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镀膜机

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镀膜机

镀膜机

镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面,通过成膜过程形成薄膜。溅射镀膜,利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。
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涂布机 C4-007

涂布机 C4-007

  • 品牌: 日本雅马拓
  • 型号: C4-007
  • 产地:日本
  • 供应商:柜谷科技发展(上海)有限公司

    用途:小型零部件从喷涂到干燥的流水线作业设备 特点 •喷涂室+传送带烘箱+排气系统。 •防爆构造,防火门设置。 •速度调整范围300-600mm/min。 •拥有温度传感异常、加热器断线、过升防止器、送风异常、排风异常、传送带异常、防火门、防止过电流的漏电保护开关等安全功能。 技术规格 品名 涂布机 C4-007         方式 强制送风循环 使用温度范围 80~100℃   温度调节精度 ±1℃(at100℃)             传送带 不锈钢制 速度300-600mm/min         排气方式 离心风机强制排气     涂装室 半自动式   电源 3相 AC380V  

SDI提拉式镀膜机MD-0408-S7

SDI提拉式镀膜机MD-0408-S7

  • 品牌: 日本SDI
  • 型号: SDI MD-0408-S7
  • 产地:日本
  • 供应商:北京东方德菲仪器有限公司

    1. 日本畅销的超低速浸渍提拉镀膜仪,速度可变范围从1nm/s到60mm/s。 2. 适用于纳米级分离膜的生成、粒子阵列和膜厚的形成。 3. 触控面板采用日语、英语两种语言,且可以一键式切换。

日本SDI浸渍提拉镀膜机

日本SDI浸渍提拉镀膜机

  • 品牌: 日本SDI
  • 型号: ND-0407-S5
  • 产地:日本
  • 供应商:北京东方德菲仪器有限公司

    1.可以提供超低速的常规垂直镀膜 2.可以通过调整θ角来获取提拉角度 3.可以采用不同的液体(例如交替吸附等)进行镀膜 4.独立运动和复合运动均可操作(在两个轴上) 5.具有可以连续点运行的新功能

SDI提拉式镀膜仪ND-0407-S5

SDI提拉式镀膜仪ND-0407-S5

  • 品牌: 日本SDI
  • 型号: SDI ND-0407-S5
  • 产地:日本
  • 供应商:北京东方德菲仪器有限公司

    1.可以提供超低速的常规垂直镀膜 2.可以通过调整θ角来获取提拉角度 3.可以采用不同的液体(例如交替吸附等)进行镀膜 4.独立运动和复合运动均可操作(在两个轴上) 5.具有可以连续点运行的新功能

SDI 镀膜机SD-0808-M2

SDI 镀膜机SD-0808-M2

电弧等离子体沉积系统

电弧等离子体沉积系统

  • 品牌: 日本Advance Riko
  • 型号: APD
  • 产地:日本
  • 供应商:QUANTUM量子科学仪器贸易(北京)有限公司

    电弧等离子体沉积系统利用通过控制脉冲能量,可以在1.5nm到6nm范围内精确控制纳米颗粒直径,活性好,产量高。多种靶材同时制备可生成新化合物。金属/半导体制备同时控制腔体气氛,可以产生氧化物和氮化物薄膜。高能量等离子体可以沉积碳和相关单质体如非晶碳,纳米钻石,碳纳米管 形成新的纳米颗粒催化剂。

英国HHV科研用真空镀膜系统 Auto500,Ats500

英国HHV科研用真空镀膜系统 Auto500,Ats500

  • 品牌: 英国HHV
  • 型号: Auto500/Ats500
  • 产地:英国
  • 供应商:深圳市蓝星宇电子科技有限公司

    Auto500是一套多功能的真空镀膜系统平台,主要用于科学研究、技术开发或试生产。其真空腔室采用了前开门的箱式设计,可以容纳大尺寸样品。通过可选择的设备配置能分别实现热阻蒸发、电子束蒸发及磁控溅射等各种物理气相沉积工艺,甚至也可以将前面三种镀膜工艺同时组合在一台设备里。

