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【热点应用】XRF微区原位测定金属工件表面残余清洗剂的元素分布

来源:马尔文帕纳科 更新时间:2025-12-30 17:15:27 阅读量:40
导读:Zetium微小区域分析应用

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本文摘要

多层镀膜工件加工过程中,前一层表面活性剂的残留量将对后一层涂镀效果产生显著影响,所以要对工件表面残留的SDS总量和分布进行准确测量。本文通过XRF微区能谱分析技术配合无标定量软件,通过对金属工件表面硫元素分布测定,表征十二烷基硫酸钠残留分布情况。XRF无损分析方法方便快捷,同时可以输出含量对坐标的分布图。


引言


十二烷基硫酸钠(SDS,Sodium Dodecyl Sulfate)在电镀工艺中主要作为表面活性剂使用,其作用主要包括:


  • 润湿剂:SDS能显著降低电解液的表面张力,使镀液更容易均匀覆盖在金属基体表面,减少孔隙或漏镀现象。

  • 分散剂:SDS的胶束结构能分散电解液中的金属离子或添加剂,防止局部浓度过高,帮助形成更致密、平整的镀层。

  • 增溶剂:在含有有机添加剂(如光亮剂、整平剂)的镀液中,SDS可增溶疏水性物质,提高其在水相中的分散性,增强添加剂效果。


但过量SDS可能导致泡沫过多(需添加消泡剂)或影响镀液导电性。并且确保需与主盐、pH调节剂等兼容,避免沉淀或失效。由此,在多层镀膜工件加工过程中,前一层十二烷基硫酸钠残留量将对后一层涂镀效果产生显著影响。由此对于残留SDS总量与分布测定的关键性不言而喻。


本实验采用微区能谱法结合无标定量分析对工件表面残余SDS进行测定。


实验方法


样品为三件金属工件,尺寸为2.47*5.6mm。为保护样品信息,全程使用镊子夹取。


分析设备为马尔文帕纳科 Zetium X射线荧光光谱仪。该型设备内整合了高分辨相机、能谱分析核与步进电机。


通过高清相机对设备表面进行摄影,供使用者选出测定点位;通过衰减片将光管光斑控制为直径0.5mm尺寸,确保激发位置精确。 通过光学部件与样品的紧密耦合(即光管、探测器非常接近样品),同步多元素数据采集。电机步进为0.1mm,保障定位精准。


Zetium光谱仪搭载SuperQ软件,提供自动解谱、背景拟合、含量校准计算功能。并内置基于于FP的无标样分析软件Omnian,对未知样品进行准确定量  。客户仅需检查选定元素种类即可获得高可信度数据。


通过螺丝将样品固定在特制样品杯中,顶部使用塑料膜压紧固定。通过相机拍照如下:


1号样品

2号样品

3号样品

图1. 样品固定在特制样品杯中


测试条件如下:

X射线管功率为60kV/66mA;无需滤光片,使用SSM-高分辨衰减器,高分辨DSP模式,Omnian无标定量软件。


选择测量点位情况如下图所示:

1号样品

2号样品

3号样品

图2. 样品表面测量点位


Zetium

X射线荧光光谱仪


Zetium X射线荧光光谱仪具有创新的元素分析方法,SumXcore(即多核X射线分析技术)将波谱核和能谱核组合在一个平台上并行运行。提供优异的灵活性、高性能和多功能性。主要规格:

  • Na-Am的元素范围

  • ppm-100%的浓度范围

  • 为X射线高通量环境专门构建的SDD探测器

  • 可变信号衰减器,以实现优化性能灵活性

  • 高达1Mcps的高计数率能力

微小区域分析和Mapping

  • 最大样品直径35mm

  • 0.5mm的光斑区域

  • 步进为100μm

  • 照相机和创新的样品定位机制

  • 专门设计用于各种不同尺寸不规则形状样品的支架


结果与讨论


残余物质(十二烷基硫酸钠)可供测试元素包括碳、钠、硫,其中碳元素荧光产额极低,无法使用能谱核探测;钠元素信号峰与基地材质Zn的L线能量接近会受到强烈干扰;故本次使用硫元素含量计算SO3含量,代表十二烷基硫酸钠分布。三枚工件SO3分布如下:


图3. 1号样品SO3含量分布三维图


图4. 2号样品SO3含量分布三维图


图5. 3号样品SO3含量分布三维图


Conclusion

上述实验证明,Zetium光谱仪可通过能谱核测试硫元素,识别工件各部位十二烷基硫酸钠的残留情况;通过原位定点测试,可以直观地反映各部位残留差异。XRF分析技术不需复杂制样,可对原样直接分析,简化分析步骤,降低了人工操作的干扰,提高分析效率。



>>> 关于马尔文帕纳科

马尔文帕纳科(Malvern Panalytical)是全球材料表征领域的专家。随着Micromeritics和SciAps两个技术高度互补的新成员加入,进一步完善了马尔文帕纳科的材料表征解决方案。


马尔文帕纳科的使命是通过对材料进行化学、物性和结构分析,打造出更胜一筹的客户导向型创新解决方案和服务,从而提高效率和产生可观的经济效益。通过利用包括人工智能和预测分析在内的最新技术发展,我们能够逐步实现这一目标。这将让各个行业和组织的科学家和工程师可解决一系列难题,如更大程度地提高生产率、开发更高质量的产品,并缩短产品上市时间。

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