精确厚度测量 - 产品信息 - 相关知识

2025-01-10 10:50:00精确厚度测量: 精确厚度测量是指利用特定技术和仪器，对物体表面的厚度进行高精度、高可靠性的测量。常见的测量方法有激光测厚、超声波测厚、涡流测厚及机械接触式测厚等。这些技术广泛应用于工业制造、材料科研、质量检测等领域，能够确保产品的尺寸精度和性能稳定性。精确厚度测量不仅要求测量结果的准确性，还强调测量的重复性和可追溯性，是保障产品质量和科研数据可靠性的重要手段。

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Sensofar S neox用于二氧化硅掩膜薄膜的精确厚度测量

“为获得所需的 1 nm 精确度，我们现在将 3D 光学轮廓仪 S neox（光谱反射法模式）作为测量 SiO2层厚度的一种快速且简便的方法。”

北京仪光科技有限公司 52
2024-10-22
Sensofar S neox x用于二氧化硅掩膜薄膜精确厚度测量
案例分析 | Sensofar共聚焦白光干涉仪用于二氧化硅掩膜薄膜的精确厚度测量值

我们研究嵌入在光子晶体光腔中、导致发射增强（赛尔效应）的量子点的光学性质，或者基于嵌入在波导中、用于生产光子多路复用器件的量子点的光学性质

 北京仪光科技有限公司 48
2024-07-15

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: 薄膜厚度测量系统; 国外欧洲; €23000; 孚光精仪（香港）有限公司
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: 日本Union精密厚度测量显微镜; 国内江苏; 面议; 苏州西恩士工业科技有限公司
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: 薄膜厚度测量系统; 国内辽宁; 面议; 沈阳科晶自动化设备有限公司
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: 精确体积移液管Samco™ 精确体积移液管; 国外美洲; 面议; 赛默飞世尔科技实验室产品
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: 薄膜厚度测量仪器*技术参数; 国内山东; 面议; 济南三泉中石实验仪器有限公司
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精确厚度测量问答

2022-11-08 10:08:09非接触式透镜厚度测量利器光纤微裂纹检测仪（OLI）: 在光学领域，透镜是光学系统中最重要的组成元件，现代的光学仪器对透镜的成像质量和光程控制有很高的要求。尤其在透镜的制造要求上，加工出的透镜尺寸，其公差必须控制在允许范围内，因此需要在生产线上形成对透镜厚度实时、自动、精准的检测，这对提高产线的生产效率和控制产品的质量具有重要意义。目前，测量透镜中心厚度的方法主要分为接触式测量和非接触式测量。接触式测量有很多弊端，如不能准确找到透镜的中心点(最高点或最低点)，测量时需要来回移动透镜，效率不高，容易划伤透镜的玻璃表面。而非接触测量一般采用光学的方法，能有效避免这些测量缺陷，由东隆科技自研的光纤微裂纹检测仪（OLI）不仅可以快速精准测试出透镜的厚度，而且也不会对透镜表面造成划伤。下面，让我们学习下光纤微裂纹检测仪（OLI）是如何高效的测量手机镜头的折射率和厚度。光纤微裂纹检测仪（OLI）1、 OLI测量透镜厚度使用光纤微裂纹检测仪（OLI）测量凸透镜中心厚度，如图1.所示，准备一根匹配好测试长度的光纤跳线，一端接入设备DUT口，另外一端垂直对准透镜，让接头和透镜之间预留一定距离，同时使用OLI进行测量。图1. 测量系统示意图测量结果如图2.所示，图中共有3个峰值，第1个峰值为FC/APC接头端面的反射，第2个峰值为空气到透镜第一个面的反射，第3个峰值为透镜第二个面到空气的反射。图2.凸透镜厚度测试结果图峰值1和2之间的距离为3.876mm，峰值2和3之间的距离为20.52mm，图2中测得各峰值间距是在设备默认折射率n1=1.467下测得，而空气的折射率n2=1玻璃透镜的折射率n3=1.6，所以空气段的实际长度为：L空=3.876*n1/n2=5.686mm，透镜的实际厚度为L镜=20.52*n1/n3=18.814mm。使用游标卡尺测量凸透镜的厚度为19.02mm，和测试结果偏差0.2mm，可能是玻璃透镜的实际折射率与计算所用到的折射率1.6有偏差导致的。2、OLI测量镜底折射率和厚度将图1.测量系统中的凸透镜换成手机摄像头的玻璃镜底，使用光纤微裂纹检测仪（OLI）对3种不同厚度的玻璃镜底进行测量，图3.为测试玻璃镜底实物图，用游标卡尺测量三种玻璃镜底的厚度分别为0.7mm、1.5mm和2.0mm。图3.玻璃镜底实物图光纤微裂纹检测仪（OLI）测量结果如图4.所示，为5次测量平均后的结果，从图中可以看出三种镜底的测试厚度分别为1.075mm、2.301mm、3.076mm。图4.三种镜底厚度测试结果图三种玻璃镜底的材质一样其折射率一致，图4.中设备测得玻璃镜底厚度与游标卡尺测得厚度不一致，因为是在设备默认折射率n1=1.467下测得、实际玻璃镜底折射率为n镜=1.075*1.467/0.7=2.253，将设备折射率修改为2.253直接得出三款玻璃镜底的厚度为：0.699mm 、1.498mm、2.003mm，设备测得结果与游标卡尺测量偏差不超过5um，证明OLI非接触测试透镜厚度十分精准。3、结论使用光纤微裂纹检测仪（OLI）非接触测试各种透镜的折射率和厚度，其测量精度在亚微米级别，相对于接触式测量透镜厚度，精度提升很大，同时也避免测量时透镜表面被划伤。将光纤微裂纹检测仪（OLI）非接触式测量透镜厚度的方法应用到生产车间内，可形成自动化检测产线，无需人为干预即可准确甄别出质量不合格产品，极大提升生产效率。

