硅光电二极管(Si PD)是最基础的硅光电探测器,深入理解其工作特性有助于理解雪崩光电二极管(APD)。本文将以PD为起点,介绍其基本原理、输出电流及时间特性等,并在此基础上,进一步讲解雪崩光电二极管(APD)的增益特性。
在晶体硅中进行掺杂,形成P型和N型半导体,两者结合形成PN结。由于N区和P区之间的多数载流子浓度梯度较大,即电子从N区扩散,空穴从P区扩散至对侧并复合。复合过程会耗尽结两侧相邻区域的多数载流子,形成所谓耗尽层。如下图所示:
图1 PD工作原理
PD的电流特性
内部电场形成过程中,由于载流子的漂移运动和扩散运动逐渐在强度上形成平衡,载流子的净迁移停止,此时,如果通过外部能量源(如光子或热能)在耗尽层两侧产生过剩载流子,则可能打破这种平衡,引发结两侧的净电流。
这种外部能量可以是热激发,产生电子空穴对,并分别向两端移动,即产生所谓的暗电流;
这种外部能量可以是光子,即产生光电流。通常用光电流来表征光强,光电流从阳极流出,大小和光强成正比。
PD的时间特性
由于耗尽层外缺乏电场,载流子需依靠扩散和布朗随机行走到达耗尽层,之后才能在电场作用下快速漂移穿过PN结并被收集。
增加反偏电压,耗尽层深度增加,同时也会导致更多热生载流子被收集,那么暗电流也会增加。
类似于平行板电容器,通过增加反偏电压,增加耗尽层深度会减小PN结的结电容,从而提高光电二极管的频率带宽。
为进一步改善PN型光电二极管的频率响应和带宽,可在P区和N区之间引入本征硅区域,形成PIN型光电二极管。该本征区域可降低单位面积电容,从而提高截止频率和带宽。
图2 PN型和PIN型PD对比
光电二极管没有内部载流子倍增或增益机制。这些光电二极管的增益为 1,因此适合检测相对强的光信号。接下来,我们将介绍具有内部增益机制、适用于检测低光信号水平的雪崩光电二极管(APD)。
雪崩光电二极管APD全称:Avalanche Photo Diode,它具有高速、高灵敏度特性。常用于光纤通讯、激光测距、光谱测量、医学影像诊断、环境监测等方面。滨松提供各类封装(金属、陶瓷、表面贴装),单点/阵列,以及模块产品。
图3 长按下载APD技术使用指南
APD的核心优势
APD雪崩增益带来的最大优势,在于它能将原始光信号的幅值(相对于其自身的噪声)提升到足以压倒后续读出电路噪声的水平,从而显著改善系统的信噪比。
图4 APD雪崩增益效果
APD的增益原理
除了加深耗尽层外,增加PN结两端的反向偏置电压还会增强耗尽层中的电场。载流子在电场的作用下,速度会增加。这些载流子撞击晶格时可能使其电离,这种碰撞电离效应构成载流子倍增现象,使漂移的载流子数量迅速增加,类似雪崩过程。原始光生载流子数量与最终收集的电荷信号之间的载流子数量之比,即为雪崩过程的增益。
图5 APD工作原理
然而,APD的增益特性依赖于其工作条件。接下来,我们将介绍波长、温度与反向偏压这三个条件如何影响APD的增益。
对波长的依赖性
量子效率受光波长影响,这个是比较好理解的。此外,APD的增益也会受到波长影响,这个现象是比较有意思的。要理解这一点,需注意APD有两种可选的制造结构:N-on-P(近红外型)和P-on-N(短波长型)。
其原理在于:由于长波(如近红外光)的穿透力更强,往往在器件的更深区域激发产生光生载流子。同时,对硅材料而言,电子的电离率比空穴更高。在N-on-P结构中,由长波光子在深处激发的电子需要穿越更长的雪崩倍增区,从而经历更多的碰撞电离机会,因此,N-on-P结构在长波长响应方面具有更高的增益。类似的,P-on-N结构则在短波长响应方面具有更高的增益。如下图所示,该图清晰地展示了短波型和近红外型APD的灵敏度(即增益)随波长的变化趋势。
图6 短波型和近红外型APD的光灵敏度/增益随波长的变化
对温度依赖性
APD增益会随温度升高而降低。其物理机制是:在高温下,晶格的热振动(声子振动)增强,这就导致被电场加速的载流子与晶格发生碰撞的概率增加。这些碰撞会使载流子损失动能,当能量不足以碰撞电离出新的电子-空穴对时,雪崩倍增效应就会被抑制,新生的载流子数量减少,最终造成增益的下降。其变化趋势如下图所示。
图7 增益vs反偏电压曲线随温度的变化
因此,如果需要让APD的增益在工作过程中保持相对稳定,就必须对施加的反偏电压进行温度补偿。温度补偿的具体逻辑是:将温度传感器放置在APD旁边实时监测其结温。当监测到温度上升了1℃时,便根据该型号APD产品手册中提供的击穿电压温度系数,相应地将反偏电压提升一个对应的电压值,以抵消温度升高带来的增益下降。
对反偏电压的依赖性
APD增益随反向偏置电压的增加而增大,这个规律比较容易理解:反向偏压越高,耗尽区内的电场强度就越大,载流子在电场中被加速后获得的动能也就更大,其碰撞电离的概率(电离率)随之增高,从而导致增益增大。
从下图的增益-电压曲线可以看出,这条曲线上存在两个明显的拐点,分别在50 V和110 V左右。
图8 增益随反偏电压的变化
对于50V至110V,在对数坐标下更像直线,符合指数函数规律。对于110V至140V左右则适用于理想突变结近似拟合。
APD增益与反偏电压的拟合
APD的增益M与反偏电压V的关系,核心是基于雪崩倍增效应的物理模型。
雪崩光电二极管(APD)的增益M与反偏电压V的关系,核心是基于雪崩倍增效应的物理模型。
下面我们举个实际的测试案例:
APD型号:S3884
击穿电压值Vb:164 V@25℃
推荐工作电压值Vr:150 V@增益为100
环境温度:25℃。
图9 增益随反偏电压的关系
对于反偏电压远低于击穿电压的低增益区间时,我们使用以下指数函数公式进行拟合:
图10 低增益区拟合
对于反偏电压接近但未达到击穿电压时,我们使用以下理想突变结近似公式进行拟合:
图11 高增益区拟合
当APD工作在击穿电压附近时,增益急剧上升并且难以获取,我们可以注意到:暗环境下,当APD的反偏电压(158 V~161 V)接近击穿电压值(164 V)时,APD的暗噪声会迅速提升。
图12 击穿电压附近暗噪声迅速上升
APD最佳工作点计算
APD最佳工作点增益是指 APD 维持相对恒定带宽和稳定噪声输出时的最高增益水平,可以通过下图来进行估算,APD 的最佳工作增益通常在几十到一百左右。
图13 APD最佳工作点增益计算
计算示例:
在温度300K、光电流1μA、负载电阻50Ω、过剩噪声指数0.3的条件下,计算得到最佳增益约为27.6。
此外,APD的增益测试方法在此文章APD增益测量,2分钟掌握核心方法中有详细说明。
PD与APD是面向不同需求的解决方案,其核心区别在于是否具备内部增益。
PD (增益 = 1):结构简单稳定,成本较低,是强光信号探测应用的理想选择。通过反偏压优化和PIN结构,可满足大多数常规应用对速度和带宽的要求。
APD (增益 > 1):通过内部雪崩倍增效应提供高增益,专为微弱光信号探测设计,但需要更精细的电压控制和温度管理。
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