发射扫描电子显微镜 - 产品信息 - 相关知识 - 仪器网

2025-01-24 09:31:48发射扫描电子显微镜: 发射扫描电子显微镜是一种高分辨率的显微成像设备，它利用聚焦电子束扫描样品表面，收集产生的二次电子、背散射电子等信号，形成样品的微观形貌图像。该显微镜具有高分辨率、大景深、样品制备简单等优点，广泛应用于材料科学、生物学、地质学等领域。通过调整电子束的能量和扫描速度，可以实现对样品表面的不同区域进行高精度成像，为科研工作者提供了强有力的分析工具。

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发射扫描电子显微镜资讯

预算540万元山东大学采购场发射扫描电子显微镜

近日，山东大学就场发射扫描电子显微镜采购进行公开招标，并于2025年01月09日 09点00分开标。

pddd852fr 125
2024-12-19
场发射扫描电子显微镜
预算540万元山东大学采购场发射扫描电子显微镜

近日，山东大学就场发射扫描电子显微镜采购进行公开招标，并于2024年12月18日 09点00分开标。

pddd852fr 147
2024-11-27
场发射扫描电子显微镜
预算540万元山东大学采购场发射扫描电子显微镜

场发射扫描电子显微镜招标项目的潜在投标人应在山东大学招标采购管理系统获取招标文件，并于2025年05月06日 14点30分（北京时间）前递交投标文件。

仪器赏析家 99
2025-04-15
场发射扫描电子显微镜
预算600万元陕西师范大学采购场发射扫描电子显微镜

陕西师范大学场发射扫描电子显微镜采购项目招标项目的潜在投标人应在线上通过邮箱：2644970372@qq.com获取招标文件，并于2025年12月08日 14点30分（北京时间）前递交投标文件。

ABC123 835
2025-11-18
场发射扫描电子显微镜
预算800万元北京大学采购三维切片场发射扫描电子显微镜

近日，北京大学就三维切片场发射扫描电子显微镜进行公开招标，并于2024年10月17日 14点开标。

pddd852fr 84
2024-09-26
三维切片场发射扫描电子显微镜

发射扫描电子显微镜文章

二手日本电子 JSM-7500 冷场发射扫描电子显微镜 SEM特点

文章尽量给出可对比的参数、型号与特征，并通过场景化的 FAQ 提供决策参考。

上海睿测电子科技有限公司 73
2025-12-09
二手日本电子 JSM-7401 冷场发射扫描电子显微镜‌ SEM特点

JSM-7401 冷场发射扫描电子显微镜（Cold Field Emission SEM），由日本电子（JEOL）公司制造，是一款性能、适用于高端科研的高精度显微镜。

上海睿测电子科技有限公司 68
2025-12-09
二手日本电子 JSM-7500 冷场发射扫描电子显微镜 SEM参数

该系列以冷场发射枪为核心，结合高稳定性真空系统和多模式成像能力，适合纳米材料、半导体器件、金属与陶瓷材料的微结构分析。下面以参数定位与实务要点为中心，提供便于对比的要素清单，并辅以场景化FAQ，帮助从业人员快速判断配置与可用性。

上海睿测电子科技有限公司 62
2025-12-09
二手日本电子 JSM-7401 冷场发射扫描电子显微镜‌ SEM参数

作为二手设备，JSM-7401 仍然具备强大的性能和的分析能力，尤其适用于要求高分辨率和高质量成像的实验室和科研环境。

上海睿测电子科技有限公司 64
2025-12-09
二手日本电子 JSM-7500 冷场发射扫描电子显微镜 SEM应用领域

对于实验室与工业现场而言，二手机型在成本与性能之间往往具有较高的性价比，尤其是在材料表观形貌、颗粒分布、界面特征以及微结构分析等方面的需求上，能够提供可靠的成像与定性定量信息。

上海睿测电子科技有限公司 55
2025-12-09

发射扫描电子显微镜产品

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: 场发射扫描电子显微镜 SU9000; 国外亚洲; 面议; 似空科学仪器（上海）有限公司
售全国; 我要询价联系方式

: 扫描电子显微镜-量子场发射扫描电子显微镜 SEM4000Pro; 国内安徽; 面议; 国仪量子技术（合肥）股份有限公司
售全国; 我要询价联系方式

: GeminiSEM 场发射扫描电子显微镜; 国外欧洲; 面议; 北京创诚致佳科技有限公司
售全国; 我要询价联系方式

: Apreo场发射扫描电子显微镜; 国外美洲; 面议; 赛默飞电子显微镜
售全国; 我要询价联系方式

: 发射扫描电子显微镜 ReguluS; 国外亚洲; 面议; 似空科学仪器（上海）有限公司
售全国; 我要询价联系方式

发射扫描电子显微镜问答

2022-02-09 11:34:47热场发射扫描电子显微镜JSM-7610FPlus: 二次电子像分辨率 0.8 nm（加速电压 15 kV），1.0 nm（加速电压 1 kV ）分析时 3.0 nm (加速电压 15 kV, WD 8 mm, 探针电流 5 nA ) 倍率 Direct magnification: x25 to 1,000,000（120 x 90 mm）Display magnification: x75 to 3,000,000（1,280 x 960 pixels）加速电压 0.1 ～ 30 kV 探针电流数 pA ～ 200 nA 电子枪浸没式肖特基场发射电子枪透镜系统聚光镜（CL）、最佳光阑角控制镜（ACL）、半浸没式物镜（OL）样品台全对中测角样品台、5轴马达驱动电子检测器系列高位检测器、　r‐过滤器　内置、低位检测器自动功能自动聚焦、自动消象散、自动亮度/衬度调节图像观察用液晶显示器屏幕尺寸 23英寸宽屏分辨率　1,920 × 1,080像素抽真空系统电子枪室／中间室　SIP 离子泵样品室　TMP 分子泵

