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KRI聚焦型射频离子源RFICP 380用于制备超薄TEM
发布:伯东企业(上海)有限公司浏览次数:37普通传统的制样减薄方法存在远端的薄区极易弯曲和薄区厚度不均匀的问题, 因此某机构采用伯东KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380 通过交叉减薄的方法制备超薄 TEM 样品.
交叉减薄
交叉减薄的过程利用 TEM 样品台的旋转来完成, 如下图.
TEM 样品台模型图
伯东 KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380 技术参数:
射频离子源型号
RFICP 380
Discharge 阳极
射频 RFICP
离子束流
>1500 mA
离子动能
100-1200 V
栅极直径
30 cm Φ
离子束
聚焦
流量
15-50 sccm
通气
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力
< 0.5m Torr
长度
39 cm
直径
59 cm
中和器
LFN 2000
推荐理由:
使用 KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380 可以准确、灵活地对样品选定的区域进行刻蚀、沉积和减薄.
运行结果:
1. 通过利用 KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380 和样品台交叉减薄得到的薄区非常均匀, 边缘整齐. 相比较传统减薄方法, 交叉减薄避免了样品在倾斜52°和56°减薄时出现的边缘收缩问题和远端薄区弯曲问题.
2. 对于复合材料大大降低了位于两相界面处薄区的厚度, 提高了样品质量, 提高了制样的成功率和效率.
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2023-02-15相关仪器 -
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