半导体检查显微镜

永新NX1000 系列工业检测显微镜精确成像，色彩还原度高——采用NIS45无限远光学系统，具有工作距离长，色差矫正能力强，成像锐利等优秀的光学品质。

徕卡DM12000M全新的光学设计,可以提供宏观模式快速初检,以及倾斜紫外光路功能(OUV, 倾斜紫外观察模式) 不单提升了分辨率还提高了检查12英寸(300毫米)硅片的产能。

徕卡 DM8000 M 提供了全新的光学设计，如理想的宏观检查模式 或者倾斜紫外光 (OUV, 随检UV 选择) 不但提高了分辨能力，同时也增加了观察8寸/200毫米直径大样品时的产量。

DM3 XL 检验系统凭借大视场帮助您的团队更快地识别缺陷，提高您的收益率。充分利用0.7X的宏观物镜，视场宽敞 30%。更更多细节尽收眼底，工作更高效。