美国Tergeo-Plus 等离子清洗机

一、Tergeo系列等离子清洗机应用

等离子清洗机清除样品表面的污染物，去除光阻胶：产生表面活性功能组；

清洗提高材料表面亲水性及疏水性，清洗生物芯片、微流控芯片，PDMS；

表面活化：渲染表面的亲水性或疏水性，键合和沉积前的表面预处理

表面聚合：沉积带官能分子团的聚合物，移植聚合物到活化后的材料表面；

表面改性：在材料表面产生官能分子团，高分子材料表面修饰；

去除表面残留微生物，医疗器械的消毒和杀菌；

二、Tergeo系列等离子清洗机的特点

1、13.56MHz高频射频发生器；

2、7英寸触摸屏控制界面，全自动操作；

3、标配75W版本，可选150W版本；

4、系统具有双等离子源。浸入式等离子源用于主动表面处理、光刻胶蚀刻。远程式等离子源用于温和的污染清除以及脆弱易损样品的表面活化。

三、技术参数

1、控制系统

1）操作界面：7英寸电阻触摸屏操作界面，支持多种工作方式。 

2）程序控制：可编程，总共有20个程序，每个程序有3个清洁步骤。

2、反应腔体

1）腔体材质：圆柱形石英玻璃舱；

2）腔体容积：5.6L； 

3）腔体尺寸：内径：160毫米，深度：280毫米。 

3、射频电源 

1）射频频率：13.56MHz；

2）射频功率：标配0~75W；从0瓦到75瓦之间以1瓦间距连续可调，可选0~150W；。

4、等离子源

1）等离子强度探测器实时测量等离子源强度。

2）外置电极设计，高压电极不合等离子接触以避免金属溅射造成的样品污染。

5、气体控制 

1）气路控制：标配一路MFC；可选配三路MFC； 

2）质量流量计可以在0~100sccm之间控制气体流量； 

3）一路(Venting and purging)气体入口用来快速给样品室放气和冲走残余处理气体。