- 2025-01-10 17:02:33低温等离子反应器
- 低温等离子反应器是一种利用低温等离子体技术处理气体或液体的设备。它通过产生大量高能电子、离子和活性自由基等,与反应物分子发生碰撞,从而引发一系列物理化学反应。该设备具有高效、节能、环保等优点,广泛应用于废气处理、水处理、材料表面改性等领域。通过精确控制等离子体参数,可实现对反应过程的优化,提高处理效率和产物质量。低温等离子反应器是现代环保技术和材料科学中的重要工具。
资源:9399个 浏览:65次展开
低温等离子反应器相关内容
低温等离子反应器产品
产品名称
所在地
价格
供应商
咨询

- 低温等离子灰化仪
- 国内 北京
- 面议
-
华仪行(北京)科技有限公司
售全国
- 我要询价 联系方式

- 合成反应器-幂方科技 Auto SR100 自动合成反应器
- 国内 上海
- 面议
-
上海幂方电子科技有限公司
售全国
- 我要询价 联系方式

- EVG810 LT 低温等离子活化系统
- 国外 欧洲
- ¥1
-
岱美仪器技术服务(上海)有限公司
售全国
- 我要询价 联系方式

- 三强低温等离子过氧化氢灭菌器全自动型
- 国内 河南
- ¥1200
-
河南省三强医疗器械有限责任公司
售全国
- 我要询价 联系方式

- 德国Sentech 低温等离子蚀刻机 SI 500 C
- 国外 欧洲
- ¥5000000
-
深圳市蓝星宇电子科技有限公司
售全国
- 我要询价 联系方式
低温等离子反应器问答
- 2025-01-24 11:00:13细胞生物反应器 标准有哪些?
- 细胞生物反应器标准:提升生物制造的关键 细胞生物反应器(Cell Bioreactor)作为生物制药和生物工程领域中至关重要的设备,已经广泛应用于细胞培养、发酵、蛋白质生产等多个领域。细胞生物反应器不仅是大规模生物产品生产的核心设施,也是实现工业化生物过程的基础。为了保证产品的质量与一致性,细胞生物反应器的标准化设计和操作显得尤为重要。本文将深入探讨细胞生物反应器的标准以及其在生物工程中的重要性。 细胞生物反应器标准的背景 随着生物制药行业的快速发展,细胞生物反应器的需求逐年增加。生物反应器的主要作用是为细胞提供一个控制良好的环境,促进细胞生长、繁殖和代谢活动,以便产出所需的生物产品。为确保生物反应器在不同环境下的可靠性和一致性,业界逐步建立起了一些标准。无论是国际标准还是各国国家标准,细胞生物反应器的设计、性能、操作及维护都有了明确的规范要求。 细胞生物反应器标准的重要性 细胞生物反应器的标准化不仅有助于提升生物反应器的使用效率,还能有效降低生产中的风险。一个标准化的反应器系统能够在不同的应用场景中实现更高的兼容性和灵活性,确保产品质量的一致性。例如,标准化的反应器设计可以保证温度、pH、溶氧等关键参数的控制,进而提高细胞培养的稳定性和生产效率。 细胞生物反应器的关键设计标准 细胞生物反应器的设计标准主要包括以下几个方面: 材料选择与卫生标准:生物反应器的材质必须符合生物医药领域的安全标准,通常选用不锈钢、玻璃、或者具有生物相容性的合成材料,以保证不与培养物发生反应,并避免污染。 培养环境控制系统:温度、pH值、溶氧量和二氧化碳浓度的控制至关重要。标准化的反应器配备了先进的传感器和自动调节系统,可以实时监测并调整这些关键参数,以确保细胞培养环境的佳状态。 搅拌与气体交换系统:为了促进细胞的生长和代谢,反应器内部通常配有搅拌装置和气体交换系统。标准化设计要求搅拌系统能够有效地维持细胞的均匀分布,同时确保充足的氧气供应,以支持细胞的高效生长。 培养液的无菌条件:生物反应器必须保持无菌环境,避免外界微生物的污染。标准中对反应器的无菌操作和灭菌过程有严格要求,确保培养液的纯度和细胞的安全性。 细胞生物反应器的操作与维护标准 除了设计标准外,细胞生物反应器的操作与维护同样需要严格遵循标准化流程。操作人员必须经过专业培训,掌握反应器的操作技能,并能够根据反应器状态做出及时调整。定期的维护与清洁也是确保反应器长期高效运行的必要条件,规范化的维护流程能够延长设备的使用寿命,并减少生产中的故障率。 细胞生物反应器标准的应用 国际上,诸如ISO、FDA等机构都制定了一系列细胞生物反应器相关标准,这些标准的实施推动了生物制药行业的规范化与标准化发展。尤其是在跨国公司和供应链中,标准化设计和操作不仅提升了生产效率,还确保了跨地区合作中的质量一致性。 结语 细胞生物反应器标准在生物制造和制药过程中起着至关重要的作用。它不仅提升了生产过程的稳定性与效率,还确保了产品的质量安全。随着技术的不断进步和行业需求的日益增加,细胞生物反应器的标准化发展将更加完善,推动生物产业迈向更加高效和可持续的未来。在生物制造的复杂环境中,遵循严格的标准化操作,已经成为保证行业竞争力和产品质量的关键因素。
201人看过
- 2021-11-30 09:41:21什么是低温等离子设备?
