射频离子源RFICP 380持续轰击TiN薄膜获得更优秀性能

在制备 TiN 薄膜过程中, 离子持续轰击对 TiN 薄膜的结构和性能影响很大, 在离子持续轰击作用下能够获得性能优异的TiN薄膜.

为了获取性能优异的 TiN 薄膜, 国内某制造商采用伯东 KRI 射频离子源 RFICP 380 对 TiN 薄膜进行持续轰击. 工作系统简单示意如下图:

伯东 KRI 射频离子源 RFICP 380 技术参数：

美国 KRI 射频离子源 RFICP 380 特性:

1. 大面积射频离子源

2. 提供高密度离子束, 满足高工艺需求

3. 采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长, 更适合时间长的工艺要求

4. 离子束流: >1500 mA

5. 离子动能: 100-1200 V

6. 中和器: LFN 2000

7. 采用自动控制器, 一键自动匹配

8. RF Generator 可根据工艺自行选择离子浓度, EX: 1kW or 2kW

9. 离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装

10. 栅极材质钼和石墨, 坚固耐用

11. 通入气体可选 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others

应用结果：通过使用 伯东 KRI 射频离子源 RFICP 380 持续轰击 TiN 薄膜, 备的TiN 薄膜具有更致密的结构, 更光滑的表面, 更好的结晶性, 更优异的机械性能和更好的腐蚀性能.

其使用前（左）和使用后（右）对比图如下：

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

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