
- 2025-01-10 17:03:23激光扫描共聚焦荧光显微镜技术
- 激光扫描共聚焦荧光显微镜技术是一种高分辨率成像技术,利用激光光源和共聚焦光学系统,结合荧光标记,对样品进行三维扫描成像。该技术能够提供样品内部结构的详细信息,具有高灵敏度、高分辨率和高特异性的特点。它广泛应用于生物学、医学和材料科学等领域,是研究细胞结构、功能和分子间相互作用的重要工具。
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激光扫描共聚焦荧光显微镜技术资讯
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- 激光共聚焦荧光显微镜的原理及应用
- 用于研究胚胎发生、生殖发育、神经生物学、肿瘤发生等过程中缝隙连接通讯的基本机制和作用,也可用于鉴别对缝隙连接作用有潜在毒性的化学物质。
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激光扫描共聚焦荧光显微镜技术问答
- 2023-08-21 11:50:20激光共聚焦荧光显微镜 活体荧光物质检查
- 激光共聚焦显微镜,简称CLSM(Confocal Laser Scanning Microscopy),是一种利用激光共振效应进行成像的显微镜。它通过使用激光束扫描样品的不同层面,将所得到的图像合成成一幅清晰的三维图像。与传统显微镜相比,激光共聚焦显微镜具有更高的分辨率和更强的穿透能力,可以观察到更加细微的结构和更深层次的物质。在活体荧光物质的检查中,激光共聚焦显微镜发挥了重要的作用。通过标记活体细胞或组织的特定结构或分子,激光共聚焦显微镜可以实时观察到这些结构或分子的活动和分布情况。在生物医学领域,它可以用于观察细胞的生长、分裂和死亡过程,研究细胞信号传导和分子交互作用等。在药物研发中,它可以用于观察药物在活体细胞或组织中的分布情况,评估药物的疗效和毒性。此外,在神经科学领域,激光共聚焦显微镜可以用于观察神经元的活动和连接,揭示大脑的工作机制。 NCF950激光共聚焦显微镜较宽场荧光显微镜的优点:l 能够通过荧光标本连续生产薄(0.5至1.5微米)的光学切片,厚度范围可达50微米或更大。(主要优点)l 控制景深的能力。l能够从样品中分离和收集焦平面,从而消除荧光样品通常看到的焦外“雾霾",非共焦荧光显微镜下无法检测到。(最重要的特点)l 从厚试样收集连续光学切片的能力。l 通过三维物体收集一系列图像,用于二维或三维重建。l收集双重和三重标签,精确的共定位。l 用于对在不透明的图案化基底上生长的荧光标记细胞之间的相互作用进行成像。l 有能力补偿自发荧光。 耐可视共聚焦成像效果图 尼康共聚焦成成像效果图NCF950激光共聚焦显微镜应用,共聚焦显微镜在以下研究领域中应用较为广泛:1、细胞生物学:细胞结构、细胞骨架、细胞膜结构、流动性、受体、细胞器结构和分布变化、细胞凋亡;2、生物化学:酶、核酸、FISH、受体分析3、药理学:药物对细胞的作用及其动力学;4、生理学:膜受体、离子通道、离子含量、分布、动态;5、遗传学和组胚学:细胞生长、分化、成熟变化、细胞的三维结构、染色体分析、基因表达、基因诊断;6、神经生物学:神经细胞结构、神经递质的成分、运输和传递;7、微生物学和寄生虫学:细菌、寄生虫形态结构;8、病理学及病理学临床应用:活检标本的快速诊断、肿瘤诊断、自身免疫性疾病的诊断;9、生物学、免疫学、环境医学和营养学。