- 冰升温至0℃会变成水,如继续使温度升至100℃,那么水就会沸腾成为水蒸气。随着温度的上升,物质的存在状态一般会呈现出固态→液态→气态三种物态的转化过程,我们把这三种基本形态称为物质的三态。那么对于气态物质,温度升至几千度时,将会有什么新变化呢? 由于物质分子热运动加剧,相互间的碰撞就会使气体分子产生电离,这样物质就变成由自由运动并相互作用的正离子和电子组成的混合物(蜡烛的火焰就处于这种状态)。我们把物质的这种存在状态称为物质的第四态,即等离子体(plasma)。因为电离过程中正离子和电子总是成对出现,所以等离子体中正离子和电子的总数大致相等,总体来看为准电中性。反过来,我们可以把等离子体定义为:正离子和电子的密度大致相等的电离气体。 从刚才提到的微弱的蜡烛火焰,我们可以看到等离子体的存在,而夜空中的满天星斗又都是高温的完全电离等离子体。据印度天体物理学家沙哈(M.Saha,1893-1956)的计算,宇宙中的99.9%的物质处于等离子体状态。而我们居住的地球倒是例外的温度较低的星球。此外,对于自然界中的等离子体,我们还可以列举太阳、电离层、极光、雷电等。在人工生成等离子体的方法中,气体放电法比加热的办法更加简便高效,诸如荧光灯、霓虹灯、电弧焊、电晕放电等等。在自然和人工生成的各种主要类型的等离子体的密度和温度的数值,其密度为106(单位:个/m3)的稀薄星际等离子体到密度为1025的电弧放电等离子体,跨越近20个数量级。其温度分布范围则从100K的低温到超高温核聚变等离子体108-109K(1-10亿度)。温度轴的单位eV(electron volt)是等离子体领域中常用的温度单位,1eV=11600K。通常,等离子体中存在电子、正离子和中性粒子(包括不带电荷的粒子如原子或分子以及原子团)等三种粒子。设它们的密度分别为ne,ni,nn,由于准电中性,所以电离前气体分子密度为ne≈nn。于是,我们定义电离度β=ne/(ne+nn),以此来衡量等离子体的电离程度。日冕、核聚变中的高温等离子体的电离度都是100%,像这样β=1的等离子体称为完全电离等离子体。电离度大于1%(β≥10-2)的称为强电离等离子体,像火焰中的等离子体大部分是中性粒子(β>Ti , Te>>Tn。我们把这样的等离子体称为低温等离子体(cold plasma)。当然,即使是在高气压下,低温等离子体还可以通过不产生热效应的短脉冲放电模式即电晕放电(corona discharge)或电弧滑动喷射式放电来生成。大气压下的辉光放电技术目前也已成为世界各国的研究热点。可产生大气压非平衡态等离子体的机理尚不清楚,在高气压下等离子体的输运特性的研究也刚刚起步,现已形成新的研究热点。 http://www.verdegroup.cn/ 更多详细资料,可联系上海尔迪仪器科技有限公司,拨打电话021-62211270!021-62211270!上海尔迪仪器科技有限公司是一家从事仪器设备销售、技术服务与工艺开发的创新公司,为您提供一站式采购服务。
486人看过
- 2021-11-16 17:32:33等离子设备:什么是低温等离子体?
