2025-01-20 11:06:35ALD工艺

ALD工艺，即原子层沉积，是一种将物质以单原子层形式逐层沉积在基底表面的方法。该技术基于表面自限制反应，能实现纳米级精确控制，形成高质量、高保形性的薄膜。ALD广泛应用于半导体、光学、催化等领域，用于制备功能薄膜、涂层及纳米结构，具有工艺温度低、重复性好、均匀性和一致性高等优点。

资源：218个    浏览：11次展开

ALD工艺相关内容

• 全部
• 产品

ALD工艺产品

生物工艺容器Thermo Scientific™ CentriPAK™ 生物工艺容器

国外 欧洲

面议

赛默飞世尔科技实验室产品

售全国

我要询价 联系方式

原子层沉积系统ALD

国外 欧洲

面议

爱谱斯中国有限公司

售全国

我要询价 联系方式

全自动原子层沉积系统(ALD)

国外 美洲

面议

香港电子器材有限公司

售全国

我要询价 联系方式

全自动原子层沉积系统(ALD)

国外 美洲

面议

香港电子器材有限公司

售全国

我要询价 联系方式

全自动原子层沉积系统(ALD)

国外 美洲

面议

香港电子器材有限公司

售全国

我要询价 联系方式