仪器简介:
台式扫描电镜 JCM-6000 NeoScope经济实惠,补充和发展了光学显微镜和传统扫描电子显微镜。 该NeoScope像数码相机一样操作简单, 在轻松获得大倍数图像的同时,保持着高分辨率和大景深,具有扫描电子显微镜的强大电子光学性能。无论是熟练的电子显微镜操作人员将JCM-6000 NeoScope作为简单的筛选设备, 还是实验室技术人员将JCM-6000 NeoScope作为高分辨率的显微镜来取代光学显微镜,该NeoScope都有助于加快在生命科学、刑事科学取证以及加工材料的缺陷分析方面的研究步伐。该NeoScope在自动对焦、自动衬比和自动亮度控制等基本方面,操作都非常简单。 无需进行涂层或干燥等特殊的样品处理准备。 高真空和低真空两种操作模式以及三种加速电压设置,适用于多种应用领域,所有这些都可在预先设定的方案文件中进行编程
技术参数:
| 放大倍数 | ×10 ×60,000 (二次电子) ×10 ×30,000 (背散射电子) |
|---|---|
| 观察模式 | 高真空模式 / 低真空模式 |
| 电子枪 | 灯丝与韦氏帽集成一体的小型电子枪 ( filament and Wehnelt integrated grid) |
| 加速电 | 15kV / 10kV / 5kV 3档切换 (二次电子) 15kV / 10kV 2档切换 (背散射电子) |
| 样品台 | X-Y轴手动控制 X方向 35mm、Y方向 35mm |
| 最大样品尺寸 | 直径70mm、高度50mm |
| 工作距离 (WD) | 7~53mm |
| 信号检测 | 高真空(二次电子、背散射电子)、低真空(背散射电子) |
| 数据显示/ 显示内容 | 加速电、倍率、微米条、微米值等 |
| 文件格式 | BMP、TIFF、JPEG |
| 图像内存像素 | 640x480像素、1280x960像素 |
| 拍摄条件 | 高速、低速1、低速2 |
| 旋转功能 | 扫描旋转(90°/步、1°/步可选) |
| 图像电位移 | 电位移功能 |
| 图像保存 | 拍摄(扫描)结束后,能自动编号、自动保存文件。 |
| 操作系统 OS | Windows 7 |
| 自动功能 | 自动聚焦、自动消像散 自动衬度/亮度、 自动电子枪对中 |
| 配置 | 主机、电源箱、PCLCD、机械泵 |
| 操作 | 触摸屏、鼠标 |
| 选配件 | 马达驱动倾斜/旋转样品架、能谱仪(EDS) |
| 主机 | 330(W)×490(D)×430mm(H) |
| 输入电源 | 单相AC100V(700VA)、120V(840VA)、220V(880VA)、240V(960VA) 波动±10%以内、接地 |
| 室温 | 15℃~30℃ |
| 湿度 | 60%以下 |
上传人:怡星有限公司STARJOY LIMITED
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S-4800型高分辨场发射扫描电镜(简称S-4800)为日本日立公司于2002年推出的产品。该电镜的电子发射源为冷场,物镜为半浸没式。在高加速电压(15kV)下,S-4800的二次电子图像分辨率为1 nm,这是目前半浸没式冷场发射扫描电镜所能达到的最高水平。该电镜在低加速电压(1kV)下的二次电子图像分辨率为2nm,这有利于观察绝缘或导电性差的样品。S-4800的主要附件为X射线能谱仪。
二手 日立 SEM+EDX 冷场电镜SU8000系列高分辨场发射扫描电镜,其中SU8020不光1kv的分辨率提升到1.3nm,并且在探测器设计上有新的突破,配置了Lower、Up-per和Top三个Everhart-Thornley型探测器,可以接受SE、LA-BSE和HA-BSE多种信号,实现微区的形貌衬度、原子序数衬度、结晶衬度和电位衬度的观测;结合选配的STEM探测器。
日立SU-8010是日立高新技术的SEM的全新品牌,新品牌 "REGULUS系列" 电子光学系统进行了最优化处理,使得着陆电压在1KV时分辨率较前代机型提高了约20%。另外,最适合低加速电压下高分辨观察的冷场电子枪可将样品的细节放大,并获得高质量的图片。最大放大倍率也由之前的100万倍提高到了800万倍。除此之外,为了能更好的应对不同样品的测试和保持并发挥出高性能,还对用户辅助工能进行了强化。
日本电子扫描电镜JSM-IT300型是一款高性能,多功能,多用途的钨灯丝扫描电镜。颠覆性的前卫性外观设计还特别吸引眼球。操作改为触摸屏控制,简单化,从此操作电镜非常只能化。
扫描电子显微镜主要用于观察物体的表面形貌像,除此意外,如果配备能谱分析系统,在进行获得样品表面像的时候,还可以对样品的某个定点位置进行元素的半定量分析。根据EDS分析出的元素比例,进行拟合处理,可以大概的判断出样品是什么类型的样品。
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德Zeiss 电子束直写仪 Sigma SEM,利用曝光抗蚀剂,采用电子束直接曝光,可在各种衬底材料表面直写各种图形,图形结构(Z小线宽为10nm),是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具。广泛应用于纳米器件,光子晶体,低维半导体等前沿领域。
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