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伯东KRI无栅霍尔离子源eH 3000辅助镀制高质量光学薄膜
发布:伯东企业(上海)有限公司浏览次数:41某大型工业薄膜制造商采用伯东 KRI 无栅霍尔离子源 eH 3000 辅助热蒸发技术镀制高质量光学薄膜, 以获得良好的机械性能和光学特性的薄膜, 同时获得与基体牢固结合和优良性能的高质量薄膜.
其工作系统如下图:
KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000最适合大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, eH 3000 是目前市场上最、高效, 提供最、高离子束流的离子源.
KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000 技术参数:
离子源型号
霍尔离子源
eH3000
eH3000LO
eH3000MOCathode/Neutralizer
HC
电压
50-250V
50-300V
50-250V电流
20A
10A
15散射角度
>45
可充气体
Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others
气体流量
5-100sccm
高度
6.0“
直径
9.7“
水冷
可选
F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current
该制造商的离子源辅助镀膜系统由霍尔离子源, 电源及控制系统和质量流量计 3 部分组成, 如下图:
其中霍尔离子源发射离子, 质量流量计向离子源提供气体并保证气流稳定, 电源及控制系统向离子源供电并保证放电参数放电电压及电流稳定.
KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000 运行结果:
1. 适用工业规模生产
2. 获得良好的机械性能和光学特性的薄膜
3. 获得与基体牢固结合和优良性能的高质量薄膜
伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.
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2023-02-07相关仪器 -
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