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VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
品牌:沈阳科晶
型号:VTC-600-3HD
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VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪
品牌:沈阳科晶
型号:VTC-16-3HD
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全自动原子层沉积系统(ALD)
品牌:美国Veeco
型号:Fiji G2 Plasma ALD
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Obducat纳米压印EITRE® 3
品牌:瑞典Obducat
型号:EITRE®
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德国布劳恩 真空蒸镀系统MINIvap
品牌:深圳科时达
型号:MINIvap
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MSK-AFA-IV小型涂布机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: MSK-AFA-IV
- 产地:
MSK-AFA-IV小型涂布机采用电气控制和机械的有机结合,可大量节省原料,改进工艺技术,方便在不同的基底上精确的涂布,减小以及消除了由于涂布速度、压力不同等人为因素造成的误差。主要用于胶类、纸类,薄膜类生产试验,也可用于其他相关的涂布、涂装行业。主要特点1、通过更换涂辊调节涂布厚度。2、通过旋钮调节涂布速度。3、采用进口零部件。4、均匀涂布。技术参数1、电源: 220V 50Hz2、功率: 50W 3、涂布速度:1-1200mm/min可调4、涂覆面积:420mm×350mm5、涂膜厚度:12μm-20
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MSK-AFA-III小型流延自动涂膜烘干机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: MSK-AFA-III
- 产地:
MSK-AFA-III小型流延自动涂膜烘干机广泛用于各种高温涂膜研究,例如陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、特殊纳米薄膜,能够适应未来高温条件下成膜技术的发展。本机通过匀速推动精密制膜器,达到平滑、均匀的涂覆效果。采用真空吸附来固定基片,使得涂布过程中基片无褶皱现象,从而使得涂布更加顺畅。涂布后,上盖可对薄膜进行加热烘干,控温精度为±1℃。特别适合于固态电解质和锂电池极片的制备。主要特点1、设有自动烘干功能。2、采用真空吸附来固定基片。3、均匀涂布。技术参数1、电源:220V 350W2、涂布速度:1
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MSK-AFA-II-VC自动涂布机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: MSK-AFA-II-VC
- 产地:
产品简介MSK-AFA-II-VC自动涂布机广泛用于各种高温涂膜研究,例如陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、特殊纳米薄膜等。主要特点1、均匀涂布。2、已通过CE认证。技术参数1、电源:220V 350W2、涂布速度:1mm/s-100mm/s3、涂布行程:550mm4、真空板:600mm×300mm×20mm5、制膜器可调范围:0.02mm-5mm产品规格尺寸:805mm×430mm×223mm重量:45kg可选配件1、真空泵2、制膜器
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MSK-AFA-II玻璃涂布机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: MSK-AFA-II
- 产地:
MSK-AFA-II玻璃涂布机广泛用于各种高温涂膜研究,例如陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、特殊纳米薄膜等。主要特点1、均匀涂布。2、已通过CE认证。技术参数1、电源:220V 350W2、涂布速度:1mm/s-100mm/s3、涂布行程:550mm4、玻璃板:600mm×300mm×20mm5、制膜器可调范围:0.02mm-5mm产品规格尺寸:805mm×430mm×223mm重量:42kg可选配件真空铝板(600mm×300mm×30mm)