NCF950激光共聚焦显微镜配置NCF950激光共聚焦配置表激光器激光405 nm、488 nm、561 nm、640 nm探测器波长:400-750nm,探测器:3个独立的荧光检测通道;1个DIC透射光检测通道扫描头最大像素大小:4096 x 4096 扫描速度:2 fps(512 x 512像素,双向),18 fps(512 x 32像素,双向),图像旋转: 360°扫描模式X-T, Y-T, X-Y, X-Y-Z, X-Y-Z-T针孔无级变速六边形电动针孔;调节范围:0-1.5毫米共焦视场φ18mm内接正方形图像位深12bits配套显微镜NIB950全电动倒置显微镜光学系统NIS60无限远光学系统(F200)目镜(视野)10×(25),EP17.5mm,视度可调-5~+5,接口Φ30观察镜筒铰链式三目观察镜筒,45度倾斜,瞳距47-78mm,目镜接口Φ30,固定视度;1)目/摄切换:(100/0,50/50,0/100);2)目视/关闭目视/可调焦勃氏镜NIS60物镜10×复消色差物镜,NA=0.45 WD=4.0 盖玻片=0.1720×复消色差物镜,NA=0.75 WD=1.1 盖玻片=0.1760×半复消色差物镜,NA=1.40 WD=0.14 盖玻片=0.17 油镜100×复消色差物镜,NA=1.45 WD=0.13 盖玻片=0.17 油镜物镜转换器电动六孔转换器(扩展插槽),M25×0.75聚光镜6孔位电动控制:NA0.55,WD26;相衬(10/20,40,60选配)DIC(10X,20X/40X)选配.空孔照明系统透射柯拉照明,10W LED照明;落射照明:宽场光纤照明6孔位电动荧光转盘(B,G,U标配);电动荧光光闸;中间倍率切换手动1X,1.5X、共焦切换机身端口分光比:左侧:目视=100:0;右侧:目视=100:0;平台电动控制:行程范围130 mm x100 mm (台面325 mm x 144 mm )最大速度:25mm/s;分辨率:0.1μm - 重复精度:3μm。机械可调样品夹板调焦系统同轴粗微动升降机构,行程:焦点上7下2;粗调2mm/圈,微调0.002mm/圈;可手动和电动控制,电动控制时,最小步进0.01um;DIC插板10X,20X,40X插板;可放置于转换器插槽;选配控制摇杆,控制盒,USB连接线软件软件:NOMIS Advanced C图像显示/图像处理/分析2D/3D/4D图像分析,经时变化分析,三维图像获得及正交显示,图像拼接,多通道彩色共聚焦图像
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- 2023-03-16 14:23:50基于共聚焦显微技术的显微镜和荧光显微镜的区别
- 荧光显微镜主要应用在生物领域及医学研究中,能得到细胞或组织内部微细结构的荧光图像,在亚细胞水平上观察诸如Ca2+ 、PH值,膜电位等生理信号及细胞形态的变化,是形态学,分子生物学,神经科学,药理学,遗传学等领域中新一代强有力的研究工具。以共聚焦技术为原理的共聚焦显微镜,是用于对各种精密器件及材料表面进行微纳米级测量的检测仪器。材料科学的目标是研究材料表面结构对于其表面特性的影响。因此,高分辨率分析表面形貌对确定表面粗糙度、反光特性、摩擦学性能及表面质量等相关参数具有重要意义。共焦技术能够测量各种表面反射特性的材料并获得有效的测量数据。VT6000共聚焦显微镜基于共聚焦显微技术,结合精密Z向扫描模块、3D 建模算法等,可以对器件表面进行非接触式扫描并建立表面3D图像,实现器件表面形貌3D测量。在材料生产检测领域中能对各种产品、部件和材料表面的面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、平面度、粗糙度、波纹度、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。应用1.MEMS微米和亚微米级部件的尺寸测量,各种工艺(显影,刻蚀,金属化,CVD, PVD,CMP等)后表面形貌观察,缺陷分析。2.精密机械部件,电子器件微米和亚微米级部件的尺寸测量,各种表面处理工艺,焊接工艺后的表面形 貌观察,缺陷分析,颗粒分析。3.半导体/ LCD各种工艺(显影,刻蚀,金属化,CVD,PVD,CMP等)后表面形貌观察, 缺陷分析 非接触型的线宽,台阶深度等测量。4.摩擦学,腐蚀等表面工程磨痕的体积测量,粗糙度测量,表面形貌,腐蚀以及亚微米表面工程后的表面形貌。
