源瓶特点:
1、所有管件采用316L不锈钢,内部经400目机械抛光和电化学抛光,
Ra≦0.25微米;
2、阀门有美国世伟洛克球阀和隔膜阀、日本富士金隔膜阀和韩国TK
隔膜阀供选择;
3、密封垫片选用纯银镀镍垫片;
4、氦质谱检测泄漏率≦1.0*10-10mbar L/s;
5、可盛装化学品纯度≧99.9995;
6、总残余元素量≦50PPb;
7、坠落试验,通过国家商检部门检测;
8、介质,TMG\TEG\TMA\TMIN\DEE等;
9、可选择气动阀门或者实现在注入端子、输出端子以及接口之间的
交叉清扫处理等;
10、可提供非标定做。
报价:¥1000
已咨询343次镀膜机
报价:¥168000
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报价:¥138000
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报价:¥10000
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报价:¥238000
已咨询596次镀膜机
报价:面议
已咨询480次离心真空脱泡搅拌机
报价:¥30000
已咨询719次真空烤箱
常见真空腔体技术性能: 材质:不锈钢、铝合金等 腔体适用温度范围:-190℃~+1500℃(水冷) 密封方式:氟胶O型圈或金属无氧铜圈 出厂检测事项: 1、真空漏率检测1.3*10-10mbar*l/s 2、水冷水压检测:8公斤24小时无泄漏检测. 内外表面处理:拉丝抛光处理、喷砂电解处理、酸洗处理、电解抛光处理和镜面抛光处理等.
源瓶(起泡器)用于固态、液态及气态超纯物料类的封装,涉及微正压、常压、中低压的危险化学品,所以对源瓶的安全性和洁净度提出严苛的要求。
高低温真空腔探针系统主要用于为被测芯片提供一个低温或者高温的变温测量环境,以便测量分析温度变化时芯片性能参数的变化。腔体内被测芯片在真空环境中有效避免易受氧化半导体器件接触空气所带来的测试结果误差。
先进的软件控制系统:系统集工艺配方、参数设置、权限设定、互锁报警、状态监控等功能于一体。
本设备是一款小型电阻蒸发镀膜仪,主要特点是设备体积小,结构简单紧凑易于操作,也可整机放置于手套箱内,对实验室供电要求低;该系列设备主要部件采用进口或者国内zuiyou的配置,从而提高设备的稳定性;另外自主开发的智能操作系统在设备的运行重复性及安全性方面得到更好地保障。 目前该设备配3组电阻蒸发源(可兼容金属与有机蒸发),一台2000W直流蒸发电源,主要用来开发纳米级单层及多层的金属导电膜、有机薄膜等。
该设备是一款小型磁控溅射镀膜仪,主要特点是设备体积小,结构简单紧凑易于操作,对实验室供电要求低;该系列设备主要部件采用进口或者国内zuiyou的配置,从而提高设备的稳定性;另外自主开发的智能操作系统在设备的运行重复性及安全性方面得到更好地保障。