- 2025-01-21 09:30:56聚焦离子束
- 聚焦离子束（FIB）是一种利用静电场或电磁场将离子束聚焦成非常小的斑点，进行精确加工的技术。它基于离子与物质相互作用原理，通过离子束轰击样品表面，实现微纳加工、刻蚀、沉积等功能。FIB广泛应用于半导体行业、材料科学、生物医学等领域，用于器件修改、截面制备、三维纳米结构制造等，是纳米科技研究中的重要工具。
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聚焦离子束资讯
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- 近日，北京大学深圳研究生院就聚焦离子束扫描电子显微镜采购进行公开招标，并于2024年11月29日 08点30分开标。
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- 中国科学院青岛生物能源与过程研究所聚焦离子束电子束双束扫描电子显微镜采购项目 招标项目的潜在投标人应在http://www.oitccas.com （线上）获取招标文件，并于2025年05月13日 0
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- 美国FEI/赛默飞聚焦离子束/扫描电镜双束系统 供应
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- 赛默飞世尔 双束聚焦离子束扫描电镜 Arctis 冷冻等离子体聚焦离子束扫描电镜
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赛默飞电子显微镜
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似空科学仪器（上海）有限公司
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聚焦离子束问答
- 2020-07-14 10:37:29JIB-4000 聚焦离子束加工观察系统升级为JIB-400
- JIB-4000 聚焦离子束加工观察系统升级为JIB-4000PLUSJIB-4000 聚焦离子束加工观察系统升级了，新型号：JIB-4000PLUS。该设备为单束FIB装置，不仅可以对样品表面进行SIM观察 、研磨、及碳和钨等沉积，还可以为TEM制备薄膜样品和截面样品；可选3D观察功能、自动TEM样品制备功能，能对应多种制样需求。
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- 2018-11-30 07:22:54聚焦离子束的工作原理
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- 2018-12-15 01:16:57聚焦离子束系统与扫描电子显微镜各有哪些功能和特点
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- 2022-11-25 16:10:30离子束刻蚀（IBE）技术研究
- 离子束刻蚀（IBE）技术研究 1.离子束刻蚀（IBE）技术的原理？离子束刻蚀（IBE，Ion Beam Etching）也称为离子铣（IBM，Ion Beam Milling），也有人称之为离子溅射刻蚀，是利用辉光放电原理将氩气分解为氩离子，氩离子经过阳极电场的加速对样品表面进行物理轰击，以达到刻蚀的作用。刻蚀过程即把Ar气充入离子源放电室并使其电离形成等离子体，然后由栅极将离子呈束状引出并加速，具有一定能量的离子束进入工作室，射向固体表面轰击固体表面原子，使材料原子发生溅射，达到刻蚀目的，属纯物理刻蚀。工件表面有制备沟槽的掩膜，最后裸露的部分就会被刻蚀掉，而掩膜部分则被保留，形成所需要的沟槽图形。离子束刻蚀使高方向性的中性离子束能够控制侧壁轮廓，优化纳米图案化过程中的径向均匀性和结构形貌。另外倾斜结构可以通过倾斜样品以改变离子束的撞击方向这一独特能力来实现。在离子束刻蚀过程中，通常情况下，样品表面采用厚胶作为掩模层，刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。为了便于后面光刻胶的剥离清洗，一般需要对样品台进行冷却处理，使整个刻蚀过程中温度控制在一个比较好的范围。 图1 离子束刻蚀设备结构图图2 离子束刻蚀工艺原理图 2.离子束刻蚀（IBE）适合的材料体系？