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MSK-AFA-I自动涂布机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: MSK-AFA-I
- 产地:
MSK-AFA-I自动涂布机广泛用于各种高温涂膜研究,例如陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、特殊纳米薄膜,能够适应未来高温条件下成膜技术的发展。主要特点1、涂覆速度可调,并设有数字显示。2、可调限位开关控制涂覆行程。3、采用真空吸附方式固定基片,可快速取放基片。4、已通过CE认证。技术参数1、电源:220V2、功率:350W 3、涂覆速度:1mm/s-100mm/s可调4、涂覆行程:10mm-250mm5、真空铝板:365mm×200mm×30mm6、制膜器:150mm可调式,调整范围0.02mm-5
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PTL-NMB纳米级恒温提拉涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: PTL-NMB
- 产地:
PTL-NMB纳米级恒温提拉涂膜机是以纳米为计量、专为在液相中提拉涂膜而设计的,通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜。本机采用PLC程序控制系统,以彩色触摸屏为数据输入输出端,显示提拉速度、提拉高度、提拉往返次数、间隔时间等参数。主要特点1、采用彩色触摸屏,界面清晰,方便参数设置。2、提拉涂膜的全过程在恒温温度场内进行,有利于薄膜形成及固化。3、操作安全可靠,简单易懂。4、已通过CE认证。技术参数1、电源:220V2、提拉速度:1-500nm/s3、速度稳定性:±0.05%4、温度:RT-100℃5、样件
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PTL-MMB02毫米级恒温程控提拉涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: PTL-MMB02
- 产地:
PTL-MMB02毫米级恒温程控提拉涂膜机是专门为在液相中提拉涂膜而设计的。在恒温环境下,通过垂直提拉液相中的样件生长薄膜。主要特点1、采用PLC程序控制,控制界面简单清晰。2、在恒温环境下进行提拉涂膜,有利于薄膜形成及固化。3、操作简单,安全可靠。4、已通过CE认证。技术参数1、提拉速度:1-200mm/min2、速度稳定性:±0.05% 3、温度:RT-100℃4、样件尺寸:75mm×25mm×2.5mm产品规格尺寸:450mm×500mm×970mm标准配件1、涂膜卡具2、料杯3、提拉丝
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钙钛矿镀膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: 钙钛矿镀膜机
- 产地:
钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作,广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。主要特点1、样品位于真空室上方,蒸发源位于真空室下方,向上蒸发镀膜,且蒸发源带有挡板装置。2、设有烘烤加热功能,可在镀膜过程中加热样品,最高烘烤加热温度为180℃。3、设有断水、断电连锁
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MSK-USP-04C超声喷雾热解涂膜机
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: MSK-USP-04C
- 产地:
MSK-USP-04C超声喷雾热解涂膜机采用步进电机和微处理器来控制容积泵来精确输送溶剂。一个超声波雾化器可以制备厚度较薄的微纳米涂层,并且由一步进电机控制可在X轴和Y轴方向移动,以确保涂层的均匀性。同时基底温度可以进行控制,以满足实验需要。主要特点喷雾热解制膜法,是将溶液雾化后喷涂到加热的基底上,然后在基底上得到想得到的物质结构。此种材料制备方法特别适用于沉积氧化物,而且在制备透明电极的应用中已有相当长的历史。现在这种方法在制备钙钛矿型太阳能电池中得广泛应用。技术参数1、电源:220V 50Hz/60H
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Easy-200半自动封板机/封膜机/压膜机