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- 2023-02-02 10:34:22SFM激光扫描场焦点分析仪荣获AKL 2022“激光技术创新奖”一等奖
- 近日获悉,来自激光光束分析仪及功率计专业供应商德国Primes公司Stefan Wolf研发团队开发的ScanFieldMonitor (SFM)激光振镜扫描场焦点分析仪荣获AKL 2022年“激光技术创新奖”(Innovation Award Laser Technology)一等奖,奖金为1万欧元。“激光技术创新奖”由AKL激光协会和ELI欧洲激光研究所联合发起,在德国亚琛每两年颁发一次,主要授予引领从应用导向研究到成功工业实施技术创新的激光制造商和用户及研发人员。德国Primes公司的SFM激光扫描场焦点分析仪是一款多功能一体化的激光光束诊断设备。这项研发是由增材制造和电动汽车的许多新应用而推动的,SFM分析仪具有独特的设计,旨在实现改进的工艺优化和系统认证,并且能实现远程控制,从而使用户能够更好地校准激光3D打印机,以进行工业激光3D打印。SFM根据玻璃板上测量线的散射光来确定激光束和扫描仪的参数SFM激光扫描场焦点分析仪——专利测量技术的原理可通过扫描矢量测量激光束参数。该分析仪适用于波长1000nm~1100nm、功率10W~1500W、入射角0 - 20 °以内的任何激光光束和激光振镜扫描设备的诊断分析,能在不到三秒钟的时间内,测量50μm~500μm焦点位置,峰值功率密度可高达100MW/cm2,使用户能够轻松确定其激光光源的各种参数:光斑直径、位置、扫描速度。同时借助特殊的测量方案,还可以确定枕形失真、重叠扫描场的合并、焦点偏移以及激光的开启和关闭延迟、热透镜检查等时间分辨分析。SFM可以测量分析扫描场聚焦光斑的直径、位置、扫描速度随着越来越多的制造商将选择性激光熔化SLM 3D打印集成到其工艺链中,需要复杂的激光扫描参数测量仪来制定质量标准并保证标准的验证,而SFM激光扫描场焦点分析仪正好满足这项需求。SFM激光扫描场焦点分析仪采用刻有一系列10~15微米厚测量线的玻璃板的专利技术对激光光束特性进行表征。当用户在该玻璃板上扫描激光光束时,光电二极管测量玻璃板上每个刻线的散射光。此过程可用于确定激光光束在SFM激光扫描场焦点分析仪上的路径、焦散和场平坦度。结合集成光电二极管的采样率,SFM激光扫描场焦点分析仪能够计算激光从路径起点到终点的传播速度。再加上德国PRIMES公司特有的算法不仅可以分析多种复杂的关系,而且数据采集是在写入扫描矢量所需的时间(几毫秒)内完成的。为了在粉末加工床中将激光的融合轨迹进行精确定位,至关重要的是使激光的照射顺序与扫描振镜的移动保持同步。因为SFM激光扫描场焦点分析仪可以提供绝对定位信息,因此该仪器最终可以用于校准这两个基本参数。SFM激光扫描场焦点分析仪的主要特点是具有全功能性,它可以将多种测量功能融合到一台设备中。这使得该仪器与各种扫描仪兼容,从而能够表征任何基于激光的扫描系统。最终节省了用户的时间成本和金钱成本。也正因为SFM激光扫描场焦点分析仪的全功能性,可以消除工艺流程对多种测量设备的需求,从而大大的降低了工艺流程的复杂性。SFM激光扫描场焦点分析仪尺寸为80 x 80 x 100mm,非常紧凑,可以放置在打印机构建区的任何位置。PRIMES甚至添加了以太网接口和WLAN模块,因此可以从3D打印机的外部远程控制SFM激光扫描场焦点分析仪。与传统的光束诊断设备不同,该系统能够全功率分析光束,还可以在实际操作条件下进行测量。武汉东隆科技有限公司du家代理德国Primes公司的工业加工激光光束品质分析仪及功率计、自动化集成激光功率计及光束分析仪,我们在技术、服务、价格上都具有非常好的优势。如果您在使用过程遇到任何产品技术相关的问题,欢迎您随时来电垂询。
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- 2023-08-21 11:41:24热点应用丨OLED的光致发光和电致发光共聚焦成像
