日立Ethos NX5000以卓越稳定性，应对微纳加工的严苛需求

首先老师利用Python语言自主编写控制程序，通过Ethos NX5000，采用C沉积工艺在Si基wafer上成功制备出100个精密三维结构。整个加工过程持续约14小时，对设备的样品台、离子束流、沉积气体系统及整体系统协同稳定性提出了极高要求。

硅基片上的100个精密三维结构              每个结构的细节图

*以上图片来自物理所微加工实验室张忠山老师团队，特此致谢。

样品台稳定性：在长达十余小时的加工中，样品台在倾斜54°的角度下实现了纳米级的定位精度保持，完全杜绝了因漂移导致的结构错位或缺陷，确保了100个结构均一的加工质量。

FIB束流稳定性：Ethos NX5000的聚焦离子束流大小稳定，无漂移，保证了在整个加工周期内沉积速率的一致性，从而实现了结构尺寸的精确控制与优异的重复精度。

沉积气体系统稳定性：C沉积过程对气体流量的稳定性极其敏感。NX5000的气体输送系统在整个14小时内保持恒定的流量与精准的响应，确保了沉积结构的均匀性与一致性。

系统的协同稳定性：NX5000并非各个模块的简单叠加，而是通过系统级的集成设计与控制，保障了电子束、离子束、气体注入、样品台等在超长时间运行中协同工作，完美规避了因系统波动而导致的加工失败。