一、MOS 晶体管的基本原理
概述 MOS 晶体管的基本原理。同样也会围绕开关功能来描述。
什么是 MOS 晶体管
MOS 晶体管中,载流子要么是电子,要么是空穴,只能二选一,因此也可以把它叫作单极型晶体管。单极型的英文单词写作Unipolar(“uni-”是单一的意思),用来与 Bi-polar 进行区分,不过一般并不使用这个名字。器件是在施加电压、建立电场之后发生作用的,所以叫作场效应晶体管(FieldEfectTransistor,简称FET)。关于FET,后面还会进行解释。
所以MOS晶体管,全称应该叫作“金属氧化物半导体场效应晶体管",写作MOSFET,后面很多地方会使用 MOSFET这个名字。
必须强调的是,这是一种用电压来控制开关的器件,不同于用电流来控制开关的双极型晶体管。
MOS 晶体管中各部分的作用
常常有人把 MOS 晶体管比作水闸。其实MOS晶体管中各部分都可以和水闸的例子进行类比。
下图中,MOS晶体管的源极(Source)、漏极(Drain)和栅极(Gate).三个极可以分别理解为蓄水池、排水口和闸门。当MOS晶体管处于on 状态的时候,就是通过控制栅极的电压,打开沟道,使源极的载流子送到漏极。这就类似打开水闸,使蓄水池的水通过闸门流到排水口。当然,结合实际生产情况,水必须先流过并灌满水田,才会到达排水口。
在这种情况下,水的量就好比电的量。在高速型 MOSFET中,要求能够快速开关,就好像小型水田中,闸门都比较小,而且是用轻巧的材料制造的。而在功率型MOSFET中要求的是大电流,也就要求水流的渠道很宽,闸门也要更大更厚重。
MOS 晶体管开关的原理
在 MOS 晶体管中,依靠电压来控制开关状态,关键是中间的栅极施加在金属栅极上的电压,通过绝缘薄膜(薄膜电容),引起下层半导体中电荷分布的变化。半导体中的电荷分布改变,就在栅极下方形成了一个沟道(Channel,英文中也有海峡的意思)来作为载流子的通道,也叫作反型层。这时就相当于水闸打开,留出缝隙允许水流通过。当把栅极电压取消,反型层就会消失,闸口关闭。利用这个原理,就可以通过控制栅极的电压(简称“栅压”)来控制 MOS 晶体管的开关状态了。如下图:
这个例子其实是一个N沟道的晶体管,可以称为N沟道MOS晶体管,简称NMOS。所谓N沟道,是由N型的源极和漏极,夹住P型区域(沟道所在的区域)而构成的。与之相反的就是P沟道MOS型晶体管,简称PMOS。后面会介绍CMOS,就是将这两种 MOS 器件巧妙地结合在一起进行应用。
二、功率半导体的历史回顾
到这里为止,我们来回顾一下功率半导体的发展历史吧。
功率半导体的起源
晶体管是威廉·肖克莱于1947年发明的。第一个晶体管是使用锗单晶制作而成的点接触型晶体管。限于篇幅,更多内容此处不便展开。之前也说过,后来随着硅替代了锗成为半导体器件的主要材料,半导体产业的发展得到了迅速提升。半导体这种电子器件被应用于电力控制,因此在1973年左右,有了PowerElectronics(电力电子器件,或功率电子器件)这种说法。Electronics是指能控制电子的器件。在笔者的学生时代,把传信号电称为弱电;与之相对,把动力电(能量)称为强电。
很久之前,人们是用半导体、晶体管这样的称呼来统称所有的半导体器件的。笔者进人这个行业时所学习的人门书籍中,也是这样的说法。但记得很清楚的是,功率型MOSFET的说法,是从1960年开始使用的。笔者推测,自从1971年英特尔公司的1kbitDRAM 上市后,开始出现LSI这个词,半导体器件才开始出现各种各样的类别细分,直到变成现在这个样子。