可用于刻蚀加工各种金属（Ni、Cu、Au、Al、Pb、Pt、Ti等）及其合金，以及非金属、氧化物、氮化物、碳化物、半导体、聚合物、陶瓷、红外和超导等材料。目前离子束刻蚀在非硅材料方面优势明显，在声表面波、薄膜压力传感器、红外传感器等方面具有广泛的用途。 3. 离子束刻蚀（IBE）技术的优点和缺点？a 优点： （1）方向性好、无钻蚀、陡直度高； （2）刻蚀速率可控性好，图形分辨率高，可达0.01um； （3）属于物理刻蚀，可以刻蚀各种材料（Si、SiO2、GaAs、Ag、Au、光刻胶等）； （4）刻蚀过程中可改变离子束入射角来控制图形轮廓，加工特殊的结构；b 缺点： （1）刻蚀速率慢、效率比ICP更低； （2）难以完成晶片的深刻蚀； （3）属于物理刻蚀，常常会有过刻的现象。 4.反应离子束刻蚀（RIBE）技术简介及优点？反应离子束刻蚀（RIBE）是在离子束刻蚀的基础上，增加了腐蚀性气体，因此它不但保留了离子束物理刻蚀能力，还增加了腐蚀性气体（氟基气体、O2）离化后对样品的化学反应能力（反应离子束刻蚀：RIBE），也支持腐蚀性气体非离化态的化学辅助刻蚀能力（化学辅助离子束刻蚀：CAIBE），对适用于化学辅助的材料可以大幅度提升刻蚀速率，提高刻蚀质量。 5. 离子束刻蚀（IBE）的案例展示 典型应用：1、三族和四族光学零件2、激光光栅3、高深宽比的光子晶体刻蚀4、在二氧化硅、硅和金属上深沟刻蚀5、微流体传感器电极6、测热式微流体传感器
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- 2024-12-30 13:30:12双聚焦磁质谱仪图片
- 双聚焦磁质谱仪图片：技术原理与应用 双聚焦磁质谱仪（Dual-Focusing Mass Spectrometer）是一种高精度、高分辨率的仪器，广泛应用于化学分析、环境监测、药物研究等多个领域。本文将详细介绍双聚焦磁质谱仪的工作原理、技术优势以及其在科学研究中的重要应用，同时提供相关的仪器图片，帮助读者更好地理解这一先进设备的构造和功能。 双聚焦磁质谱仪的工作原理 双聚焦磁质谱仪通过对离子的质量-电荷比（m/z）进行高精度测量，实现对复杂样本中微量物质的定性和定量分析。其核心原理是利用两个磁场对离子进行聚焦，从而提高分析的分辨率和准确性。 在典型的质谱分析中，离子源首先将样品转化为带电粒子，经过加速后，这些带电离子进入一个磁场。在个聚焦阶段，磁场会对离子按质量进行偏转，不同质量的离子会偏离不同的轨迹。然后，这些离子进入第二个聚焦系统，通过进一步的聚焦和分析，实现对离子群体的高效分离和检测。，质谱仪通过检测器记录离子的信号强度，从而获得质谱图。 双聚焦磁质谱仪通过优化两个磁场的设计，不仅提高了分辨率，还降低了离子信号的背景噪声，使得对复杂样本的分析更加。 双聚焦磁质谱仪的技术优势 高分辨率 双聚焦磁质谱仪的大优势之一就是其的分辨率。相比传统的单聚焦磁质谱仪，双聚焦技术能够更好地分离质量相近的离子，使得分析结果更加精确。这对于复杂的化学混合物或低浓度样品的分析尤为重要。 更强的灵敏度 双聚焦磁质谱仪具有较低的背景噪声，可以在更低的信号强度下进行精确检测。这使得它在微量成分分析、环境监测及药物检测中具有无可比拟的优势。 广泛的应用范围 由于其优异的性能，双聚焦磁质谱仪在生命科学、药物分析、食品安全、环境监测等领域都有着广泛的应用。例如，在临床诊断中，它可以用来检测血液样本中的微量毒素或药物成分；在环境科学中，它可以帮助科学家监测水质、空气质量中的有害物质。 双聚焦磁质谱仪的典型应用 生物医学研究 在生物医学研究中，双聚焦磁质谱仪用于蛋白质组学、代谢组学以及药物代谢的研究。通过高精度测量生物大分子和小分子药物的质量信息，研究人员可以了解药物在体内的代谢过程，进而改进药物的治果和安全性。 食品安全检测 双聚焦磁质谱仪在食品安全检测中发挥着重要作用。它能够有效检测食品中的添加剂、污染物以及微量的有害物质，从而确保食品的质量和安全。 环境污染监测 双聚焦磁质谱仪可用于检测空气、水体和土壤中的污染物，尤其是微量重金属和有机污染物的分析。这为环境保护提供了有力的技术支持，能够帮助相关部门监测和治理环境污染。 结语 双聚焦磁质谱仪凭借其的技术性能，已经成为现代科学研究中不可或缺的分析工具。其高分辨率和高灵敏度使其在多个领域中发挥着重要作用，无论是在基础科研，还是在工业应用中，都展现出了极大的价值。随着技术的不断发展，未来双聚焦磁质谱仪将在更广泛的应用领域中发挥更大作用，为科学技术的进步提供强有力的支持。
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