三维光刻机的四种主要类型

       三维光刻光刻机（lithography）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

       三维光刻机的四种主要类型：

       1.光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。 

       2.手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了。 

       3.半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐。 

       4.自动：指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动三维光刻机 主要是满足工厂对于处理量的需要。

       一台高端的三维光刻机由上万个零部件构成，光刻机的主要核心部件主要分为两个部分：分别是对准系统和紫外光源。

　　目前对准系统主要有两大难题，精密的机械工艺和对准显微镜系统。精密的机械工艺目前只有美国、德国少数国家有这方面的专 利，而对准显微镜系统其实就是镜片，在这方面我国一直处于落后的状态。

　　关于紫外光源，三维光刻机对光源的要求十分高，一是要有适当的波长，二是光要有足够的能量，三是光能量且必须要均匀的分布在曝光区。