英国HHV Auto500 GB 适合手套箱集成的真空镀膜系统

英国HHV Auto500 GB 适合手套箱集成的真空镀膜系统

  • 品牌: 英国HHV
  • 型号: Auto500 GB
  • 产地:英国
  • 供应商:深圳市蓝星宇电子科技有限公司

    Auto500GB是专门设计用于手套箱集成使用的镀膜设备,满足氧气或水汽敏感的材料镀膜的应用要求。该系统配了一个特殊结构的真空腔室,可直接与市场上大多数手套箱集成到一起。真空腔室的前门可竖直滑动开关,嵌入手套箱内,并占用很少的手套箱空间;其后门是铰链扇式开关,能在不影响手套箱内气氛的情况下轻松维护腔室内工艺组件。

英国HHV Auto306 科研工作者和电子显微学家的多功能镀膜设备

英国HHV Auto306 科研工作者和电子显微学家的多功能镀膜设备

  • 品牌: 英国HHV
  • 型号: Auto306
  • 产地:英国
  • 供应商:深圳市蓝星宇电子科技有限公司

    Auto306可选择配置钟罩式玻璃腔室、圆柱形玻璃腔室,也可以配置通用的FL400前开门式不锈钢箱式腔室。FL400腔室具有额外的高度与宽度,适用于安装较多的工艺附件。

TF500/TF600 适合先进研发和试生产的全功能系统

TF500/TF600 适合先进研发和试生产的全功能系统

  • 品牌: 英国HHV
  • 型号: TF500/TF600
  • 产地:英国
  • 供应商:深圳市蓝星宇电子科技有限公司

    TF500/TF600 适合先进研发和试生产的全功能系统,具有高级工艺能力。系统配置可选择多种腔室尺寸和工艺附件,以精确的符合用户需求。这两个型号的系统都可以安装多个镀膜源,也都支持离子束处理选项。有一系列预进样室(Load Lock)和样品操纵装置可供选择,以提高真空镀膜效率。

法国Plassys超高真空多腔体电子束镀膜机 MEB550SL3

法国Plassys超高真空多腔体电子束镀膜机 MEB550SL3

  • 品牌: 法国Plassys
  • 型号: MEB550SL3
  • 产地:法国
  • 供应商:深圳市蓝星宇电子科技有限公司

    MEB550SL3法国Plassys超高真空多腔体电子束镀膜机,电子束蒸镀仪是纳米器件制备中必不可少的仪器,用于蒸镀各种高纯金属薄膜,如Ti, Au, Ni, Cr, Al, Al2O3等。电子束蒸发沉积法可在同一蒸发沉积装置中安装多个坩埚,使得可以蒸发和沉积多种不同的高质量金属薄膜。开展量子计算机实验研究,如基于金刚石NV色心,离子阱,超导量子结,量子点电子自旋的研究,均需要蒸镀各种高质量金属薄膜来制备量子器件,特别是在利用超导量子结来实现量子计算的实验研究中。

英国Oxford OpAL 开放式样品载入原子沉积(ALD)设备

英国Oxford OpAL 开放式样品载入原子沉积(ALD)设备

  • 品牌: 牛津仪器
  • 型号: OpAL
  • 产地:英国
  • 供应商:深圳市蓝星宇电子科技有限公司

    英国Oxford OpAL 开放式样品载入原子沉积(ALD)设备,提供了专业的热ALD设备,可以简单明了的升级使用等离子体,使得在同一紧凑设备中集成了等离子体和热ALD。

美国Denton Vacuum 金/碳镀膜机

美国Denton Vacuum 金/碳镀膜机

  • 品牌: 美国Denton Vacuum
  • 型号: Desk V
  • 产地:美国
  • 供应商:深圳市蓝星宇电子科技有限公司

    蒸发源的排放分布特性可用于确定真空室中用于生产均匀厚度涂层的正确几何形状。 在大孔径衬底上或者在装载有许多小衬底的架子上生产均匀厚度的涂层可以通过对装有测试件的架子进行重复试验来完成。从一次试运行到下一次试运行,有意改变了几何形状 - 例如蒸发源的偏移量增加了,直到找到**排列。