2024-04-17 15:13:45如何用源表精确测量apd管的暗电流？: APD雪崩光电二极管是一种高性能光电探测器，它是一种PN结型光电二极管，具有高增益、高灵敏度和快速响应等特点。广泛应用于光电检测、传感、安检等各个领域。APD雪崩光电二极管的工作原理是基于光电效应和雪崩效应，当光子被吸收时，会产生电子空穴对，空穴向P区移动，电子向N区移动，由于电场的作用，电子与空穴相遇时会产生二次电子，形成雪崩效应，从而使电荷载流子数目增加，电流增大，实现光电转换。在APD的光电特性中，暗电流是一个重要的参数。暗电流是指在没有光照射的情况下，APD中由于热激发等原因导致的电子漂移和电子-空穴对产生而产生的电流，暗电流测试的准确性对于评估APD的性能和稳定性非常重要。在进行APD暗电流测试时，通常面临如下挑战：测试环境影响在进行暗电流测试时，需要确保测试环境中没有光照射，光照会激发APD中的载流子，导致暗电流的增加，从而影响测试结果的准确性。连接电路影响暗电流的测试通常需要提供一个反向偏压，纵观目前的电流表和电流计，都不具备提供偏压的功能，因此必须在电流表的回路中加入电压源。但这样会使测试系统变得复杂，引入更多干扰条件，导致暗电流的测试精度无法保证。目前暗电流测试的最佳工具之一是数字源表（SMU），数字源表可作为独立的恒压源或恒流源、伏特计、安培计和欧姆表，还可用作精密电子负载，其高性能架构还允许将其用作脉冲发生器、波形发生器和自动电流-电压(I-V)特性分析系统，支持四象限工作。采用数字源表进行暗电流测试时，需要注意以下事项：三同轴线缆连接APD暗电流测试连接线通常会选择使用低噪声、低电阻的导线，三同轴线缆具有良好的导电性能和抗干扰能力，适合用于传输微弱信号，可以减少测试过程中的干扰和误差。如下图三同轴线缆的半剖图，多层绝缘屏蔽具有良好的抗干扰能力。 (1导体;2绝缘;3内屏蔽层;4中间层;5外屏蔽层;6外护套)屏蔽外部电磁信号干扰测试系统架构图如下图所示，数字源表（SMU）连接到光电二极管上，该光电二极管安放在一个电屏蔽的暗箱中，为了对敏感的电流测量进行屏蔽使其不受外部干扰的影响，通过将屏蔽箱与数字源表（SMU）的低端相连，可以形成一个封闭的金属屏蔽环境，有效地阻止外部电磁干扰信号的进入，保护测试信号的准确性和稳定性。预留充足的测量时间在进行暗电流测试时，需要考虑测试时间的长短。通常情况下，这种现象可能是由于APD内部的一些因素导致的，例如载流子的生成和收集过程。随着测试时间的推移，由于暗电流源的累积或者其他因素的影响，暗电流会逐渐增加至一个稳定的数值。此外，对于测量得到的暗电流数据，需要进行适当的处理和分析，以确保测试结果的准确可靠。下图为普赛斯数字源表（SMU）测试完成后，上位机软件通过数据处理给出的测试结果以及测试曲线。测试结果测试曲线