2021-02-23 17:16:49蔡司场发射扫描电子显微镜灵活的探测: 蔡司场发射扫描电子显微镜主要优势有：灵活的探测，4步工作流程，的分析性能将的分析性能与场发射扫描技术相结合，利用成熟的 Gemini 电子光学元件。多种探测器可选：用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma 半自动的4步工作流程节省大量的时间：设置成像与分析步骤，提效率。Sigma 300 性价比高。Sigma 500 装配有的背散射几何探测器，可快速方便地实现基础分析。任何时间，任何样品均可获得可重复的分析结果。蔡司场发射扫描电子显微镜是基于成熟的 Gemini 技术Gemini 镜头的设计结合考虑了电场与磁场对光学性能的影响，并将场对样品的影响降至更低。这使得即使对磁性样品成像也能获得出色的效果。Gemini in-lens 的探测确保了信号探测的效率，通过二次检测(SE)和背散射(BSE)元件同时减少成像时间。Gemini 电子束加速器技术确保了小的探测器尺寸和高的信噪比。本文有蔡司显微镜厂家小编Pancy整理，更多关于蔡司场发射扫描电子显微镜相关的咨询

2020-01-17 14:32:23EBL在热场发射扫描电子显微镜上的应用: 简介：电子束曝光技术（Electron Beam Lithography）指使用电子束在表面上制造图样的工艺，是光刻技术的延伸应用。光刻技术的精度受到光子在波长尺度上的散射影响。使用的光波长越短，光刻能够达到的精度越高。根据德布罗意的物质波理论，电子是一种波长极短的波。这样，电子束曝光的精度可以达到纳米量级，从而为制作纳米线提供了很有用的工具。电子束曝光技术在半导体工业中被广泛使用于研究下一代超大规模集成电路。图形发生器及PC机（中科院电工所 DY-2000A）电子束曝光的设备实现电子束曝光技术有专门的仪器—电子束曝光机。也可以利用扫描电子显微镜作为平台，配置图形发生器软/ 硬件和工作站，按照提前设计好的图形，通过控制扫描电子显微镜的扫描线圈，使电子束按照一定顺序在光刻胶上完成曝光动作。日本电子（JEOL）JSM系列热场发射扫描电镜在EBL技术应用中的优势： 1.浸没式肖特基场发射电子枪，寿命长，Z大束流可达500nA。 2.束流稳定度高。 3.ACL（Z优角孔径控制镜），可在大束流下已经保持小电子束斑直径。这三者结合，在保证刻蚀精度和刻蚀尺度的情况下，实现了GX率。

2018-11-20 20:37:26场发射扫描电子显微镜的介绍:

2025-05-16 11:30:16扫描电子显微镜怎么聚焦: 扫描电子显微镜怎么聚焦：深入了解聚焦技术的关键扫描电子显微镜（SEM）是现代科学研究中不可或缺的工具，广泛应用于材料学、生物学、纳米技术等领域。其高分辨率和成像能力使得研究人员能够观察到微观结构的细节。SEM的高效使用离不开精确的聚焦操作，这直接关系到成像质量和实验结果的准确性。本文将详细探讨扫描电子显微镜的聚焦原理、操作步骤及常见问题，帮助用户更好地掌握SEM聚焦技巧。 1. 扫描电子显微镜的基本工作原理扫描电子显微镜通过电子束扫描样品表面，利用样品与电子束相互作用产生的信号来形成图像。与光学显微镜不同，电子显微镜使用电子代替光线，因此可以在更高的放大倍率下观察样品。聚焦则是确保电子束准确聚集到样品表面特定位置，产生清晰图像的关键过程。 2. 聚焦的关键步骤与技巧聚焦扫描电子显微镜需要精确调节电子束的焦距和扫描参数。具体步骤包括：调整电子枪：首先，通过调整电子枪电流和加速电压来确保电子束稳定。如果电子束过强或过弱，都会影响成像质量。粗聚焦与精细聚焦：通过调节物镜（或聚焦透镜）的电压，粗略地将电子束聚焦到样品上。之后，使用精细聚焦调节器，细致地调整焦距，确保图像清晰。扫描范围调节：确保扫描区域与样品的实际大小相匹配。过大的扫描区域可能导致图像模糊，过小则可能错过关键信息。 3. 聚焦时常见问题及解决方法在使用SEM时，聚焦不准是常见的问题之一。常见问题及其解决方法如下：图像模糊：可能是因为电子束未正确聚焦，需再次调整焦距或电子枪参数。焦点漂移：长期使用可能导致电子束位置漂移。此时需要重新校准仪器，检查电压和电流设置。样品表面不平整：表面粗糙或结构复杂的样品容易造成聚焦困难。应选用适当的放大倍率，并注意样品的处理和准备工作。 4. 聚焦技术的未来发展趋势随着电子显微镜技术的不断进步，聚焦技术也在不断发展。例如，自动化聚焦系统的出现大大提高了操作的度和效率，同时降低了操作人员的技能要求。未来，结合人工智能和机器学习的自动聚焦技术有望进一步提升扫描电子显微镜的性能，优化实验流程。结论扫描电子显微镜的聚焦技术是确保高质量成像的核心。在实际操作中，了解聚焦的基本原理，掌握聚焦技巧，并及时解决常见的聚焦问题，能够大幅提高实验的精确度与效率。随着技术的不断发展，未来SEM的聚焦过程将变得更加自动化和智能化，为科学研究提供更为强大的支持。

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