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美国KLA
KLA-Tencor成立于1975年，位于美国加利福尼亚州的米尔皮塔斯，致力于半导体（芯片）设备领域的探索。产品主要有芯片缺陷检测仪、芯片量测仪、实时等离子蚀刻晶圆温度测量系统、套刻量测系统、表面轮廓仪、纳米机械测试仪、芯片封装设备等，产品广泛应用于半导体产品研发、设计、制造、检测等领域。
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- 产品分类
- 品牌分类
- 原子力显微镜
- 晶圆厚度翘曲量测系统
- CMP化学机械抛光机
- 晶圆研磨减薄机
- MEMS研发制造设备
- 半导体光刻工艺设备
- 纳米压印光刻机
- 轮廓仪
- 台阶仪 膜厚仪
- 纳米压痕仪
- 晶圆封装工艺
- 缺陷分析仪
- AOI自动光学检测
- 失效分析
- （韩国）韩国Park Systems
- （美国）美国Nanovea
- （美国）美国KLA
- （德国）德国Osiris
- （德国）德国SENTRONICS
- （德国）德国G&N
- （瑞士）瑞士SCIL
- （瑞士）瑞士idonus
- （韩国）韩国CTS
- （瑞士）瑞士POWATEC
- （美国）美国Lumina
- （德国）德国Intego
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仪企号
倬昊纳米科技（上海）中心
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