2023-03-08 15:54:48精确控制自由基类型，实现特定选择性的光催化甲烷氧化: 1. 文章信息标题：Enabling Specific Photocatalytic Methane Oxidation by Controlling Free Radical Type中文标题：精确控制自由基类型，实现特定选择性的光催化甲烷氧化页码：2698-2707DOI：10.1021/jacs.2c13313 2. 文章链接https://doi.org/10.1021/jacs.2c133133. 期刊信息期刊名：Journal of the American Chemical SocietyISSN：1520-51262021年影响因子：16.4分区信息：中科院一区涉及研究方向：光催化4. 作者信息：第一作者是蒋雨恒、李思扬、汪时崐、张银。通讯作者为唐智勇研究员。5.仪器型号：升级版CEL-HPR100T在温和条件下利用水和氧气选择性转化甲烷生成甲醇和甲醛是一条用于合成液态化学品的理想途径。然而，在保证高产率的前提下调控反应的选择性仍然是一个巨大的挑战，这是由于控制目标产物的形成和过氧化反应的动力学是非常困难的。近日，国家纳米科学中心唐智勇课题组提出了一种通过合理设计催化剂来精确控制反应过程中形成的自由基的高效途径，借此首次在甲烷氧化反应中同时实现了甲醇和甲醛的高产量和高选择性。通过调节Au/In2O3催化剂中的能带结构和活性位点的尺寸（单原子或纳米粒子），分别形成了两种重要的自由基•OOH和•OH，这导致甲醇和甲醛通过不同的反应路径生成。在室温下光催化甲烷氧化反应3 h后，In2O3负载Au单原子催化剂（Au1/In2O3）对甲醛的选择性高达97.62%，产率为6.09 mmol g-1，而In2O3负载的Au纳米粒子催化剂（AuNPs/In2O3）对甲醇的选择性高达89.42%，产率为5.95 mmol g-1。本工作为设计复合光催化剂实现高效和选择性甲烷氧化开辟了新途径。1. 本工作提出了一种全面的策略，通过原子精确的方式同时控制半导体的能带结构和负载的助催化剂的尺寸，以实现高效和选择性的光催化甲烷氧化。2. 我们有意选择了立方In2O3，因为它的价带位置可以阻止氧化水到•OH的反应（方程3）。因此，•OOH和OH只由O2还原反应产生（方程1和2），同时，所有生成的空穴都用于甲烷氧化为•CH3自由基（方程4）。3. 考虑到负载助催化剂的尺寸可以调节氧气还原反应的选择性，Au是良好的电子受体，我们将Au单原子或Au纳米颗粒负载在In2O3上作为氧气吸附和还原的活性位点，分别生成•OOH或•OH自由基实现选择性的甲烷转化。因此，我们设计了•CH3 + •OOH → CH3OOH → HCHO （方程5）和 •CH3 + •OH → CH3OH （方程6）的反应路径用于甲烷选择性氧化。示意图1 光催化甲烷氧化的自由基反应途径以及对应的反应方程式。以往的工作主要关注尽可能地提高活性自由基中间体的浓度，我们关注的是对形成自由基类型的精确控制。由于In2O3载体具有合适的价带位置，高于水氧化到•OH的电位，却低于甲烷氧化为•CH3的电位，所以价带上的空穴全部用于将CH4转化为•CH3。同时，Au单原子和Au纳米颗粒上端式和桥式构型吸附的氧气被转移的电子还原，分别导致了•OOH和•OH的选择性形成。因此，优于之前所有的报道，我们获得了在模拟太阳光照射下利用Au/In2O3复合材料实现高活性和选择性的甲烷氧化为甲醛和甲醇。这项工作不仅为调节自由基生成机理提供了新的认识，而且为设计应用于重要且具有挑战性的反应的光催化剂提供了新的策略。产品推荐：CEL-HPR+光催化反应釜CEL-HPR+光催化反应釜高端版采用蓝宝石大视窗，采用双点控温（无冲温），标配控温搅拌和400mm行程自动升降平台；技术上采用最新的卡环法兰结构，模块加热，实现恒温定时和运行定时功能、在线取液体样和气体样品。更安全的设计，可24小时不间断工作。