顺便一提,LSI是大规模集成电路的意思,是英文Large Scaled Integration Circuit 的缩写。在此之前都是用的IC(Integrated Circuit 的缩写),也是集成电路的意思。现在的人不怎么用IC 这个说法了,但在20世纪80年代前期还是用得很多的。所谓集成电路,就是把晶体管、二极管之类的有源元件,还有电阻、电容之类的无源元件,集成在同一个载体上而形成的。
之后,功率半导体随着开发和改良,不断进步,出现了很多器件类型,比如后面将要提到的 IGBT。半导体整个发展历史都在下图做了总结。
如前面的章节所说,功率半导体的主要功能是电力转换。在号称能源社会的21世纪功率半导体就显得越发重要。前面也提到过,电信号分为直流(DC:DirectCurrent)和交流(AC:AltermatingCurrent)两种类型。一般用于电力传输的信号是交流信号,因为这样传输效率比较高。如果采用直流输电,由于电阻很大,会有很大的电力损耗(Loss)。交流转直流、直流转交流的装置是必不可少的,其中都少不了功率半导体的应用。
从水银整流器到硅控整流器
把交流信号转为直流信号,这个过程叫作整流。在功率半导体登场以前,担任整流任务的都是水银整流器。但是水银整流器是依靠真空中水银的放电现象来工作的,受到诸多制约,可靠性也很有问题。后来解决这个难题的是晶闸管/可控硅(Thyristor)。1956年GE会公司发明并推出了SCR(Silicon-Controlled Rectifer,硅控整流器),1963 年正式命名为 Thyristor。其工作原理将后面介绍。
之后,硅单晶的纯度越来越高,耐压性、电流强度等性能也在不断改善,于是功率半导体逐渐在半导体产业中占有一席之地。随着用途变得更为广泛,要求功率半导体能够承受更高的电压,这对硅单晶的品质提出越来越高的要求,而大电流化也要求更大尺寸的硅晶圆。关于硅单晶和晶圆制造的知识,都将在后面介绍。这些问题解决之后,功率半导体广泛应用的时代就开始了。如今,功率半导体也还在不断谋求性能的提升,后面将详细介绍。
水银整流器是在 20 世纪 60 年代后期才退出市场的,最后还在使用它的是电力机车。
硅材料以及其他新型材料
功率半导体的基础材料,现在依然是以硅材料为主流。但是作为未来发展趋势,有人正在尝试脱离硅,甚至有人提出了 Beyond Silicon(超越硅)的目标。碳化硅和氮化镓的性能都远远强于硅,它们的时代正在到来。另一方面,在先进大规模集成电路(LSI)的领域里,人们也早就提出了脱离摩尔定律的口号。无论是功率半导体还是LSI,业界的呼声都预示着以往的范式必须被颠覆。功率半导体的前途,极大地依赖于材料的创新,而根本性的创新一定要从半导体产业的最上游人手,才能清楚地找到自己的发展道路。关于新型材料的内容,将在后面详细介绍。
三、功率型 MOSFET 的登场
功率型 MOSFET中的“功率型”表示属于功率半导体,与LSI中的MOSFET进行区分。FET是Field Efect Transistor的缩写,意思是场效应晶体管。
更快的开关特性
功率半导体从20世纪50年代登场以来,随着双极型晶体管的广泛应用,一度进人了全盛期。但存在的问题也很多,其中之一是对器件的开关速度提出了更高的要求,而双极型晶体管在高速化方面的确是存在局限的。原因是由于双极型晶体管同时使用电子和空穴两种载流子,并以电流来控制开关,所以一般来说速度会比较慢。为了解决这一难题,场效应晶体管(FET:Field EfectTransistor),也就是如今的功率型 MOSFET 登场了。
MOSFET 概念的历史
其实场效应晶体管的雏形很早就出现了。早在 1930年,德国莱比锡大学的J·利连费尔德提出了最早的模型,并申请了专利。在他之后,同样因发明晶体管而出名的,是威廉·肖克菜,他在 1947年第一次尝试用锗晶体制作出点接触型场效应晶体管。1964年祖里格和泰格奈尔分别提出了功率型 MOSFET的概念,也就是如今的功率半导体。由此看来,场效应晶体管的确是历史悠久。