- 品牌:北京莱普特
- 型号: Easy-200
- 产地:海淀区
产品介绍:Easy-200半自动封板机/封膜机/压膜机是一款通过热封各种专用热封膜来防止各种微孔板(PCR板、深孔贮存板、酶标板以及细胞培养板)在检测过程中的蒸发、泄漏引起的样品损失及空间交叉污染的封膜仪器。该机外观设计简洁大方,操作简单,封板压力灵活可调,标准板到深孔板皆可适用,适用板类范围更广。封板温度和封板时间都可灵活设置,快速加热,实时显示封板的温度。适用普通胶封膜、热封膜、可穿刺热封膜、光学热封膜(定量PCR)、热封膜。替代手工封膜,保证封板牢固,密封操作自动化,均匀的压力保证封膜效果均匀一致。
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ETD-100AF 热蒸发镀膜机
- 品牌:北京博远微纳
- 型号: ETD-100AF
- 产地:
仪器简介:原理:ETD-100AF 是高真空热蒸发式小型镀膜机。采用电阻式蒸发原理,利用大电流加热钼舟或钨丝蓝或固定支架上的镀膜材料,使其在高真空下蒸发,沉积在被镀样品上以获得**镀膜效果。适用范围: 电子显微镜样品制备和清洁光栏,以及科研、教学和企业中的实验活动、工艺试验。技术参数:配置和参数:* 真空室: 直径230mm,高度:280mm * 靶材料: 碳、金等。 * 电极(两对): 一对用于钼舟或钨丝栏,一对蒸碳。 * 最大电流: 100A * 最大电压: 10V * 极限真空: 1×10 Pa *
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HMDS真空镀膜机
- 品牌:上海实贝
- 型号: HMDS-090-DM
- 产地:
HMDS真空镀膜机一、HMDS真空镀膜机的预处理系统的重要性在半导体生产工艺中,光刻是至关重要的一个工艺环节,而涂胶工艺的好坏,直接影响到光刻的质量,所以涂胶也显得尤为必要,尤其在所刻线条比较细的时候,任何一个环节有一点纰漏,都可能导致光刻的失败。在涂胶工艺中,所用到的光刻胶绝大多数是疏水的,而晶片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,如果在晶片表面直接涂胶的话,势必会造成光刻胶和晶片的粘合性较差,甚至造成局部的间隙或气泡,涂胶厚度和均匀性都受到了影响,从而影响了光刻效果和显影。为了解决这一问题,涂胶工艺中引
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郑科探小型高温蒸镀仪镀膜仪
- 品牌:郑州科探
- 型号: KT-Z1650CVD
- 产地:郑州
小型高温蒸镀仪,钨舟加热,或者坩埚加热,温度可达1800度,带样品台旋转功能,使镀膜更加均匀。
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成都真空设备厂家 核级干式真空蒸馏机组 电真空 真空冶炼 核原料处理 食品 工程塑料 风洞 可定制
- 品牌:成都超迈光电
- 型号: CM-027
- 产地:成都
●该机组能满足多种制程工艺的真空要求,抽速:70-5000L/S,极限真空度可达200Pa至6.67X10-2Pa,通过PLC+人机界面,可根据工艺制程设定真空度与时间参数,根据真空度实际需求可自动启动不同的工作模式,能够显著降低设备能耗,系统过流部件可进行防腐处理,选配防爆电机和控制单元能抽出易燃易爆、有腐蚀性的可凝性气体。●特别适于精细化工、农药、硫化工等对真空有特殊要求的行业,也用于电真空、真空冶炼、核原料处理、食品、工程塑料、风洞、真空列车等行业。●特别说明:1、可选配防爆电机和防爆控制系统(
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成都真空设备厂家 JK高真空系统 真空镀膜机 工业炉 半导体专用设备 选配低温冷阱 可定制
- 品牌:成都超迈光电
- 型号: CM-025
- 产地:成都
●公司研发的JK型高真空系统广泛运用于真空镀膜、工业炉和半导体专用设备,该设备具有价格低廉、性能稳定和真空度高的特点,是目前较低投入获得高真空的标准设备,由于主泵没有运动部件,因此该设备故障率极低,特别适合对稳定性有特殊需求的行业,但是也存在能耗较高的特点,根据客户需求,可选配低温冷阱,降低油分子对室体的污染。●特别说明:根据用户不同的工况和工艺要求,可使用旋片泵、滑阀泵、罗茨机组等作为机组前级系统,与主泵扩散泵组成高真空系统,小型JK高真空系统可选配移动小车,满足现场工艺需求,公司致力于工艺与设备的
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成都真空设备厂家 Research-磁控溅射镀膜机 共溅射直流射频兼容 磁控溅射系统 可定制
- 品牌:成都超迈光电
- 型号: CM-013
- 产地:成都