2023-06-21 13:55:48《Small》：精确调控样品磁性！氦离子辐照改善磁畴壁动力学: 近年来，人们在不断探索新型低能耗，高存储密度的新型磁存储材料。特别是对于磁畴壁动力学、斯格明子等方面的研究吸引了大批科研人员的目光。随着研究的深入，制备出具有特定磁各项异性的材料并且进行精细的调控变的尤为重要。在对样品特性精细调控的技术中，利用氦离子辐照是对样品无损坏的一种高精度手段。氦离子辐照具有精度高、均匀性好、条件更加灵活、易于控制等优势，与其它改性方法相比，有利于器件或集成电路的大规模生产。基于此，法国Spin-Ion 公司经多年研发推出离子辐照磁性精细调控系统Helium-S®。该系统采用创新的离子束技术，可以通过超紧凑和快速的氦离子束设备精确控制原子间的位移，使其能够在原子尺度上加工材料，并通过离子束工艺来调控薄膜和异质结构。设备一经推出，便受到广大科学家的关注，截止目前已有20多家科研和工业用户以及合作伙伴使用该技术，国内也在北航和复旦等高校安装该系统，其独有的技术正受到来自相关科研圈和工业领域越来越多的认可。近期，来自于法国格勒诺布尔-阿尔卑斯大学CNRS-Institut Néel实验室的Stefania Pizzini团队联合法国Spin-Ion Technologies公司的两名工程师利用离子辐照磁性精细调控系统Helium-S®对Pt/Co/AlOx磁性薄膜进行了磁性调控研究。文章以“Improving Néel Domain Walls Dynamics and Skyrmion Stability Using He Ion Irradiation”为题发表在Small上。氦离子辐照量对样品的磁各向异性的影响文章讨论了使用离子辐照磁性精细调控系统Helium-S®对Pt/Co/AlOx三层膜的磁性能产生的影响。研究人员发现，氦离子辐照可以改善Néel磁畴壁的动力学和斯格明子的稳定性。辐照可以降低垂直磁各向异性（PMA），而不影响界面Dzyaloshinskii-Moriya相互作用（DMI）的强度。这使得磁畴壁可以在较低的磁场下达到更大的速度。该研究表明，将PMA与DMI分离对于基于磁畴壁动力学的低能耗设备的设计是有益的。同时，辐照还可以调节斯格明子的大小和稳定性，使其更加稳定并且可以在更高的磁场下存在。这些结果表明氦离子辐照可以对基于磁畴壁动力学和斯格明子的低能耗设备的设计产生积极影响。氦离子辐照量对样品的磁畴壁和斯格明子的影响该项工作中使用的离子辐照磁性精细调控系统Helium-S®已经成为磁性薄膜研究与性能调控的重要手段。该系统可以对直径1英寸的晶圆进行扫描辐照，具有精度高，可控性好等特点。应用领域：☛ 磁性随机存储器(MRAM)：自旋转移矩磁性随机存储(STT-MRAM)，自旋轨道矩磁性随机存储(SOT-MRAM)，磁畴壁磁性随机存储(DW-MRAM)等；☛ 自旋电子学：斯格明子，磁性隧道结，磁传感器等；☛ 磁学相关：磁性氧化物，多铁性材料；☛ 其他方向：薄膜改性，芯片加工，仿神经器件，逻辑器件等。产品特点：☛ 可通过超紧凑和快速的氦离子束设备精确控制原子间的位移，通过氦离子辐照可精确调控磁性薄膜或晶圆的磁学性质。☛ 可提供能量范围：1-30 keV的He+离子束☛ 采用创新的电子回旋共振（ECR）离子源☛ 可对25 mm的试样进行快速的均匀辐照（几分钟）☛ 超紧凑的设计，节省实验空间☛ 可与现有的超高真空设备互联离子辐照磁性精细调控系统Helium-S® 测试数据：调控界面各向异性性质和DMI 低电流诱发的SOT转换获取控制斯格明子和磁畴壁的动态变化用户单位已经购买该设备的国内外用户单位：Beihang University (China)Fudan University (China)University of California San Diego (USA)University of California Davis (USA)New York University (USA)Georgetown University (USA)Northwestern University (USA)University of Lorraine (France)SPINTEC Grenoble (France)University of Cambridge (UK)University of Manchester (UK)Nanyang Technological University (Singapore)A*STAR (Singapore)University of Gothenburg (Sweden)Western Digital (USA)IBM (USA)Singulus Technologies (Germany) 文章列表：[1]. Tailoring magnetism by light-ion irradiation, J Fassbender, D Ravelosona, Y Samson, Journal of Physics D: Applied Physics 37 (2004)[2]. Ordering intermetallic alloys by ion irradiation: A way to tailor magnetic media, H Bernas & D Ravelosona, Physical review letters 91, 077203 (2003)[3]. Influence of ion irradiation on switching field and switching field distribution in arrays of Co/Pd-based bit pattern media, T Hauet & D Ravelosona, Applied Physics Letters 98, 172506 (2011)[4]. Ferromagnetic resonance study of Co/Pd/Co/Ni multilayers with perpendicular anisotropy irradiated with helium ions, J-M.Beaujour & A.D. Kent & D.Ravelosona &E.Fullerton, Journal of Applied Physics 109, 033917 (2011)[5]. Irradiation-induced tailoring of the magnetism of CoFeB/MgO ultrathin films, T Devolder & D Ravelosona, Journal of Applied Physics 113, 203912 (2013)[6]. Controlling magnetic