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美国KLA白光干涉仪价格:面议
- 品牌: 美国KLA
- 型号:Profilm 3D
- 产地:美国
Profilm 3D是一款兼白光干涉 (WLI)和高精确度相移干涉 (PSI) 技术的经济型光学轮廓仪,其可以用于多种用途的高精度表面测量。Profilm 3D光学轮廓
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美国KLA filmetrics膜厚仪价格:面议
- 品牌: 美国KLA
- 型号:F20
- 产地:美国
美国Filmetrics光学膜厚测量仪,测量膜层厚度从15nm到450um。利用反射干涉的原理进行无接触测量,可测量薄膜厚度及光学常数。测量精度达到埃级的分辩率,测量迅速
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美国KLA台阶仪价格:面议
- 品牌: 美国KLA
- 型号:P7
- 产地:美国
KLA-Tencor先进的探针式台阶仪,可精确测量纳米级至2毫米台阶高度,并可分析薄膜表面粗糙度、波纹度、应力,集高测量精度、多功能性和经济性于一体,是生产线及材料分析等应用领域的理想选择。因其具有
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美国KLA G200纳米压痕仪价格:面议
- 品牌: 美国KLA
- 型号:G200
- 产地:美国
KLA-Tencor 是半导体在线检测设备市场的供应商;KLA-Tencor2018年3月从 Keysight Technologies 公司收购了行业的龙头产品-高精
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美国KLA
KLA-Tencor成立于1975年,位于美国加利福尼亚州的米尔皮塔斯,致力于半导体(芯片)设备领域的探索。产品主要有芯片缺陷检测仪、芯片量测仪、实时等离子蚀刻晶圆温度测量系统、套刻量测系统、表面轮廓仪、纳米机械测试仪、芯片封装设备等,产品广泛应用于半导体产品研发、设计、制造、检测等领域。
- 产品分类
- 品牌分类
- 原子力显微镜
- 晶圆厚度翘曲量测系统
- CMP化学机械抛光机
- 晶圆研磨减薄机
- MEMS研发制造设备
- 半导体光刻工艺设备
- 纳米压印光刻机
- 轮廓仪
- 台阶仪 膜厚仪
- 纳米压痕仪
- 晶圆封装工艺
- 缺陷分析仪
- AOI自动光学检测
- 失效分析
- (韩国)韩国Park Systems
- (美国)美国Nanovea
- (美国)美国KLA
- (德国)德国Osiris
- (德国)德国SENTRONICS
- (德国)德国G&N
- (瑞士)瑞士SCIL
- (瑞士)瑞士idonus
- (韩国)韩国CTS
- (瑞士)瑞士POWATEC
- (美国)美国Lumina
- (德国)德国Intego
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仪企号倬昊纳米科技(上海)中心
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