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CMP后晶圆清洗机价格:面议
- 品牌: 韩国CTS
- 型号:SWC-4000
- 产地:韩国
产品简介: SWC-4000型CMP后晶圆清洗机是美国NANO MASTER公司开发的一款科研级的高端清洗系统,用于去除晶圆在CMP工艺后晶圆表面污染物、残留物
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韩国CTS工业级CMP化学机械抛机价格:面议
- 品牌: 韩国CTS
- 型号:SAERO2K
- 产地:韩国
产品简介韩国CTS公司的SAERO2K型CMP抛光机是一款全自动工业级CMP系统,4寸,6寸,8寸可选,用于半导体工厂及批量量产。产品主要特色- CMP抛光头:采用气囊加载模式,3区压力分区控制,可
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韩国CTS 12寸科研级CMP抛光机价格:面议
- 品牌: 韩国CTS
- 型号:AP-300
- 产地:韩国
产品简介 韩国CTS公司的AP300型CMP抛光机是一款科研级的CMP系统,采用CTS公司工业级的设计理念,为科研工作者及先进制程开发公司提供了一套研究级别的高端
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韩国CTS研发级CMP化学机械抛光机价格:面议
- 品牌: 韩国CTS
- 型号:AP-200
- 产地:韩国
产品简介 韩国CTS公司的AP200型CMP抛光机是一款科研级的CMP系统,采用CTS公司工业级的CMP技术,为科研工作者及先进制程开发公司提供了一套
- 产品分类
- 品牌分类
- 原子力显微镜
- 晶圆厚度翘曲量测系统
- CMP化学机械抛光机
- 晶圆研磨减薄机
- MEMS研发制造设备
- 半导体光刻工艺设备
- 纳米压印光刻机
- 轮廓仪
- 台阶仪 膜厚仪
- 纳米压痕仪
- 晶圆封装工艺
- 缺陷分析仪
- AOI自动光学检测
- 失效分析
- (美国)美国KLA
- (德国)德国Osiris
- (德国)德国SENTRONICS
- (德国)德国G&N
- (瑞士)瑞士SCIL
- (瑞士)瑞士idonus
- (韩国)韩国CTS
- (瑞士)瑞士POWATEC
- (美国)美国Lumina
- (德国)德国Intego
- (韩国)韩国Park Systems
- (美国)美国Nanovea
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仪企号倬昊纳米科技(上海)中心
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