2025-01-20 11:06:35ALD工艺

ALD工艺，即原子层沉积，是一种将物质以单原子层形式逐层沉积在基底表面的方法。该技术基于表面自限制反应，能实现纳米级精确控制，形成高质量、高保形性的薄膜。ALD广泛应用于半导体、光学、催化等领域，用于制备功能薄膜、涂层及纳米结构，具有工艺温度低、重复性好、均匀性和一致性高等优点。

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