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hakuto 离子刻蚀机运用于 PDMS 软刻蚀用母模板研究
发布:伯东企业(上海)有限公司浏览次数:166西南某高校在 PDMS 软刻蚀用母模板研究中有采用到伯东 Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE .
Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE 技术规格:
真空腔
1 set, 主体不锈钢,水冷
基片尺寸
1 set, 4”/6”ϕ Stage, 直接冷却,
离子源
ϕ 8cm 考夫曼离子源 KDC75
离子束入射角
0 Degree~± 90 Degree
极限真空
≦1x10-4 Pa
刻蚀性能
一致性: ≤±5% across 4”
该 Hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE 的核心构件离子源是配伯东公司代理美国考夫曼博士创立的 KRI考夫曼公司的考夫曼离子源 KDC 75
伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC75 技术参数:
离子源型号
离子源 KDC 75
Discharge
DC 热离子
离子束流
>250 mA
离子动能
100-1200 V
栅极直径
7.5 cm Φ
离子束
聚焦, 平行, 散射
流量
2-15 sccm
通气
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力
< 0.5m Torr
长度
20.1 cm
直径
14 cm
中和器
灯丝
采用伯东 Hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE 刻蚀加工软刻蚀母模板具有操作步骤简单, 制备周期短的特点, 是一种有效的制备软刻蚀母模板的设备
若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :
上海伯东 : 罗先生 台湾伯东 : 王小姐
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2021-08-31相关仪器 -
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