Nano-master 离子束刻蚀溅射镀膜一体机 NOC-4000

Nano-master 离子束刻蚀溅射镀膜一体机 NOC-4000

英国HHV科研用真空镀膜系统 Auto500,Ats500

英国HHV科研用真空镀膜系统 Auto500,Ats500

TF500/TF600 适合先进研发和试生产的全功能真空镀膜系统

TF500/TF600 适合先进研发和试生产的全功能真空镀膜系统

  • 品牌: 英国HHV
  • 型号: TF500/TF600
  • 产地:英国
  • 供应商:深圳市蓝星宇电子科技有限公司

    TF500/TF600 适合先进研发和试生产的全功能真空镀膜系统,具有高级工艺能力。系统配置可选择多种腔室尺寸和工艺附件,以精确的符合用户需求。这两个型号的系统都可以安装多个镀膜源,也都支持离子束处理选项。有一系列预进样室(Load Lock)和样品操纵装置可供选择,以提高真空镀膜效率。

英国Oxford Vacuum 电子束蒸发镀膜机Vapour Station 4

英国Oxford Vacuum 电子束蒸发镀膜机Vapour Station 4

  • 品牌: 英国Oxford Vacuum
  • 型号: Vapour Station
  • 产地:英国
  • 供应商:深圳市蓝星宇电子科技有限公司

    英国Oxford Vacuum 电子束蒸发镀膜机Vapour Station 4,该电子束蒸发镀膜仪是一款微纳器件样品制备系统,为有机无机多源有 气相分子沉积系统,高真空条件下,通过加热材料的方法,在衬底上沉积各 种化合物、混合物单层或多层膜,具有高真空多源有机、金属电阻蒸发及手 套箱保护条件下器件后期制作,主要用于有机半导体材料的物理化学性能, 研究实验、有机半导体器件的原理研究实验也可用于普通金属电极蒸发镀膜研究。

英国HHV桌上型溅射镀膜仪BT150和BT300 英国HHV桌上型溅射镀膜仪BT150和BT300,

英国HHV桌上型溅射镀膜仪BT150和BT300 英国HHV桌上型溅射镀膜仪BT150和BT300,

  • 品牌: 英国HHV
  • 型号: BT150,BT300
  • 产地:英国
  • 供应商:深圳市蓝星宇电子科技有限公司

    英国HHV桌上型溅射镀膜仪BT150和BT300,新系列小型桌上系统,触摸屏显示控制,适合于SEM及TEM电镜样品制备及常规科研的全功能系统。 咨询购买

日本SDI浸渍提拉镀膜仪

日本SDI浸渍提拉镀膜仪

  • 品牌: 日本SDI
  • 型号: MD-0408-S7
  • 产地:日本
  • 供应商:北京东方德菲仪器有限公司

    1. 可以对玻璃、有机玻璃、铜箔等基材以纳米级速度 (变速单位:1nm)进行浸渍镀膜。 2. 1nm/s的超慢速浸渍镀膜有利于分离膜的生成、粒子阵列重排、纳米级膜厚的形成。 3. 采用触控面板操作,可控16级变速程序,可控变速范围(变速单位:lnm/sec)、往复运转、存储8个运转模式。 4. 日语、英语显示可以一键式切换。