●该设备用于纳米级单层或多层膜、类金刚石薄膜、金属膜、导电膜、半导体膜和非导电膜等功能薄膜的制备,可实现共溅射,直流、射频兼容,特别适于科研院所和企业进行功能薄膜研发、教学和新产品开发,同时可在微米级粉末或颗粒上沉积薄膜进而达到表面改性的功能。是替代钟罩式磁控溅射的理想选择。●主体结构:全封闭框架结构,机柜和主机为一体式机构。●极限真空度:≤6.63×10-5Pa,压升率优于国家标准。 ●真空配置:高速直联旋片泵一台,配置尾气处理装置,超高分子泵一台。●真空测量:两路电阻规,一
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成都真空设备厂家 surpass电磁耦合磁控溅射 固体润滑 防腐 超硬表面改性 可定制
- 品牌:成都超迈光电
- 型号: CM-012
- 产地:成都
●该设备为公司根据客户工艺需求定制,与中国科学院某研究所国家实验室联合研制,先后获得奖励3项,联合申报国家2项,用于固体润滑、防腐和超硬表面改性等领域,服务于科研和国家重大项目需求,具有多功能、高稳定的特点,欢迎各位联合研制。●设备主要由真空腔体、真空系统、工件盘系统、烘烤系统、溅射系统、离子轰击系统、充气系统和在线测量系统组成,同时匹配空气压缩气体气源和水冷系统,可根据客户使用需求定制。●真空腔体:φ900X1050,双层水冷;(可根据实际需求定制)●真空系统:分子泵+低温泵+罗茨泵+机械泵复合真空
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成都真空设备厂家 CJC系列磁控溅射镀膜机 共溅射直流射频兼容 粉末或颗粒上沉积薄膜 可定制
- 品牌:成都超迈光电
- 型号: CM-011
- 产地:成都
●该设备用于纳米级单层或多层膜、类金刚石薄膜、金属膜、导电膜、半导体膜和非导电膜等功能薄膜的制备,可实现共溅射,直流、射频兼容,适于科研院所和企业进行功能薄膜研发、教学和新产品开发,同时可在微米级粉末或颗粒上沉积薄膜进而达到表面改性的功能。建议选用公Research系列磁控溅射平台。●主体结构:全封闭框架结构,机柜和主机为分体式机构。●极限真空度:≤6.63×10-5Pa,压升率优于国家标准。 ●真空配置:高速直联旋片泵一台,配置尾气处理装置,超高分子泵一台。●真空
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成都真空设备厂家 surpass复合磁控溅射镀膜机 离子轰击系统 充气系统 在线测量系统 可定制
- 品牌:成都超迈光电
- 型号: CM-010
- 产地:成都
●设备主要由真空腔体、真空系统、工件盘系统、烘烤系统、溅射系统、过渡仓、磁力机械手、离子轰击系统、充气系统和在线测量系统组成,同时匹配空气压缩气体气源和水冷系统,可根据客户使用需求定制。●真空腔体:φ650X700双层水冷;(可根据实际需求定制)●真空系统:分子泵+低温泵+罗茨泵+机械泵复合真空系统;●真空抽速:1600L/S,进口全量程复合真空计,全金属防爆真空规;●极限真空:6.7X10-5Pa;(根据客户选择主泵确定)●磁控靶组件:4个矩形靶,3个圆形靶,根据客户实际需要匹配中频、射频、脉冲直流
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成都真空设备厂家 Research桌面真空镀膜机 全封闭框架结构 可定制
- 品牌:成都超迈光电
- 型号: CM-009
- 产地:成都
1. 主体:全封闭框架结构,真空室为前开门方式,机柜和主机为一体式机构。采用优质0Cr18Ni9不锈钢材料(SUS304),箱体尺寸为不小于φ350X400mm。设置DN100观察窗口,位于真空腔体门正前方,骨架默认白色(或铝合金本色),门板为白色,四只脚轮,可固定,可移动。室体、真空机组、磁控靶等有断水报警锁定安全装置,能够防止停水后出现安全隐患。2. 真空系统:2.1极限真空度:≤6.63×10-4Pa(空载、经充分烘烤除气并充干燥氮气)。2.2真空配置:高速直联旋片泵一台,抽速大于6L/S,超高
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成都真空设备厂家 research热蒸发/磁控溅射 多靶复合磁控溅射镀膜机 离子刻蚀机功能 可定制
- 品牌:成都超迈光电
- 型号: CM-008
- 产地:成都
●主要功能:多靶复合磁控溅射镀膜机,可满足合金膜、单层膜、多层膜、导电膜、非导电膜和反应溅射的需要,具有极高的实用性和通用性(三靶、垂直与共溅射合一、在线清洗基片等),能够提供高水平功能薄膜研制,特别适合于半导体、新能源、磁性材料、储氢材料、二维材料、超硬薄膜、固体润滑薄膜、自洁净薄膜、等领域前沿研究,同时可选配等离子刻蚀功能和辅助镀膜。1. 主体和腔室:全封闭框架结构,机柜和主机为一体式结构,骨架默认为白色,门板为白色,四只脚轮,可固定,可移动。真空腔室采用优质0Cr18Ni9不锈钢材质(SUS30
