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半导体总排口监测如何确保稳定合规?FBM-160氟离子检测分析仪应用案例详解

来源:哈希水质分析仪器(上海)有限公司 更新时间:2026-01-20 13:15:25 阅读量:18
导读:半导体总排口监测如何确保稳定合规?FBM-160氟离子检测分析仪应用案例详解



背景介绍

上海市某半导体厂,专注于研发和制造专业应用的晶圆。晶圆生产工艺复杂,其中蚀刻工序使用氢氟酸溶液进行蚀刻、并用高纯水清洗,在这个工序中产生了大量的高浓度含氟废水,含氟废水经过加药、混凝沉淀处理后达标排放。

该半导体厂在总排口处安装了一台FBM—160 氟离子浓度分析仪。根据国标《污水综合排放标准》(GB8978-1996)以及上海市环境保护局发布的地方标准《半导体行业污染物排放标准》(DB31),该半导体厂执行三级标准,其总排口的氟限值为 20mg/L。

氟离子浓度分析仪的现场图如下图所示,控制器采用管式安装,电极采用浸入式安装。




哈希解决方案

FBM—160 氟离子浓度分析仪采用氟离子选择电极法,监测方法符合国标 GB7484-1987。氟离子浓度分析仪结构简单,氟离子电极现场采用浸入式安装,在无选配自动清洗组件的前提下,每月人工清洗一次电极,三个月校准一次电极。在正常维护条件下,每年更换一次氟离子电极。现场安装方便,维护较简单,测量值均低于20mg/L,和实验室比对数据良好,符合用户的测量要求。

FBM—160 氟离子浓度分析仪




总结

FBM-160 氟离子浓度分析仪采用国标方法监测——氟离子选择电极法,不消耗试剂,可更换电极头,减少维护费用;安装简单,可在现场采用浸入池中安装,也可以在排口采用流通式安装。可选配自清洗组件,减少用户的人工清洗工作;具备多个量程,0~99.9mg/L;0~999mg/L或0~9990mg/L,满足含氟废水进排口的不同测量范围需求。

FBM-160 氟离子浓度分析仪广泛应用于电子行业的含氟废水监测,在正常维护下,能够满足用户废水总排口的测量需求。




END

哈希——水质分析解决方案提供商,隶属于Veralto 集团,Veralto 是一家专注世界一流关键技术解决方案的全球知名企业,致力于为全人类创造更安全、更洁净、更具活力的美好未来。

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