ASI J200 LA 激光剥蚀进样系统

简介
美国应用光谱公司(AppliedSpectraInc.)专注研究激光剥蚀和光谱分析技术的高技术公司。研发人员均为美国劳伦斯伯克利国家实验室的研究人员。公司总裁RichardRusso博士为美国劳伦斯伯克利国家实验室的ZS科学家，从事激光剥蚀及激光光谱元素分析技术三十多年，创造性的将激光剥蚀技术(LaserAblation,LA)及激光诱导击穿光谱(LaserInducedBreakdownSpectroscopy,LIBS)相融合，研发了J200系列激光剥蚀进样系统及光谱分析系统。
J200纳秒激光剥蚀进样及激光诱导击穿光谱复合系统实现了LIBS与LA-ICP-MS的同时测量，并具备多种测量功能：可测量常量，微量和同位素(与ICP-MS串联)；分析有机元素及轻元素；元素三维空间分布；校正ICP-MS质谱信号。主要用于地质矿物，土壤，植物，合金，新能源材料(例如锂电池材料)，刑侦证据等样品的剥蚀进样及化学成分分析。
J200 LA 激光剥蚀进样系统可与市面上的四级杠质谱仪，飞行时间质谱仪和高分辨质谱仪串联使用。

J200 LA 激光剥蚀进样系统特色
高稳定Q开关,短脉冲Nd:YAG激光 ，可选择多波长<5nsecat213nm ，创新的模组化设，为独立 LA,LIBS,LA-LIBS复合的系统设计 ，因分析需求，提供三种LIBS检测器选择 ，激光剥蚀均匀且一致性的LA系统
自动样品高度调整功能

J200激光剥蚀进样系统采用ASIZL技术：剥蚀导航激光和样品高度自动调整传感器相结合，解决了若样品表面凹凸不平而剥蚀不均、导致元素含量值误差大的问题；激光能量稳定阀确保了到达样品表面的激光能量均匀，使所有采样点的激光烧蚀均匀一致；3-D全自动操作台最大行程可达100mmx100mmx36mm，XY行程分辨率0.2μm，Z行程分辨率0.1μm，优于其它任何同类产品

稳定激光能量的光闸设置

高分辨双CMOS相机系统，可用于宽视野观测样品表面特征应用光谱公司的Flex样品室内置气体模组可优化气流和颗粒清洁能力，满足不同测量要求，先进的微集气管设计，可尽可能的减少排气，防止集结剥蚀颗粒，消除记忆影响。
双通道高精度质量流量控制器和电子控制阀
AxiomLA软件系统
软件可整合控制硬件组件及ICP-MS同pu步操作，轻松实现繁杂的激光采样与分析模式 ，强大的数据分析工具用于繁杂的 LA-ICP-MS串联光谱分析

灵活的分析方法：全分析，夹杂物分析，斑点分析，深度分析和元素分映像
维护成本低

可扩充升级LALIBS复合系统
可扩充升级飞秒LA系统