-
产品文章
-
考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射沉积立方氮化硼薄膜
发布:伯东企业(上海)有限公司浏览次数:44立方氮化硼(cBN)由于具有高超的硬度/ 好的化学惰性/ 较好的热稳定性/ 高的热导率/ 在宽波长范围内(约从 200nm 开始) 有很好的透光性/ 可掺杂为 n 型和 p 型半导体等特点, 在切削工具/ 耐磨材料/ 光学元件表面涂层/ 高温/ 高频/ 大功率/ 抗辐射电子器件/ 电路热沉材料和绝缘涂覆层等方面具有很大的应用潜力.
在对立方氮化硼 (cBN) 薄膜研究中, 西北某金属研究所采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 辅助溅射沉积立方氮化硼 (cBN) 薄膜.
伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 技术参数:
型号
RFICP140
Discharge
RFICP 射频
离子束流
>600 mA
离子动能
100-1200 V
栅极直径
14 cm Φ
离子束
聚焦, 平行, 散射
流量
5-30 sccm
通气
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力
< 0.5m Torr
长度
24.6 cm
直径
24.6 cm
中和器
LFN 2000
该实验中, 采用的是射频溅射沉积的方法, 沉积基片为硅片, 热压的 hBN 作为靶材, 溅射气体为 Ar 和N2 的混合气体.
磁控溅射是物理气相沉积技术中一种手段比较丰富的方法, 可以通过控制调节镀膜参数, 得到更加致密, 均匀, 结合力出色的膜层, 而且磁控溅射属于干法镀膜, 不存在电镀化学镀中的镀液腐蚀基体和废液污染问题, 从环境保护的角度来看, 磁控溅射较电镀化学镀更加绿色环保.
实验结果:
采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 辅助溅射沉积立方氮化硼 (cBN) 薄膜时, 具有沉积的膜层颗粒尺寸小/ 薄膜中立方含量高/ 工艺可控性好等特点.
伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.
若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗先生 台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究!
2023-01-10相关仪器 -
免责声明
①本网刊载上述内容,并不代表本网赞同其观点或证实其内容的真实性,不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任
②若本站内容侵犯到您的合法权益,请及时告诉,我们马上修改或删除。邮箱:hezou_yiqi
-
认证会员 第 10 年
伯东企业(上海)有限公司
认证:工商信息已核实
- 产品分类
- 品牌分类
- 美国 Gel-pak 芯片包装盒
- Atonarp 过程控制质谱仪
- Europlasma 超薄等离子涂层设备
- 美国 Nor-Cal 真空元件
- 美国 ATC 空气泄漏测试仪
- 德国普发pfeiffer 氦质谱检漏仪
- 德国普发pfeiffer 气体质谱分析仪
- 德国普发pfeiffer 真空计,真空规
- 德国普发pfeiffer 分子泵
- 德国pfeiffer 旋片真空泵/干式真空泵/隔膜泵
- 德国普发pfeiffer 真空镀膜机
- KRI 考夫曼离子源
- 离子刻蚀机,电子蒸发镀膜机
- 美国 inTEST 高低温冲击测试机
- 美国 HVA 真空阀门
- 美国 inTEST 高低温测试机
- 美国 Thermonics 超低温冰水机
- 英国 NanoMagnetics 原子力显微镜
- 美国 Polycold 冷冻机
- 美国 Ambrell 感应加热电源
- (美国)美国inTEST- Temptronic
- (美国)美国Polycold
- (美国)美国KRI
- (德国)普发真空
- (美国)美国Ambrell
- (英国)英国纳米磁
- (美国)Thermonics
- (美国)Nor-Cal
- (美国)ATC
- (比利时)比利时Europlasma
- (英国)Gel-Pak
- (日本)Atonarp
- (台北)矽碁
-
仪企号伯东企业(上海)有限公司
-
友情链接
-
手机版开启全新的世界m.yiqi.com/zt2129/