探针电子束光刻机（扫描探针电子束光刻系统P-SPL21）

公司推出的探针电子束光刻机P-SPL21,利用探针在近光刻胶表面发射低能电子的原理实现光刻效果。该系统的主要特点在于：
（1）几乎无邻近效应，能实现3-5nm线宽的超精细光刻结构；
（2）用于发射电子的探针同时具有原子力显微镜功能，能够实现亚纳米级精准定位并原位测量曝光图型；
（3）超高写场拼接精度（≤2nm），且能够抑制电子束长时间产生的空间漂移（≤5nm）。
百及纳米科技的探针电子束光刻系统能够实现光刻与原子力显微镜表征的双重功能，是一款理想的用于微纳制造和表征尺寸小于5nm线宽结构的一体化系统。