1、样品台旋转，多样品同时镀膜时，镀膜厚度比较均匀。
2、预溅射挡板功能，刚开始镀膜的时候腔室里会有些杂质，挡板可以保护样品，提高薄膜质量
3、带有水冷系统，可以长时间溅射镀膜，厚度可达1微米以上。
4、直流磁控溅射，提高附着力，溅射速率快，比离子溅射快上一个量级。针对某些金属Z快能达到1-2纳米每秒，
5、不但可以电镜制样，还可以制作金属电极。
6、可扩展膜厚监测，监测薄膜厚度。
溅射仪使用需注
1 靶材需要良好的导电性, 如果具备这个条件 可以镀
2 遇到容易氧化的金属 需要配备分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氩气维持真空到1Pa左右镀膜的金属接近本色
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