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成都真空设备厂家 Research-热蒸发真空镀膜机 电阻 电子束 电阻电子束复合镀膜系统 可定制
- 品牌:成都超迈光电
- 型号: CM-007
- 产地:成都
●该设备可选配电阻、电子束或电阻电子束复合镀膜系统,过流部件均采用SUS304制造,真空系统后置,标准配置分子泵系统,标配工业级人机界面和西门子PLC系统,手动和自动模式自由切换,能够满足工业客户小批量生产和科研院所客户科研实验的需求。该系列设备不提供全手动操作控制系统。
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成都真空设备厂家 Research-红外蒸发镀膜机 近距红外热蒸发真空镀膜机 可定制
- 品牌:成都超迈光电
- 型号: CM-006
- 产地:成都
●“近距红外蒸发真空镀膜机”正式推向市场,探索薄膜太阳能电池,如CdTe、硫化物和钙钛矿结构太阳能电池的重要手段,也用于有机柔性薄膜制备,为公司产品“一种近距红外热蒸发真空镀膜机”,号:CN201920208976.6,接受桌面式和一体式定制。●真空腔体:根据客户需求定制。●真空漏率:1X10-6Pa.L/S;极限真空优于5X10-5Pa,标准配置分子泵系统。●加热功率:小于12KW。●温控仪表:配置触摸屏温控仪和专用温控仪表,自主编程的温控系统,配置功率控制器,带有方便的温度分配和功率分配接线端。●
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成都真空设备厂家 surpass系列精密光学镀膜机 高精密光通讯产品镀制光学膜 可定制
- 品牌:成都超迈光电
- 型号: CM-005
- 产地:成都
●本设备在成都光学镀膜机产业链发达基础上,在核心部件、控制系统和结构设计上吸收国际产品技术精髓,开发出surpass系列产品。本设备适用于高精密光通讯产品镀制光学膜: 电学膜、金属膜、激光膜、冷光膜、分光膜、增透膜、各种滤光片、玻璃片及塑胶(树脂)件上镀制增透膜、带通膜和截止膜等各种膜系的镀膜,能够根据客户需求定制。●形式:φ650-3500mm,箱式一体机,立式前开门,蒸发室和抽气室为整体焊接式,一体机系统。●真空系统:极限真空8X10-5Pa,主泵为复合分子泵低温泵扩散泵可选。●真空测量:配三路数
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成都真空设备厂家 Research-电子束蒸发镀膜机 电阻 电子束 电阻电子束复合镀膜 可定制
- 品牌:成都超迈光电
- 型号: CM-004
- 产地:成都
●该设备为电阻、电子束或电阻电子束复合镀膜系统,同时兼容IBE等离子刻蚀和在线辅助镀膜,过流部件均采用SUS304制造,真空系统后置,标准配置分子泵系统,标配工业级人机界面和西门子PLC系统,手动和自动模式自由切换,能够满足工业客户小批量生产和科研院所客户科研实验的需求。该系列设备不提供全手动操作控制系统。形式:箱式一体机,立式前开门,蒸发室和抽气室为整体焊接式,一体机系统。●真空系统:极限真空5X10-4Pa,主泵为复合分子泵。●真空测量:配三路数字复合真空计,均采用安全防爆金属测量规。●工件架系统
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成都真空设备厂家 surpass工业级电阻电子束蒸发 高精密光通讯产品镀制光学膜 可定制
- 品牌:成都超迈光电
- 型号: CM-003
- 产地:成都
●本设备适用于高精密光通讯产品镀制光学膜, 电学膜、金属膜、激光膜、冷光膜、分光膜、增透膜、各种滤光片、玻璃片及塑胶(树脂)件上镀制增透膜和截止膜等各种膜系镀膜。为满足广大用户的不同需求,我公司可接受多种形式的真空镀膜机的定制要求,包括对真空室体尺寸、真空系统配置、工件夹具系统、工件烘烤系统、膜厚监控系统、蒸发源系统、充气系统、离子源系统以及电气控制系统的特殊定制。1.采用箱式结构,腔体尺寸可以定制,直径350-2600mm,真空系统后置,便于操作和维修;特别适合放置在净化间内做穿墙式安装。2.设备真
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成都真空设备厂家 半导体制程PVD沉积台 电阻蒸发 电子束蒸发 离子源辅助清洗 辅助沉积 可定制
- 品牌:成都超迈光电
- 型号: CM-002
- 产地:成都
●本装置使用电阻蒸发、电子束蒸发和离子源辅助清洗、辅助沉积和原位刻蚀进行复合,用于制备特种薄膜,薄膜具有均匀性、附着力、抗损伤、低颗粒物污染等特点,是半导体制程中关键工序的核心装备,其技术长期被美国、日本等国技术巨头所垄断,属于国内卡脖子装备,也是制约国内半导体领域自主可控的关键设备,该设备的技术突破和产业化对国内半导体产业发展具有积极意义。
