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KRI 考夫曼射频离子源RFICP140辅助镀制 OSR膜层
发布:伯东企业(上海)有限公司浏览次数:42某光学薄膜制造商为了提高光学太阳反射镜OSR的膜层附着力, 采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 在镀膜前清洗光学太阳反射镜OSR.
伯东 KRI考夫曼射频离子源 RFICP140 技术参数:
型号
RFICP 140
Discharge
RFICP 射频
离子束流
>600 mA
离子动能
100-1200 V
栅极直径
14 cm Φ
离子束
聚焦, 平行, 散射
流量
5-30 sccm
通气
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力
< 0.5m Torr
长度
24.6 cm
直径
24.6 cm
中和器
LFN 2000
推荐使用 KRI考夫曼射频离子源 RFICP140是因为其束流密度、能量可以精确控制, 工艺刚好符合客户要求.
其工艺流程为:
在原有的真空镀膜机上安装一台KRI考夫曼射频离子源 RFICP140, 产生离子束. 离子束清洗应用在镀膜沉积前, 利用离子束轰击基片, 溅射基片表面的污染物进行净化, 同时也对基片表面除气.
先将清洗干净的石英玻璃基片放入真空室,再将系统的真空度抽至低于 5·10-4Pa, 然后充入工作气体氩气保持 5min 后, 打开离子源进行清洗. 清洗完毕后再次将系统的真空度抽至低于 5·10-4Pa,充入氩气至 0.3Pa 进行溅射镀银.
为了保证真空室的真空度, 客户采用的是伯东Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace1800, 其参数如下:
分子泵型号
界面 DN
抽速 l/s
压缩比
zui高启动压强mbar
极限压力
全转速气体流量hPa l/s
启动
时间重量
进气
排气
氮气
N2氦气He
氢气 H2
氮气
N2氮气N2
hPa
氮气N2
min
kg
Hipace 1800
200
40
1,450
1,650
1,700
> 1X108
1.8
< 1X10–7
20
4
33 – 34
运行结果:
KRI考夫曼射频离子源 RFICP140可以对基片表面进行有效的清洁、活化的, 有利于改善膜层附着力
若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗先生 台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
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2023-02-03相关仪器 -
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