功能。
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