此外还有结型场效应晶体管(JFET,J=juncton,结合的意思),与MOSFET一样属于FET 的范畴。JFET现在几乎已经不再使用,也就不再提及。
双极型晶体管和 MOSFET的比较
双极型晶体管(Bipolar Transistor)和 MOSFET的区别,请看下图。图中说明了主要的区别,但是对细节做了省略。双极型晶体管中,有发射极、基极、集电极三个电极,对两个 PN结施加不同的偏压,从而控制其中的载流子流动。电流的开关状态,是由基极电流来控制的,所以是一种用电流来控制开关状态的器件。
另一方面,MOSFET有源极、漏极、栅极三个电极,上图中是P沟道 MOSFET器件,对栅极施加电压后,源极和漏极两个N型区域之间的P型区域发生反型(部分P型区域暂时反转为N型区域),形成允许电子流过的N沟道(Channel),只要源极和漏极之间存在偏压,就会有电流流过。
所以对比起来,双极型晶体管是电流控制器件,MOSFET是电压控制器件,这是两者在工作原理上的根本区别。双极型晶体管中有电流从基极流过,并控制着器件的开关状态。在 MOSFET中,向栅极施加栅压并超过阈值电压时,器件导通,反之则器件截止,但无论如何,栅极上只会有电压,而不会有电流。因此控制 MOSFET几乎不需要消耗电能非常节能,这是很大的优点。
另外,上图中,双极型晶体管和 MOSFET的N型区域和P型区域的配置方式也是不一样的。前者是PNP的组合方式,后者是两个N型区域,在中间的P型区域中形成N沟道。后续章节中还会继续讨论两种器件的区别。
四、双极型晶体管与 MOSFET 的结合--IGBT 的登场
这里我们简单回顾一下历史,看看IGBT是如何作为功率半导体领域的新星而登场的,以及它有什么特点。
IGBT 登场之前
双极型晶体管、功率型 MOSFET曾经是功率半导体的主打阵容。双极型晶体管比较能够耐高电压,但速度难以提高。而 MOSFET 具有一定的高速化的潜力,但是在器件构造还有耐压性上都存在困难。随着功率半导体应用范围的持续拓展,对耐压和高速开关的性能需求也日益紧迫。一定程度上,耐压和高速开关两种性能是互相矛盾的,也是个两难的命题。单纯地改进这两种器件的任何一种,都无法得到好的结果。但是IGBT的登场改变了这个情况。
IGBT 的特征
IGBT是 Insulated Gate Bipolar Transistor的简称,译为绝缘栅双极型晶体管。从名字上理解,是否就是一种带有绝缘栅的双极型晶体管呢?实际上,它与我们所了解的双极型晶体管和功率型 MOSFET 都不太一样。
简单来说,IGBT就是在PNP双极型晶体管上附加N沟道增强型MOSFET所形成的器件。可能有读者还不懂什么是N沟道增强型 MOSFET,这个我们将在后面介绍。下图展示了 IGBT的结构示意图。图画得非常简略,目的只是为了让读者了解:IGBT是“结合了双极型晶体管和功率型 MOSFET 双方优点”的一种器件。上方的MOSFET结构起到开关的作用,导通后允许电流纵向流动(沿着下方PNP型双极型晶体管的方向),并且电流值很大,符合功率器件的要求。这里所谓的纵向流动,其实是指电流在晶圆的厚度方向流动,就像功率型 MOSFET那样。从晶圆平面来看,开关是在水平方向起作用的,而电流是向晶圆垂直方向流动的。
IGBT 的设计结合了双极型晶体管和功率型MOSFET双方的优点。其中,MOSFET部分贡献了高速的开关性能,双极型部分贡献了大电流和耐压性能。与之类似,大规模集成电路(LSI)中也有集双极型晶体管和CMOS各自优点而成的BiCMOS器件,所以IGBT也可以理解成功率半导体版的 BiCMOS 吧。