- 冰升温至0℃会变成水,如继续使温度升至100℃,那么水就会沸腾成为水蒸气。随着温度的上升,物质的存在状态一般会呈现出固态→液态→气态三种物态的转化过程,我们把这三种基本形态称为物质的三态。那么对于气态物质,温度升至几千度时,将会有什么新变化呢? 由于物质分子热运动加剧,相互间的碰撞就会使气体分子产生电离,这样物质就变成由自由运动并相互作用的正离子和电子组成的混合物(蜡烛的火焰就处于这种状态)。我们把物质的这种存在状态称为物质的第四态,即等离子体(plasma)。因为电离过程中正离子和电子总是成对出现,所以等离子体中正离子和电子的总数大致相等,总体来看为准电中性。反过来,我们可以把等离子体定义为:正离子和电子的密度大致相等的电离气体。从刚才提到的微弱的蜡烛火焰,我们可以看到等离子体的存在,而夜空中的满天星斗又都是高温的完全电离等离子体。据印度天体物理学家沙哈(M.Saha,1893-1956)的计算,宇宙中的99.9%的物质处于等离子体状态。而我们居住的地球倒是例外的温度较低的星球。此外,对于自然界中的等离子体,我们还可以列举太阳、电离层、极光、雷电等。在人工生成等离子体的方法中,气体放电法比加热的办法更加简便GX,诸如荧光灯、霓虹灯、电弧焊、电晕放电等等。在自然和人工生成的各种主要类型的等离子体的密度和温度的数值,其密度为106(单位:个/m3)的稀薄星际等离子体到密度为1025的电弧放电等离子体,跨越近20个数量级。其温度分布范围则从100K的低温到超高温核聚变等离子体的108-109K(1-10亿度)。 温度轴的单位eV(electron volt)是等离子体领域中常用的温度单位,1eV=11600K。通常,等离子体中存在电子、正离子和中性粒子(包括不带电荷的粒子如原子或分子以及原子团)等三种粒子。设它们的密度分别为ne,ni,nn,由于准电中性,所以电离前气体分子密度为ne≈nn。于是,我们定义电离度β=ne/(ne+nn),以此来衡量等离子体的电离程度。日冕、核聚变中的高温等离子体的电离度都是1**%,像这样β=1的等离子体称为完全电离等离子体。电离度大于1%(β≥10-2)的称为强电离等离子体,像火焰中的等离子体大部分是中性粒子(β>Ti , Te>>Tn。我们把这样的等离子体称为低温等离子体(cold plasma)。当然,即使是在高气压下,低温等离子体还可以通过不产生热效应的短脉冲放电模式即电晕放电(corona discharge)或电弧滑动喷射式放电来生成。大气压下的辉光放电技术目前也已成为世界各国的研究热点。可产生大气压非平衡态等离子体的机理尚不清楚,在高气压下等离子体的输运特性的研究也刚刚起步,现已形成新的研究热点。本文转载自上海尔迪仪器科技有限公司
444人看过
- 2023-03-14 12:04:54等离子去胶机(Plasma Cleaner)
- 等离子去胶机(Plasma Cleaner) 为何要去除光刻胶?在现代半导体生产过程中,会大量使用光刻胶来将电路板图图形通过掩模版和光刻胶的感光与显影,转移到晶圆光刻胶上,从而在晶圆表面形成特定的光刻胶图形,然后在光刻胶的保护下,对下层薄膜或晶圆基底完成进行图形刻蚀或离子注入,最后再将原有的光刻胶彻底去除。去胶是光刻工艺中的最后一步。在刻蚀/离子注入等图形化工艺完成后,晶圆表面剩余光刻胶已完成图形转移和保护层的功能,通过去胶工艺进行完全清除。光刻胶去除是微加工工艺过程中非常重要的环节,光刻胶是否彻底去除干净、对样片是否有造成损伤,都会直接影响后续集成电路芯片制造工艺效果。 半导体光刻胶去除工艺有哪些?半导体光刻胶去除工艺,一般分成两种,湿式去光刻胶和干式去光刻胶。湿式去胶又根据去胶介质的差异,分为氧化去胶和溶剂去胶两种类别。