- 要点光致发光和电致发光是有机发光二极管(OLED)视觉显示发展的重要技术。与共聚焦显微镜相结合,使用RMS1000共聚焦显微拉曼光谱仪对OLED器件的光电特性进行成像研究。光谱和时间分辨成像获得了比宏观测试更详细的器件组成和质量信息。介绍近年来,有机发光二极管(OLED)已成为高端智能手机和电视全彩显示面板的领先技术之一1。使用量的快速增长是因为OLED提供了比液晶显示器(LCD)更卓 越的性能。例如,它们更薄、更轻、更灵活、功耗更低、更明亮2。在典型的OLED器件中,电子和空穴被注入到传输层中,然后在中心掺杂发光层中复合。这种复合产生的能量通过共振转移到掺杂分子中,从而使其发光。OLED发光的颜色取决于发光层中所掺杂分子的化学结构。当新的有机电致发光器件开发出来时,可以利用光致发光(PL)和电致发光(EL)光谱来表征单个元件和整个器件的光电特性。在本文中,RMS1000共聚焦显微拉曼光谱仪用于表征四种成像模式下OLED器件的光电特性:PL、EL、时间分辨PL(TRPL)和时间分辨EL(TREL)。使用共聚焦显微拉曼光谱仪来表征OLED的光谱和时间分辨特性获得了比宏观测试更详细的信息。材料和方法测试样品为磷光OLED器件,由圣安德鲁斯大学有机半导体光电研究组提供。将样品放置在冷热台(LINKAM)上,通过两个钨探针连接到器件电极上实现成像。使用RMS1000共聚焦显微拉曼光谱仪进行PL、EL、时间分辨PL(TRPL)和时间分辨EL(TREL)成像,如图1。图1 PL、TRPL、EL和TREL成像的实验装置。将装载样品的冷热台放置在显微镜样品台上,如图2所示。对于PL测试,使用532 nm CW激光器和背照式CCD探测器;对于TRPL测试,使用外部耦合的EPL-405皮秒脉冲激光器、MCS模式和快速响应的PMT。对于EL测试,使用Keithley 2450 SMU向OLED器件加电压,并用CCD探测器检测;对于TREL测试,使用Tektronix 31102 AFG向OLED加一系列短脉冲电压,使用MCS模式测试每个脉冲下的衰减。图2 (a)安装在RMS1000上的冷热台;(b) OLED器件电致发光宽场成像。测试结果与讨论大面积光致发光和电致发光光谱成像OLED首次采用PL和EL光谱相结合的方法进行研究。当使用共聚焦显微拉曼光谱仪成像时,可以表征材料在整个器件中的分布以及在发光强度和颜色均匀性方面的整体质量。图3中的PL成像和相应的光谱提供了器件上4个区域发光层分布的信息,还显示了电极的位置。图3 (a)OLED器件的PL光谱强度成像;(b)a中标记的点1和点2的PL光谱。白色和灰色代表PL强度,显示了有机发光层的位置。灰色区域为发光层被顶部电极覆盖的位置。在顶部电极穿过发光层的地方,PL强度降低为未覆盖区域强度的一半以下。这是由于顶部电极材料削弱了激光强度和光致发光强度。对于EL成像,钨探针连接到与区域2相交的电极上。图4中得到的EL图像和相应的光谱表明了EL发光仅发生在区域2中的发光层与电极重叠的区域。在PL成像中,空间分辨率主要取决于样品上激光光斑的大小。而在EL成像中,由于没有激光,因此是通过改变共焦针孔直径来改变空间分辨率(将针孔直径减小到25 μm)。图4 (a)OLED器件的EL光谱强度成像;(b)a中标记的点1和点2的EL光谱。EL强度在整个有源像素上不均匀,这对器件的质量有影响。在区域外边缘有两个(白色)垂直条带,强度比其余部分强。此外,存在许多EL强度降低的非发光区域。这表明器件有缺陷,理想情况下,OLED将在每个像素上呈现出密集和均匀的发光。高分辨率光致发光和电致发光光谱成像为了进一步研究,使用PL和EL对EL有源像素上的较小区域(图5a和图5b)进行高分辨成像。图5b网格内的上部区域是发光层与电极重叠的地方,下部区域是单独的发光层。图5c为 PL强度成像,再次表明被电极覆盖的发光层PL强度小于未覆盖的发光层。PL峰值波长图像(图5d)表明,有电极覆盖的发光层与未覆盖的发光层(611 nm)相比,PL发射峰发生红移(620 nm)。