如上图所示,IGBT是20世纪80年代出现的,具有高速度、大功率的优点,因此一上市就大受欢迎。例如,用二极管、滤波电容等将交流信号整流成直流信号后,如果需要再变成交流信号,就需要逆变器,IGBT由于其高速性,可以用来制造高速逆变器。第4章将会提到丰田的混合动力汽车(Hybrid Vehicle),还有新干线的N700系列车,都使用了IGBT 器件。
五、信号转换
这里简单介绍一下大规模集成电路(LSI)中是如何利用 MOSFET 进行信号转换的,希望能让读者对半导体知识有更广泛的了解。
什么是信号转换
我们曾经说过,功率半导体是实现电力转换的器件。与之相对的,数字电路作为目前LSI中的主要代表,就是实现信号转换的电路。这里我们将介绍数字电路的基本门电路,以及反相器(Inverter)的概念。基本门电路,是用来实现数字信号转换的基本器件。Inverter这个词,在功率半导体中我们也见到过了,当时说它是将直流电转换为交流电的逆变器。但在数字电路中,同样是Inverter,实现的功能却是0和1的转换。
下面笔者就以自己的方式,对信号转换这个概念做一个介绍。
在数字电路中,使用二进制来计数。读者熟悉的十进制计数法中,是用0、1、2.3……9这十个数字来计数的。但在二进制计数法中,只有0和1两个数字,然后用0、1、10、11、100……这样的方式来进行计数。
数字电路中,电压不再有具体数值,而是只有高(High)和低(Low)两个相对状态。二进制就是用1和0分别来表示“高”和“低”这两个状态,非常简单明了。两个状态会互相转换,在数字电路中,实现这种转换的器件就叫作反相器(Inverter),或是逻辑非门,简称非门。
请看下图,这里展示的是一个反相器的基本功能(a)、电路符号(b),还附上了真值表(c)供读者参考。
我们来看看典型的 CMOS 反相器的工作原理。
首先,所谓CMOS 就是 Complementary MOS 的简称,意思是互补型 MOS。看下图的左图就可以知道,CMOS是由一个N型MOSFET和一个P型MOSFET构成,将它们的栅极对栅极、漏极对漏极连接在一起,就构成了CMOS器件。栅极是信号输人端,漏极是信号输出端。
然后将P型MOSFET的源极与电源(Vdd)相连,将型MOSFET的源极与地线(CND)相连。数字电路中,电源就相当于二进制的1,地线就相当于二进制的0。将N型MOSFET(以后简称NMOS)和P型MOSFET(以后简称PMOS)的栅极对栅极连接在一起作为整个器件的输入极(in),漏极对漏极连接在一起作为整个器件的输出极(out)就可以实现反相器的作用了:
当在输入极(in)输入1(即高电压)时,只有NMOS导通,而PMOS是保持截止的(这里限于篇幅,具体原理不做解释)。相对应的,地线通过导通的NMOS与输出极(out)相连,于是就输出0的信号,与输人信号1正好相反。与之相反,当在输人极输入0时只有 PMOS 导通,而NMOS截止。于是,电源(Vdd)通过PMOS与out相连,输出1的信号,也与输人信号相反。
简而言之,CMOS的out信号总是与in信号相反,实现了信号的反向,这就是CMOS反相器的基本原理。
以上就是“Imverter”这个概念在功率半导体和大规模集成电路中的区别。针对同一个概念或事物,把它在功率半导体和大规模集成电路(后文都简称集成电路或 LSI)这两个不同领域中的相同点和不同点列举出来,从而更加认识功率半导体的特点。
功率半导体和大规模集成电路在制造工艺上的区别,将在后面讨论。另外,文中提到载流子的时候,在不同的例子中具体是指电子还是空穴,为方便读者记忆,只需记住:在NMOS中载流子就是电子,在 PMOS 中载流子就是空穴。
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