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【实验分享】磁控溅射制备铜电极层

来源:沈阳科晶自动化设备有限公司 更新时间:2026-01-14 14:15:23 阅读量:27
导读:【实验分享】磁控溅射制备铜电极层

涉及产品简介


     VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司自主研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪和两个电源,一个射频电源用于非导电材料的溅射镀膜,一个直流电源用于导电材料的溅射镀膜,可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,且可使用的材料范围广,是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。
    PCE-6小型等离子清洗机的等离子腔体为 ?160mm×190mm的石英腔体,采用的射频电源功率为3.0MHz(1%),输出功率7.2W、10.2W、29.6W三档可调。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物,同时也可改变物体表面的性质(如亲水和疏水性等),对于基片的清洗以及薄膜处理是较为理想的设备。PCE-6小型等离子清洗机体积小,占用的空间少,可有效节约实验室空间。PCE-6小型等离子清洗机配有一个双旋真空泵,可对腔体进行抽真空,同时通入氩气等气体,适用于对易氧化的物品的清洗。



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