峰值波长的变化表明在不同的区域中能级不同。图5 (a) OLED器件电致发光宽场成像;(b)a网格内的高分辨率宽场成像;(c)PL强度成像;(d)相同区域的PL峰值波长成像;(e)EL强度成像;(f)相同区域的EL峰值波长成像。EL成像显示,与其余部分相比发射强度较弱的缺陷(图5e)波长发生明显红移(图5f)。这是由于缺陷处的EL能带的信号强度降低以及在662 nm处EL能带信号强度同时增加引起的。另外,在EL有源区域的最 底部的区域中,发生蓝移,这与在PL图像上看到的波长变化一致。高分辨率时间分辨光致发光和电致发光成像为获得额外信息,在同一区域进行TRPL和TREL成像,如图6所示。分别用激光脉冲和电脉冲,在MCS模式下测试614 nm处OLED的PL和EL衰减。利用单指数模型拟合衰减曲线。在图6a的TRPL成像中,EL活性区域(上部区域)中的PL寿命比EL非活性区域(下部区域)中的PL寿命短大约200 ns。如图6c所示,分别为800 ns和600 ns。这里观察到与图4中PL强度和波长图像的类似梯度,沿图向下方向的发射强度增强,并且发生了蓝移。因此,根据TRPL数据可得:当光激发时,通过掺杂带可获得不同的能级。在图6b中的TREL成像中,整个区域的寿命相似,大约为470 ns。发现EL寿命显著短于相同区域的PL寿命。图6 (a)OLED的时间分辨PL成像;(b)OLED的时间分辨EL成像;(c)a中选定区域的PL衰减曲线;(d)b中图像的EL衰减曲线。结论RMS1000共聚焦显微拉曼光谱仪用于测试OLED器件的PL、EL、TRPL和TREL成像。这些不同的成像模式提供了关于发光层和电极在整个器件中位置的详细信息,在工作条件下器件的发光强度和颜色均匀性,以及关于PL和EL过程中带隙能量的相对信息。参考文献1. A. Salehi et al., Recent Advances in OLED Optical Design, Adv. Funct. Mater., 2019, 29, 1808803, DOI: 10.1002/adfm.201808803.2. J. M. Ha et al., Recent Advances in Organic Luminescent Materials with Narrowband Emission, NPG Asia Mater., 2021, 13, 1–36, DOI: 10.1038/s41427-021-00318-8.天美分析更多资讯
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- 2022-12-07 11:47:14贴息贷款丨一体化全自动显微共聚焦拉曼光谱仪 RM5
- 英国爱丁堡仪器一体化全自动显微共聚焦拉曼光谱仪 RM5仪器介绍RM5显微共聚焦拉曼光谱仪是一款紧凑型的全自动显微拉曼光谱仪,可以内置多达三个激光器。具有可调节的电动狭缝和多位可调节的共聚焦针孔,用于获取更高的图像清晰度,更好的荧光背景抑 制和更灵活的应用条件优化。适用于新型材料、生物医药、物质鉴定等方面的测量,提供超高的光谱分辨率、空间分辨率和灵敏度,结合拉曼成像技术(2D/3D/Surface Mapping),实现全方位拉曼信息检测。仪器特点+ 紧凑型一体化分析级拉曼光谱仪+ 多种配置一体化耦合+ 内置标准物质和自动校准功能+ 真共聚焦技术+ 功能强大的Ramacle®软件+ 高性能附件兼容(偏振组件、显微镜、样品台等)应用范围生物医药 药品成分和分布状态分析; 原料检定; 生物相容性; 药物/细胞相互作用;铝箔上含有痕量扑热息痛颗粒的拉曼成像图植物细胞木质素成像分布分析,A.白光图;B.成像图能源光伏以及半导体材料表征 薄膜太阳能电池结构分析; 原位技术检测充放电; 电极材料的缺陷分析; 材料本征应力/应变的特征;分散碳纳米管在晶圆上分布的拉曼成像(左)+硅基石墨烯单晶拉曼成像(右)
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