日本Advance Riko公司推出的激光闪光法热常数测量系统（型号：TC-1200RH）使用红外金面炉替代传统电阻炉加热，大大缩短测量时间。可应用于热电材料的研究与开发，及其他材料的热物理性能评价。
TC-1200RH系统采用符合JIS/ISO标准的激光闪光法测定材料的三个重要热物理常数：热导率（导热系数）、热扩散系数及比热容。
应用方向
• 热电材料的研究与开发
• 陶瓷、金属及有机材料的研究与开发
• FPD散热材料的热扩散率和比热容评价
• 半导体器件和模制器件的材料热扩散研究
设备特点
红外金面炉的使用使得加热和冷却速度大大提高
1. 使用红外线直接加热样品可以迅速使温度稳定；
2. 控温的灵敏度提高使得低温区间内的温度稳定性得到改善，从而减少温度波动，进而太高测量精度。
仅需1/4的时间（与使用电阻炉的传统型号相比）。
因控温灵敏度提高，温度稳定性大大增加。
符合JIS/ISO标准要求
1. 激光闪光法测定精细陶瓷的热扩散系数、比热容及热导率（JIS R 1611）
2. 精细陶瓷热电材料的测定方法 – 第3部分：热扩散系数、比热容及热导率（JIS R 1650-3）
3. 激光闪光法测定铁的热扩散系数（JIS H 7801）
设备参数
1. 测量参数：热扩散系数，比热容
2. 样品尺寸：φ10mm×1mm～3mm（厚度）测量方向：厚度方向
3. 测量氛围：真空（*不高于150℃时，可在大气下测量）
4. 温度范围：室温至1150℃（高1200℃）
| 大升温速度 | |||
| 目标温度 | ～100℃ | ～300℃ | ～1150℃ |
| 升温速度 | 10℃/min | 20℃/min | 50℃/min |
安装条件
1. 主机尺寸：约 W900mm×D1050mm×H1700mm
2. 主机质量：约 350kg
3. 电源：AC200V 单相 8kVA（主机）
AC100V 单相 1kVA（PC）
4. 冷却水：城市用水 ＞5L/min
压力＞0.15MPa
可选件
• 方形样品托
• 多样品上样装置：多3个样品
• 基体测量附件
室温：SB-1
200℃：SB-2
• 多层材料分析软件FML系列
如果其中一层材料的热物理参数已知，可根据测量结果分析多层材料
（多层材料分析的模型在JIS H8453中已列出）
• 高温炉：高可达1500℃
测试数据
用户单位
清华大学
武汉理工大学
深圳大学
燕山大学
报价：面议
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兼容TeslatronPT VTl的3He插件，变温范围300 mK到300K，@350mK制冷功率为50 μW，样品空间直径43 mm，样品置于真空环境。
• 氦循环制冷低温恒温器，样品处于真空环境中 • 样品空间：20 mm × 5 mm (真空环境) • 温度范围：3.4 K ~ 500 K (低温可扩展至 2.7 K) • 温度稳定性：± 0.1 K • 系统降温时间：< 15 分钟 (至 3.2 K)
• 氦循环制冷低温恒温器，样品处于真空环境中 • 样品空间：20 mm × 5 mm (真空) • 温度范围：3.2 K ~ 500 K (低温可扩展至 2.2 K) • 温度稳定性：± 0.1 K • 系统降温时间：< 10 分钟 (至 3.2 K) • 液氦消耗率：< 0.45 L/hr
• 恒温器类型：液氮恒温器（LN2） • 样品空间：20 mm × 2 mm • 适用样品：固体、粉末及颗粒 • 温度范围：77 K 至 500 K • 温度稳定性：± 0.5 K
Microstat系列低温恒温器给用户提供了各类光路设计和光学性能特点的低温样品环境。制冷方式为真空冷媒冷却，可根据温度需求选择液氮或者液氦制冷，温度范围从低于2.2K至500K。
在多数情况下，为确认不同参数之间的相关性，样品分析通常使用多种技术手段。对于AFM和SEM成像技术而言，这意味着在实际操作中需要对完全相同的区域进行对比分析。
OptistatDryTLEX是一款用于光谱学测量的低温恒温器，由配有光学通路的紧凑型恒温器和闭循环制冷机组成，采用顶部换样设计。无需液体制冷剂即可将样品降温至液氦温度，提高了使用便捷性的同时降低了运行成本。配备光学窗口和测量引线拓展选件，可进行原位的光学和电学测量。
营业执照已审核
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