PECVD  MVS

PECVD MVS

  • 品牌: 美国MVSystems
  • 型号: MVS-PECVD
  • 产地:美国
  • 供应商:上海瞬渺光电技术有限公司

    薄膜沉积设备PECVD MVS公司简介MVSystems, Inc. 由曼登博士(Dr. Arun Madan)创建于1989年。曼登博士曾在英国丹迪大学从师于斯皮尔(Walter Spear)教授,是1970年代最早从事非晶硅材料和器件研究的人员之一。曼登博士在非晶硅薄膜晶体管(TFT)方面进行了开创性的研究,这是他的博士论文的主要内容之一。非晶硅薄膜晶体管现已成为平板显示器中必不可缺的重要器件。公司在薄膜半导体技术和先进的高真空半导体薄膜沉积设备方面拥有14项专利,包括:多腔室PECVD沉积系统 主要产品 ? 用于柔性衬底的Reel-to-reel多室系统 - 主要产品碳热丝化学气相沉积设备 掺氟纳米硅(微晶硅)材料P型宽带隙非晶硅材料 掺氟二氧化锡绒面透明导电膜(与日本Asahi公司合作)公司生产制造的80多台设备已销往全世界23个国家和地区。公司生产的主要薄膜材料和器件产品包括:材料器件非晶硅(a-Si:H)薄膜硅太阳电池纳米(微晶)硅 (nc-Si)薄膜晶体管氮化硅(SiNx),氧化硅(SiOx),氮氧化硅(SiON)成像器件氧化锌(AZO),铟锡氧化物(ITO), 二氧化锡(SnO2)X光探测器MVSystems公司设计,制造和提供各类单腔室和多腔室薄膜沉积设备。另外,根据用户的需求,各种PECVD,HWCVD,和PVD腔室可以单个制造,也可配备到现有的团簇型(星型)或是直线型沉积系。我们公司的工程设计部门尽可能为用户着想,以使用户们获取他们最需要的且价格合适的设备。R&D toProduction可用于研发和生产?PECVD等离子化学气相沉积?HWCVD热丝化学气相沉积?Sputter溅射?Anneal退火处理R&D Cluster toolsCluster tool w/ 8 port locations具有8个腔室的团簇型沉积系统15.6x15.6cm substrates衬底尺寸为15.6x15.6cmComputer controlled可完全由电脑程序控制操作运行PECVD, HWCVD and Sputter capability制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积,及溅射R&D Cluster toolsCluster tool w/ 10 port locations具有10个腔室的团簇型沉积系统15.6x15.6cm substrate衬底尺寸为15.6x15.6cmComputer controlled可完全由电脑程序控制操作运行PECVD, HWCVD, Sputter capability and in-vacuum characterization module制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积,以及溅射。另外,该系统还带有一个测试腔, 用于在真空中测试所制备样品的光电子性能。R&D Cluster toolsCluster tool w/ 8 port locations具有8个腔室的团簇型沉积系统30x40cm substrate衬底尺寸为30x40cmComputer controlled可完全由电脑程序控制操作运行PECVD, HWCVD and Sputter capability 制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积,及溅射。Silicon Nitride Coating Systems for Multi-crystalline Silicon Solar Cells用于制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备In-Line PECVD system for HIT junctions用于制备高效异质结太阳电池的直线型等离子体化学气相沉积系统Throughput: 18Reel to Reel Cassette SystemCassette houses flexible material卷筒用于装载柔性衬底材料Cassette transported from one process chamber to another via a robotic handler制备薄膜时,卷筒可由真空机器手从一个腔室输送至另一个腔室Advantages 此沉积系统的优点- Eliminates cross-contamination 在制备多层膜器件时消除了交互掺杂影响- Flexibility to adjust parameters on any part of the process. 制备薄膜时,能灵活控制各种运转沉积参数- Down time reduced, i.e. each chamber can be serviced independently 因每个腔室可单独维护,减少了停机非运转时Reel to Reel Cassette Cluster toolsCluster tool w/ 8 port locations具有8个腔室的团簇型沉积系统15cm and 30cm webwidth柔性衬底的宽度可从15cm至30cmComputer controlled可完全由电脑程序控制操作运行PECVD, HWCVD and Sputter capability制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积,及溅射Amorphous silicon- intrinsic and doped (n+ and p+ type).非晶硅本征和掺杂(n+ and p+ 型)膜。Nano (or micro) crystalline silicon (intrinsic and doped)纳米(或者微晶)硅 (本征和掺杂)膜。Dielectrics (SiNx, SiOx)介质薄膜(如SiNx, SiOx)。Transparent conducting oxides (ITO, AZO)透明导电薄膜 (如ITO,AZO)。Solar cells, TFT’s, imaging and memory devices etc. 太阳电池,非晶硅薄膜晶体管,电子成像和存储器件等。In-house Cluster ToolSubstrate: 30x40cmDC, RF, pulsed-RF, VHF

