KRI 离子源辅助蒸发沉积镀铝膜, 改善铝膜结构及耐腐蚀性

铝膜具有电位低, 在基体上附着性好、经济实惠, 同时铝膜与铝合金构建连接的紧固件表面, 防止发生电偶腐蚀破坏铝合金结构件. 除此之外, 铝做到耐腐蚀防护膜层时, 无氢脆现象, 不会影响基体的本身性能, 并解决了与钛合金连接件接触的电偶腐蚀等优点, 是优良的腐蚀防护材料. 因此, 铝膜在蒸发沉积镀膜中广泛使用。

蒸镀是在真空状态下, 将镀料加热蒸发或者升华, 使之在工件或基体表面沉积的工厂, 蒸镀具有简单便利、操作容易、沉积速率快等优点, 但存在膜基结合力不理想, 膜层不致密的缺点.

为了解决蒸镀的缺点, 某国内精密仪器镀膜制造商采用伯东 KRI 离子源进行辅助蒸镀.

该制造商采用伯东 KRI 射频离子源 RFICP 380, 同时为了为镀膜工业提供稳定的合适的真空环境, 伯东工程师为制造商搭配大抽速分子泵组 Hicube 700 Pro, 采用金属密封, 极限真空度可达1x10-7hpa, 抽速可达 685 L/s, 很好保证成膜质量.

美国 KRI 射频离子源 RFICP 380 特性:

1. 大面积射频离子源

2. 提供高密度离子束, 满足高工艺需求

3. 采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长, 更适合时间长的工艺要求

4. 离子束流: >1500 mA

5. 离子动能: 100-1200 V

6. 中和器: LFN 2000

7. 采用自动控制器, 一键自动匹配

8. RF Generator 可根据工艺自行选择离子浓度, EX: 1kW or 2kW

9. 离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装

10. 栅极材质钼和石墨, 坚固耐用

11. 通入气体可选 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others

离子源辅助蒸镀运行原理:

在蒸镀时, 通过 KRI 离子源的作用, 使Ar原子离化成Ar+, 产生辉光放点现象, 离子在电场中将蒸发出来的Al原子离化成Ar+, 这些等离子体在电场的作用下对基体进行轰击和镀膜.

运行结果：

蒸镀中由于离子辅助技术的注入, 改善了蒸镀铝膜的组织, 基膜结合力高、耐腐蚀性更好、提高了合金的微动疲劳抗力

上海伯东是美国考夫曼公司 KRI离子源的国内总代理商, 其中KRI 离子源主要型号有:

KRI 射频离子源 RFICP 系列： RFICP 380、RFICP 220、RFICP 140 、RFICP 100、 RFICP 40

KRI 考夫曼离子源 Gridded KDC 系列： KDC 160、KDC 100、KDC 75、KDC 40、KDC 10

KRI 霍尔离子源 Gridless eH 系列:eH 3000、eH 2000、eH 1000、eH 400、eH Linear

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