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MIDAS光刻机
- 品牌:韩国MIDAS
- 型号: 无
- 产地:韩国
- 供应商报价: 面议
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- 详细介绍
※ 主要应用:MEMS、先进封装、化合物半导体、光电器 件、光电显示、生物芯片等微米级和亚微米级图形,尤其 在厚胶、碎片、边缘曝光等特殊工业有明显优势。
※ 用于0.8um线宽及以上的光刻工艺。
※ 常用样品尺寸:碎片-12英寸,最 大晶圆(客户定制)尺 寸可达500mm。
※ 支持单面对准、双面对准、红外对准和键合光刻,对准精 度0.5um。
※ 自动楔形补偿功能,保证光刻的均匀性和一致性。
※ 兼容纳米压印模块。
- 产品优势
- 光刻工艺是半导体工艺最关键的步骤之一,用于图形定义,直接决定半导体整线 工艺的水平。
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