英国QuorumSC7620离子溅射镀膜仪

英国QuorumSC7620离子溅射镀膜仪

  • 品牌: 英国Quorum
  • 型号: SC7620
  • 产地:英国
  • 供应商:南京覃思科技有限公司

    仪器简介:SC7620溅射镀膜仪英国Quorum的SC7620是一台结构紧凑、价格低廉的磁控离子溅射镀膜仪。如与镀碳附件(CA7625F)结合使用,为理想的低价位扫描电镜溅射、镀碳系统。SC7620耐用、易操作。SC7620适合预算有限、需要高质量镀膜、仪器易操作的用户。对于常规应用,SC7620具有φ100(4″)的玻璃腔室,使用磁控溅射头,带有易更换的圆片靶(标配为金/钯合金)。溅射头为方便的铰链式,并具有电安全互锁装置。高压电缆带有屏蔽功能,以预防意外损坏。通过氩气针阀调整真空度,以改变等离子电流;气体注入系统可预设等离子放电。必备:推荐使用50l/m双级旋转机械泵(E5005F),随机配有油雾过滤器。如果想使用已有的旋转机械泵,确保它的容量为50l/m或更优是非常重要的。可选附件-镀碳仪SC7620可选配(CA7625F)镀碳装置,包括蒸发电源和碳丝头。镀碳附件很容易安装。用碳丝头替换铰链式连接的溅射头即可。为确保暴露在外的溅射头不被供电,安装了机电互锁装置,以确保溅射头断电。SC7620定单信息选择靶金/钯合金作为标配。与金相比,颗粒更细。金:通常为。铂:溅射颗粒尺寸比金和金/钯合金还要细小。溅射速率减慢,价格比金和金/钯合金昂贵一些。银:与其它金属比较,银镀层容易取下,较适用于博物馆和法院的样品镀膜。钯:用于X-射线微量分析时,常用来取代金、金/钯和铂。请访问:www.tansi.com.cn查看详细资料技术参数:靶所有的靶尺寸均为57mm直径x0.1mm厚(除非另外指定)SC502-314A 金靶SC502-314B 金/钯合金靶SC502-314E 银靶SC502-314F 钯靶SC502-314A/0.2MM 金靶,厚度0.2mmSC502-314B/0.2MM金/钯合金靶,厚度0.2mmSC502-314C/0.2MM铂靶,厚度0.2mm泵E5005F 50 l/m双级旋转机械泵,带有油雾过滤器(115/230 50/60Hz)E5006 替换的油雾过滤器可根据要求选用其它的泵,可选用国产泵。镀碳CA7625F蒸碳电源220 - 240V尺寸:340 x 355 x 375mm头:带有碳丝A0819(1m)的碳丝头CA0762F主要特点:价格低易操作磁控溅射头紧凑设计快速循环时间(典型为2-3分钟)可选碳丝蒸镀样品台高度可调快速换靶(标配为金/钯合金)符合所有新的安全标准:包括机电互锁,以确保使用镀碳附件时溅射头断电可靠耐用

Ossila浸渍提拉镀膜机

Ossila浸渍提拉镀膜机

  • 品牌: 英国Ossila
  • 型号: L2006
  • 产地:英国
  • 供应商:华仪行(北京)科技有限公司

    Ossila浸胶机性能zhuo越,内置软件操作简单,价格经济,是科研领域工作者理想的高品质涂胶工具。 浸胶式涂布是工业和科研领域应用广泛的薄片材料镀膜工艺。它可以控制基片从溶液中取出的速度,从而改变镀膜沉积膜的厚度。Ossila浸胶机使用高精度电机,可以极ng准控制膜片提出速度-进而控制涂层厚度,保证良好重复性。 Ossila浸胶机通过狭缝涂布机和注射泵的高精度平台,保证平台活动的高极ng准性,产生优质膜片,重复性好-每次都能如您所愿。本产品提供为期2年的质保,为使用者提供更高的保障。