干式去胶适合大部分去胶工艺,去胶彻底且速度快,是现有去胶工艺中zui好的方式。 一、等离子去胶机简述:氧等离子去胶是利用氧气在微波发生器的作用下产生氧等离子体,具有活性的氧等离子体与有机聚合物发生氧化反应,使有机聚合物被氧化成水蒸汽和二氧化碳等排除腔室,从而达到去除光刻胶的目的,这个过程我们有时候也称之为灰化或者剥离。氧等离子去胶相比于湿法去胶工艺更为简单、适应性更好,去胶过程纯干法工艺,无液体或者有机溶剂参与。当然我们需要注意的是,这里并不是说氧等离子去胶工艺100%好于湿法去胶,同时也不是所有的光刻胶都适用于氧等离子去胶,以下几种情形我们需要注意:① 部分稳定性极高的光刻胶如SU-8、PI(聚酰亚胺),往往胶厚也比较大,纯氧等离子体去胶速率也比较有限,为了保证快速去胶,往往还会在工艺气体中增加氟基气体增加去胶速率,因此不只是氧气是反应气体,有时候我们也需要其他气体参与;② 涂胶后形成类非晶态二氧化硅的HSQ光刻胶。由于其构成并不是单纯的碳氢氧,所以是无法使用氧等离子去胶机来实现去胶;③ 当我们的样品中有其他需要保留的结构层本身就是有机聚合物构成的,在等离子去胶的过程中,这些需要保留的层也可能会在氧等离子下发生损伤;④ 样品是由容易氧化的材料或者有易氧化的结构层,氧等离子去胶过程,这些材料也会被氧化,如金属AG、C、CR、Fe以及Al,非金属的石墨烯等二维材料; 市面上常见氧等离子去胶机按照频率可分为微波等离子去胶机和射频等离子去胶机两种,微波等离子去胶机的工作频率为2.45GHz,射频等离子去胶机的工作频率为13.5MHz,更高的频率决定了等离子体拥有更高的离子浓度、更小的自偏压,更高的离子浓度决定了去胶速度更快,效率更高;更低的自偏压决定了其对衬底的刻蚀效应更小,也意味着去胶过程中对衬底无损伤,而射频等离子去胶机其工作原理与刻蚀机相似,结构上更加简单。因此,在光电器件的加工中,去胶机的选择更推荐使用损伤更小的微波等离子去胶机。 二、等离子清洗去胶机的工作原理:氧气是干式等离子体脱胶技术中的首要腐蚀气体。它在真空等离子体脱胶机反应室内高频和微波能的作用下,电离产生氧离子、自由氧原子O*、氧分子和电子混合的等离子体,其间氧化能力强的自由氧原子(约10-20%)在高频电压作用下与光刻胶膜发生反应:O2→O*+O*,CxHy+O*→CO2↑+H2O↑。反应后产生的CO2和H2O然后被抽走。 三、等离子去胶机的优势:1、等离子清洗机的加工过程易于控制、可重复且易于自动化;使用等离子扫胶机可以使得清洗效率获得更大的提高。整个清洗工艺流程几分钟内即可完成,因此具有产率高的特点2、等离子扫胶机清洗对象经等离子清洗之后是干燥的,不需要再经干燥处理即可送往下一道工序,可以提高整个工艺流水线的处理效率;3、等离子扫胶机使得用户可以远离有害溶剂对人体的伤害,同时也避免了湿法清洗中容易洗坏清洗对象的问题;4、避免使用ODS有害溶剂,这样清洗后不会产生有害污染物,因此这种清洗方法属于环保的绿色清洗方法;5、等离子去胶机采用无线电波范围的高频产生的等离子体与激光等直射光线不同,等离子体的方向性不强,这使得它可以深入到物体的微细孔眼和凹陷的内部完成清洗任务,因此不需要过多考虑被清洗物体的形状;6、等离子去胶机在完成清洗去污的同时,还可以改良材料本身的表面性能,如提高表面的润湿性能、改良膜的黏着力等,这在许多应用中都是非常重要的。 四、等离子去胶的主要影响因素:频率选择:频率越高,氧越易电离形成等离子体。频率太高,以至电子振幅比其平均自由程还短,则电子与气体分子碰撞几率反而减少,使电离率降低。一般常用频率为 13.56MHz及2.45GHZ 。功率影响:对于一定量的气体,功率大,等离子体中的的活性粒子密度也大,去胶速度也快;但当功率增大到一定值,反应所能消耗的活性离子达到饱和,功率再大,去胶速度则无明显增加。