domain wall motion in the creep regime in He-irradiated CoFeB/MgO films with perpendicular anisotropy, L.Herrera Diez & D.Ravelosona, Applied Physics Letter 107, 032401 (2015)[7]. Measuring the Magnetic Moment Density in Patterned Ultrathin Ferromagnets with Submicrometer Resolution, T.Hingant & D.Ravelosona & V.Jacques, Physical Review Applied 4, 014003 (2015)[8]. Suppression of all-optical switching in He+ irradiated Co/Pt multilayers: influence of the domain-wall energy, M El Hadri & S Mangin & D Ravelosona, J. Phys. D: Appl. Phys. 51, 215004 (2018)[9]. Tuning the magnetodynamic properties of all-perpendicular spin valves using He+ irradiation, Sheng Jiang & D.Ravelosona & J.Akerman, AIP Advances 8, 065309 (2018)[10]. Enhancement of the Dzyaloshinskii-Moriya Interaction and domain wall velocity through interface intermixing in Ta/CoFeB/MgO, L Herrera Diez & D Ravelosona, Physical Review B 99, 054431 (2019)[11]. Enhancing domain wall velocity through interface intermixing in W-CoFeB-MgO films with perpendicular anisotropy, X Zhao & W.Zhao & D Ravelosona, Applied Physics Letter 115, 122404 (2019)[12]. Controlling magnetism by interface engineering, L Herrera Diez & D Ravelosona, Book Magnetic Nano- and Microwires 2nd Edition, Elsevier (2020)[13]. Reduced spin torque nano-oscillator linewidth using He+ irradiation, S Jiang & D Ravelosona & J Akerman, Appl. Phys. Lett. 116, 072403 (2020)[14]. Spin–orbit torque driven multi-level switching in He+ irradiated W–CoFeB–MgO Hall bars with perpendicular anisotropy, X.Zhao & M.Klaui & W.Zhao & D.Ravelosona, Appl. Phys. Lett 116, 242401 (2020)[15]. Magnetic field frustration of the metal-insulator transition in V2O3, J.Trastoy & D.Ravelosona & Y.Schuller, Physical Review B 101, 245109 (2020)[16]. Tailoring interfacial effect in multilayers with Dzyaloshinskii–Moriya interaction by helium ion irradiation, A.Sud & D.Ravelosona &M.Cubukcu, Scientific report 11, 23626 (2021)[17]. Ion irradiation and implantation modifications of magneto-ionically induced exchange bias in Gd/NiCoO, Christopher J. Jensen & Dafiné Ravelosona, Kai Liu, Journal of Magnetism and Magnetic Materials 540, 168479 (2021)[18]. Helium Ions Put Magnetic Skyrmions on the Track, R.Juge & D.Ravelosona & O.Boulle, Nano Lett. 2021 Apr 14;21(7):2989-2996参考文献：[1]. Cristina Balan, Johannes W. van de Jagt, et al. Improving Néel Domain Walls Dynamics and Skyrmion Stability Using He Ion Irradiation. Small, 2023. https://doi.org/10.1002/smll.202302039

2022-11-21 14:47:03Smaasher-T25全自动均质仪丨精确高效，让实验结果更: Smaasher-T25是ASHMAR SCIENTIFIC出品的一款全自动均质仪。Smaasher-T25可在无人值守的情况下，自动连续处理zui大36个样品。仪器自动完成加液、均质、清洗等步骤，减少溶剂的消耗量，避免人为操作引起的误差，提高实验结果的准确性和可靠性。Part.1以用户为导向的设计特点● 大尺寸彩色触摸屏界面易用好操作● 透明窗口实现加液均质过程的可视性● 图形可视化操作一键自动执行● 转盘自动识别使用更方便快捷● 防滴液挡板，刀头多重清洗防止交叉污染Part.2灵活的配置● 适配多种试管和样品管，多种样品盘架（含冰浴盘）● 适配不同规格刀头，多种功能模块可选配● 适配QuickTrace/WirbelMixer/VortexVap等设备Part.3产品应用● 应用领域：生物医药食品安全日常家化环境检测