精密刻蚀镀膜仪

精密刻蚀镀膜仪

  • 品牌: 美国Gatan
  • 型号: 682
  • 产地:美国
  • 供应商:科扬国际贸易(上海)有限公司

    仪器简介:型号682精密刻蚀镀膜仪(PECS) 用于SEM、TEM和EM方面的精密刻蚀镀膜系统 PECS是一台理想的具有斜面切割,样品刻蚀和离子溅射镀膜功能的仪器,其刻蚀和溅射镀膜系统中duyi无二的离子束能够形成镀膜范围大、干净以及可视的样品满足扫描电镜(SEM),透射电镜(TEM)以及光学显微镜(LM)的需求。PECS中duyi无二的设计结构使其成为非常通用的仪器,可选配型号682.40000的斜面切割工具,它是用于切割横截面部分的独特工具。技术参数:规格: 离子源 离子枪 三个潘宁离子枪与微型稀土永磁体 离子束能量 1.0 KeV 到10.0 KeV 离子束直径 刻蚀枪 5mm FWHM;溅射枪 1mm FWHM 离子电流密度 峰 10mA/cm2 气体流量 氩气 0.1cc/分/枪 刻蚀范围 根据离子枪能量为7mm-10mm不等 刻蚀速率 10.0keV下,硅材料约10m/小时,钨材料约3m/小时 Airlock组装 样品载台 接纳1英寸(31mm)金相套和多种SEM短截线 样本旋转速率 可变速率10-60 rpm 样品倾斜角度 固定角度或可变摇摆角度(0° - 90°) 样品摇摆速率 可变速率5°/秒 - 36°/秒 选配 用于侧插TEM的TEM适配器或SEM样品载台 镀膜 镀膜速率 10.0KeV下约0.5 /秒 碳 及 1.5 /秒 铬 镀膜范围 均匀直径超过30mm 耙材装置 一方双重耙材,可在真空状态下从外直接选择耙材 耙材材质 四种耙材选择(见详细清单) 厚度监控器 标准-显示镀膜速率和全部镀膜厚度 真空 干燥泵系统 两个部分,隔膜泵搭配一个70 升/秒涡轮泵 压力 5E-6 托(6.6E-4Pa)基本压力 6E-5 托(8E-3Pa)工作压力 真空计 样品腔冷阴极规,搭配固态压力传感器 样品调换 Gatan专利 WhisperlokTM,样品更换时间<1分钟 液态氮阀 约5小时容量(标准) 活性碳过滤器 真空排气装置,以减少碘蒸汽排放到安全标准 尺寸及功率 总尺寸 560mmW x 480mmD x 430mmH (22W x 19D x 17H) 货运重量 45kg (100 lbs) 电源要求 通用电压 100VAC-240VAC,50/60Hz 用户需确定电源型号以保证正确的线路 能量消耗 运行时需200瓦特,离子枪关闭时需100瓦特 气体需求 氩气 70psi (4.82 bar) 替代气体(其它惰性)20psi (1.38 bar) 碘蒸汽用于反应离子束刻蚀(结晶碘由用户自行提供)主要特点:湿化学刻蚀的替代或补充 可控的重复性结果(离子枪电压,离子束电流和刻蚀时间) 刻蚀和镀膜在同一真空腔内进行减少样品处理 样品刻蚀后立即镀膜,排除样品污染 包括一个膜厚度监控器精确控制薄膜厚度 高样品生产量,专利Whisperlok能快速、简单进行样品交换 Whisperlok具有使样品同时旋转和摇动保证刻蚀和镀膜均匀的特点 反应离子束刻蚀(RIBE系统) 无化学处理或操作安全 PECS使用手册 一般来说,如果材料的组成具有不同的化学性质,通过常规化学刻蚀方法不可能揭示一种不同组成的材料其各个相的结构。但离子束刻蚀技术在这些实例中效果不错。这种方法在金相学中比较重要的一个用途是用于具有极端不同化学潜能的金属化学物的刻蚀。应用实例显示,通过离子束刻蚀方法可以证明不同种类材料是通过不同加工工艺制得。 测试过程和结果 PECS(精密刻蚀镀膜系统)中包含离子束刻蚀系统。系统中的大离子束源产生一个光束直径为10mm的垂直入射离子束源给样品,根据离子枪参数(离子枪电压和离子束电流)。使试样倾斜,如改变入射角以及刻蚀过程中旋转试样,刻蚀直径可以进一步扩大。虽然金属的各种化学组成非常不同,离子束刻蚀却可以同时且完全地揭示各化合物的结构。DIC(微分干涉对比)可以用来增强由离子轰击产生的刻蚀引起的特性反差。单个化合物溅射范围在优化离子束刻蚀复合材料方面具有重要作用。虽然表面层和底层化学特性有巨大差异,但是其溅射范围相近。 可选配斜面切割工具 型号682.40000斜面切割工具(SC-Tool)- 提供均质/非均质材料横截面可组合切割并最小化减少其机械变形或损坏。 现有 使用精密刻蚀镀膜仪(PECS)的SEM技术是一本32页的小册子,配以使用Gatan PECS得到的高质量照片以及利用PECS如何达到**结果的“方法”。主要包括清洁、镀膜、刻蚀、金相、EBSD、DIE包覆、以及碳、铬、铂、金、钯的溅射速率表。。

