扫描电镜

Helios NanoLab 450 双束扫描电镜是一款先进的设备，专为半导体失效分析、工艺开发和工艺控制实验室设计。以下是一些关键特性：

1. 高分辨率成像与分析：Helios NanoLab 450 系列系统结合了创新的Elstar电子柱和UC技术，提供了亚纳米级的SEM和STEM图像分辨率。这使得设备能够提供高对比度的高分辨率成像，这对于半导体失效分析至关重要。
2. 双束技术：该系统结合了SEM（扫描电子显微镜）和FIB（聚焦离子束），能够进行高质量的成像和快速、精确的铣削与沉积。
3. 快速、精确的样品制备：Helios NanoLab 450S特别适合高通量、高分辨率的STEM样品制备、成像和分析。其独有的FlipStage和原位STEM探测器可以在几秒钟内将样品从制备状态翻转到STEM成像状态，无需破坏真空或暴露样品于环境中。
4. 先进的离子柱技术：Tomahawk离子柱结合了高分辨率和出色的低电压性能，不仅能够实现优秀的离子图像分辨率，还提供了精确的离子铣削，帮助确保在横截面操作中不会破坏宝贵的缺陷信息。
5. 自动化操作：该系统提供了自动化的设置和操作，简化了使用流程，减少了培训需求，并最大化了设备的使用效率，降低了拥有成本。
6. 广泛的应用领域：Helios NanoLab 450 双束扫描电镜适用于材料科学、微电子和半导体、汽车、实验室测试设施、显微镜实验室、机床制造商、钢铁工业、能源存储和太阳能材料工业、文化遗产检查、能源和石化公司等多个领域。
7. 提高生产效率：通过提供更快、更好的图像，Helios NanoLab 450 F1能够减少开发成本，加速工艺提升，并更快地将新产品推向市场。
8. 先进的STEM探测器：新的STEM探测器提供了更高的分辨率和更好的材料对比度，使得操作者能够精确知道样品何时足够薄，有时甚至可以完全消除对独立TEM分析的需求