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成都真空设备厂家 Research手套箱蒸发镀膜机 单排双工位手套箱 可定制
- 品牌:成都超迈光电
- 型号: CM-001
- 产地:成都
●形式:箱式一体机,立式前开门,蒸发室和抽气室为整体焊接式,沉积腔采用SUS304真空氩弧焊成型不,一体机系统,可连接单排双工位手套箱,中间用DN150超高真空插板阀隔断。●真空系统:极限真空5X10-4Pa,主泵为复合分子泵,抽速600L/S,前级泵配置直联泵,主阀匹配。●真空测量:配数字复合真空计,均采用防爆金属测量规。●工件架系统:客户需求定制,可放入4英寸掩模版,转速3~30rpm变频可调。●烘烤系统:匹配数字功率控制器和PID控制模块,*高烘烤温度300℃。●电阻蒸发源:水冷电极引入,2套电
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钙钛矿蒸镀薄膜检测设备
- 品牌:郑州科探
- 型号: KT-Z1650CVD
- 产地:郑州
钙钛矿蒸镀薄膜检测设备,触摸屏控制,可调节功率和蒸镀时间,配有样品挡板能精确控制镀膜时间,保护样品
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有机物制备小型金属镀膜蒸镀仪
- 品牌:郑州科探
- 型号: KT-Z1650CVD
- 产地:郑州
钨舟加热真空蒸镀仪,触摸屏控制,可调节功率和蒸镀时间,配有样品挡板能精确控制镀膜时间,保护样品
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小型蒸镀仪
- 品牌:郑州科探
- 型号: KT-Z1650CVD
- 产地:郑州
钨舟加热真空蒸镀仪,触摸屏控制,可调节功率和蒸镀时间,配有样品挡板能精确控制镀膜时间,保护样品
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超高温有机物制备蒸镀仪
- 品牌:郑州科探
- 型号: KT-Z1650CVD
- 产地:郑州
超高温蒸镀仪,7寸人机界面控制,手动 自动模式可切换,最大功率1200w,电动挡板保护样品。
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高校实验室直流磁控溅射仪
- 品牌:郑州科探
- 型号: KT-Z1650PVD
- 产地:郑州
超高温蒸镀仪,7寸人机界面控制,手动 自动模式可切换,最大功率1200w,电动挡板保护样品。
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超声波雾化喷涂机 全自动喷涂机 氧化钛喷涂机
- 品牌:上海埃飞
- 型号: CPT-Ultra-19
- 产地:宝山区
产品简介超声波喷头喷雾的原理是利用超声波振动能量可将液体涂料(溶液、溶胶、悬浮液等)进行雾化。液体可通过低压液泵传送到喷雾头并实现连续或间断性雾化,zui后再借助载流气体均匀涂敷在基材表面,避免空气对流会把雾液的方向打乱。相较普通二流体喷涂工艺,具备雾化颗粒小,雾化均匀,同时超声波喷涂不需要靠气体打散液体形成雾滴,所以不会造成雾化颗粒打到基底后飞溅的情况,非常利于节省溶液,比两相流喷头节省溶液80%以上。超声波喷涂有喷涂效率高、雾化颗粒均匀、可实现间断性或连续性的超低喷雾流量、不易堵塞、高精度等优点,
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Slotdie狭缝式涂布机 全自动涂布机 薄膜涂布机
- 品牌:上海埃飞
- 型号: Datamaker
- 产地:宝山区
产品简介涂布系统主要包括供料单元和涂布单元,涂布单元是通过利用精密机械加工所制作的上下模及安装在上下模间的薄垫片所组成,供料单元由储料、输送的注射泵及过滤装置等组成。系统由涂布模具相对于基片作精确运动,通过控制速率、精密计量和泵送工艺流体,将液体化学材料从上下模之间的缝隙挤出涂布于移动的基板(玻璃、不锈钢和塑料等)上形成薄膜。涂膜厚度可由液体流量与基板移动速度直接计算,其优点为涂膜均匀性高、可适用的涂料粘度范围广、涂布速度快、以及可制作大面积的涂膜。适用于有机太阳能电池OPV和钙钛矿太阳能电池PVK等
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上海三研 SYDC-200型 浸渍提拉镀膜机
- 品牌:上海三研
- 型号: SYDC-200
- 产地:浦东新区
超高精度,超高稳定性 设计贴心,好操作 质保期长
- 镀膜机
- 仪器网导购专场为您提供镀膜机功能原理、规格型号、性能参数、产品价格、详细产品图片以及厂商联系方式等实用信息,您可以通过设置不同查询条件,选择满足您实际需求的产品,同时导购专场还为您提供精品优选镀膜机的相关技术资料、解决方案、招标采购等综合信息。