伯东公司真空镀膜机

伯东公司真空镀膜机

  • 品牌: 德国普发真空
  • 型号: pfeiffer classic系列
  • 产地:德国
  • 供应商:伯东企业(上海)有限公司

    伯东公司德国普发pfeiffer 镀膜机-灵活设计适合技术研究、开发和生产,可实现高真空蒸发镀膜,磁控溅射镀膜,离子镀.Pfeiffer Classic 系列镀膜机(高真空镀膜系统)经过大量实验和技术知识积累研发设计主要应用领域: 光学,微电子学,显示屏,光电工程,生物医学工程等行业.价格电议:021-50463511Pfeiffer 镀膜机主要型号包含:Pfeiffer Classic 250 镀膜机(低成本实验室系统,用于开发研究)Pfeiffer Classic 500 镀膜机(的镀膜机,用于系统研究、开发和批量生产)Pfeiffer Classic 570 镀膜机 (紧凑设计适合工业使用)Pfeiffer Classic 580 镀膜机 (通用的制造系统,满足最高工业需求)Pfeiffer Classic 590 镀膜机 (高吞吐量,通用的制造系统,满足最高工业需求)Pfeiffer Classic 620 镀膜机 (最大吞吐量)pfeiffer 镀膜机主要优势:可搭配多种泵组(涡轮分子泵、低温泵或油扩散泵)pfeiffer 镀膜机真空腔体可冷却可加热,极限真空度最高可达 < 5 10-7 mbar,腔体漏率 < 1 10-5 mbar l/s真空腔体大小 35 至 1300 l(特殊尺寸可定制)镀膜机各种尺寸大小,根据实际应用和气体吞吐量决定内置各种标准配件,坚固耐用满足严苛工业环境低运营成本,易维护,兼容洁净室通过附加配件升级镀膜机功能pfeiffer 镀膜机所有真空腔体均是不锈钢材质pfeiffer 镀膜机工艺:pfeiffer 镀膜机蒸镀过程优势:抗反射涂层耐划伤性涂料激光面镜接触金属化合金的沉积(Co-evaporation)pfeiffer 镀膜机磁控溅射介绍:除了高真空蒸镀系统,伯东公司德国普发pfeiffer 也提供磁控溅射腔体可选load-lock.相应型号Classic 250 to 570,有标准版本供选择或根据溅射过程选择(SP)定制版本可用于:金属层(金、铜、铝、铬、…)电介质层(二氧化硅,氧化铝,…)透明导电层(ITO磁层合金的沉积(co-sputtering)伯东公司 主要经营产品 德国 Pfeiffer 涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵; 应用于各种条件下的 真空测量(真空计, 真空规管); 氦质谱检漏仪;质谱分析仪;真空系统以及 Cryopump 冷凝泵/低温泵, HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机和美国KRI 离子源.伯东公司协助客户选型并提供完善的售后服务,我司将竭诚为您服务!若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请登录我们网站: www.hakuto-vacuum.cn或与市场部: 叶南 小姐联系Tel: 86-21-5046-3511转106Fax: 86-21-50461490Mobile: 86 13816124243E-mail: ec@hakuto-vacuum.cn