由于功率大,基片温度高,所以应根据工艺需要调节功率。真空度的选择:适当提高真空度,可使电子运动的平均自由程变大,因而从电场获得的能量就大,有利电离。另外当氧气流量一定时,真空度越高,则氧的相对比例就大,产生的活性粒子浓度也就大。但若真空度过高,活性粒子浓度反而会减小。氧气流量的影响:氧气流量大,活性粒子密度大,去胶速率加快;但流量太大,则离子的复合几率增大,电子运动的平均自由程缩短,电离强度反而下降。若反应室压力不变,流量增大,则被抽出的气体量也增加,其中尚没参加反应的活性粒子抽出量也随之增加, 因此流量增加对去胶速率的影响也就不甚明显。 五、等离子去胶机的应用:1、光刻胶的去除、剥离或灰化2、SU-8的去除/ 牺牲层的去除3、有机高分子聚合物的去除4、等离子去除残胶/去浮渣/打底膜5、失效分析中的扁平化处理6、表面沾污清除和内腐蚀(深腐蚀)应用7、清洗微电子元件,电路板上的钻孔或铜线框架8、剥离金属化工艺前去除浮渣9、提高黏附性,消除键合问题10、塑料的表面改型:O2处理以改进涂覆性能11、产生亲水或疏水表面
548人看过
- 2023-08-18 09:25:26微通道反应器技术在氯化反应工艺中的新应用
- 氯化反应氯化反应是有机合成的重要组成,广泛应用于农用和药 用化学品的研发和生产。由于这类反应的危险系数高,在传统的釜式反应器中更存在产率,环保,质量等问题。微通道反应器具有良好的传质和换热特性,应用于氯化反应对于选择性和收率有很大的提升,有利于绿色工艺的研究。本文摘自贾志远等人于2021年5月发表在《燃料与染色》上的一篇综述文章:微通道技术在氯化反应工艺中的应用。向您介绍连续流技术在氯化反应的特色应用,希望对您有所启发。在微通道反应器中光化学氯化反应研究案例连续流化学反应近两年发展迅速。在微通道反应器中的光化学氯化反应,反应混合物可以受到强烈而均匀的光照,不仅会提高氯气的利用率,而且可以缩短反应时间,提高产率。研究者利用微反应器开展了甲苯-2,4-二异氰酸酯的选择性光化学氯化反应。如图所示,甲苯-2,4-二异氰酸酯的四氯乙烷溶液由液相管路进入微通道反应器中,与当量摩尔比的氯气在微反应器中混合,光照下生成产品1-氯甲基-2,4二异氰基苯,经水解和缩合过程形成副产物甲苯5-氯-2,4-二异氰酸酯。在微通道反应器中氯化慢反应研究案例陈光文等人采用微通道氯化反应装置,设计合成了橡胶防焦剂CTP(N-环己基硫代邻苯二甲酰亚胺)的工艺,来解决反应时间长、釜式反应混合不均匀、收率低等问题。原料和溶剂通过计量泵输送到微混合器中形成浓度12%的二环己基二硫化合物溶液,然后降温到10℃,降温后的原料液和当量比的氯气在微通道反应。反应过程中氯气通入二环己基二硫化物的时间大幅缩短,收率达到93%,高出现有生产技术3~4个百分点。参考文献[1]贾志远,刘嵩,杨林涛,闫士杰,刘东,鄢冬茂.微通道技术在氯化反应工艺中的应用[J].染料与染色,2021,58(02):49-54.编者语在康宁AFR反应器上,也做过很多的氯化反应,绝大部分都得到了比釜式更好的结果。由于康宁反应器是玻璃材质,更加适合光氯化反应。例如:利用康宁反应器在进行某个烷烃的氯化反应时,在光照下,其选择性是釜式的1.5倍,几乎能选择性地进行单氯代。在进行吡啶化合物的氯代时,其选择性高于 釜式约10个百分点。关键是选择性高了之后,可以不进行后处理而直接进入下一步反应,极大降低了损耗。康宁反应器无缝放的技术优势有利于光氯化反应放到到工业化生产。如果想了解康宁AFR?高通量-微通道反应器技术以及康宁反应器在连续化反应生产中的应用实例,请关注康宁反应器公众号或者访问康宁公司反应器技术相关网站电话:400-8121-766邮件:reactor.asia@corning.com
359人看过

