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仪器网>产品中心> 武汉迈可诺科技有限公司>原子层沉积系统>原子层沉积AT-610

原子层沉积AT-610

面议 (具体成交价以合同协议为准)
美国ANRIC AT-610 美洲 美国 2026-01-24 06:41:43
售全国 入驻:9年 等级:认证 营业执照已审核
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产品特点:

原子层沉积ALD的应用包括:
1) High-K介电材料 (Al2O3, HfO2, ZrO2, PrAlO, Ta2O5, La2O3);
2)导电门电极 (Ir, Pt, Ru, TiN);
3)金属互联结构 (Cu, WN, TaN,Ru, Ir);
4)催化材料 (Pt, Ir, Co, TiO2, V2O5);
5)纳米结构 (All ALD Material);
6)生物医学涂层 (TiN, ZrN, TiAlN, AlTiN);
7) ALD金属 (Ru, Pd, Ir, Pt, Rh, Co, Cu, Fe, Ni);
8)压电层 (ZnO, AlN, ZnS);
9)透明电学导体 (ZnO:Al, ITO);
10)紫外阻挡层 (ZnO, TiO2);
11) OLED钝化层 (Al2O3);

产品详情:


目前可以沉积的材料包括:

1)氧化物: Al2O3, TiO2, Ta2O5, ZrO2, HfO2, SnO2, ZnO, La2O3, V2O5, SiO2,...

2)氮化物: AlN, TaNx, NbN, TiN, MoN, ZrN, HfN, GaN, ... 

3)氟化物: CaF2, SrF2, ZnF2, ...

4)金属: Pt, Ru, Ir, Pd, Cu, Fe, Co, Ni, ... 

5)碳化物: TiC, NbC, TaC, ... 

6)复合结构材料: AlTiNx, AlTiOx, AlHfOx, SiO2:Al, HfSiOx, ... 

7)硫化物: ZnS, SrS, CaS, PbS, ...

 


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