狭缝挤出型涂布机

狭缝挤出型涂布机

  • 品牌: 韩国DCN
  • 型号: Slot Die Coater
  • 产地:韩国
  • 供应商:科睿设备有限公司

    适用于高精度大面积表面涂布,平板型或 卷对卷涂布

沉积用等离子体

沉积用等离子体

  • 品牌: 德国relyon plasma
  • 型号: plasma deposition
  • 产地:德国
  • 供应商:科睿设备有限公司

    大气压等离子体纳米涂布及沉积 无需真空环境,在大气压下进行涂布、沉积。

派瑞林镀膜设备

派瑞林镀膜设备

多功能镀膜系统

多功能镀膜系统

Easy-200半自动封板机/封膜机/压膜机

Easy-200半自动封板机/封膜机/压膜机

  • 品牌: 北京莱普特
  • 型号: Easy-200
  • 产地:北京
  • 供应商:北京晨曦勇创科技有限公司

    产品介绍:Easy-200半自动封板机/封膜机/压膜机是一款通过热封各种专用热封膜来防止各种微孔板(PCR板、深孔贮存板、酶标板以及细胞培养板)在检测过程中的蒸发、泄漏引起的样品损失及空间交叉污染的封膜仪器。该机外观设计简洁大方,操作简单,封板压力灵活可调,标准板到深孔板皆可适用,适用板类范围更广。封板温度和封板时间都可灵活设置,快速加热,实时显示封板的温度。适用普通胶封膜、热封膜、可穿刺热封膜、光学热封膜(定量PCR)、热封膜。替代手工封膜,保证封板牢固,密封操作自动化,均匀的压力保证封膜效果均匀一致。

钙钛矿太阳能电池连接单镀膜机手套箱

钙钛矿太阳能电池连接单镀膜机手套箱

  • 品牌: 北京伊特克斯
  • 型号: Lab2000
  • 产地:北京
  • 供应商:伊特克斯惰性气体系统(北京)有限公司

    伊特克斯Lab2000钙钛矿太阳能电池镀膜机手套箱一体机,用蒸发镀膜与手套箱组合,实现蒸镀、封装、测试等工艺全封闭制作,使整个薄膜生长和器件制备过程高度集成在一个完整的可控环境氛围的系统中,消除有机大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响,保障了高性能、大面积有机光电器件和电路的制备。专为研究材料科学、化学、半导体及相关行业所设计的,广泛应用于制备纳米材料和电池电极材料。

Ossila浸渍提拉镀膜机

Ossila浸渍提拉镀膜机

  • 品牌: 英国Ossila
  • 型号: L2006
  • 产地:英国
  • 供应商:赛莱博(北京)科技有限公司

    英国Ossila公司浸渍提拉镀膜机性能zhuo越,内置软件,操作简单,价格经济,为科研领域工作者提供一款理想的适用于液相镀膜制备而设计的精密仪器。目前在化学、材料科学的研究中,被广泛应用于溶胶-凝胶(sol-gel)法薄膜材料制备。如硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金属等所有固体材料表面薄片材料镀膜工艺,可以极ng准控制膜片提出速度,进而控制涂层厚度,保证良好重复性。提供2年的质保,为使用者提供更高的保障。

超声波喷涂机 超声雾化薄膜喷涂 镀膜机

超声波喷涂机 超声雾化薄膜喷涂 镀膜机

  • 品牌: 上海埃飞
  • 型号: Datamaker
  • 产地:上海
  • 供应商:上海埃飞电子科技有限公司

    超声波喷涂机 超声波雾化薄膜喷涂机 原理    功率源采用大功率超声波换能器,整机由超声波换能器、变幅杆、雾化头、专用超声波发生器组成。换能器驱动雾化头作高频振动,对水或其他液体施加超声波作用力,将流动的液体打散成细微颗粒、喷向空中,从而达到喷雾(雾化)的目的。该设备以其独特的轻柔喷雾特征,大大减少了反喷,从而降低了成本以及对周围空气的污染,同时这种新技术也拓展了更多的应用领域,例如在要求喷洒低流量下就十分理想。此外对于基片喷涂、雾化加湿、喷雾干燥、网层喷涂及其他工业和研究开发应用,该喷雾器设备也会产生比其他技术更好的效果。特点    1、对于精确喷涂应用,喷射形状十分容易操控成形。    2、可减少反喷造成的浪费及空气污染,节能环保。    3、使用高性能的钛合金及不锈钢制造。    4、无压力,无噪音,无喷嘴磨损和堵塞问题。    5、能耗低、雾化效率高。    6、对介质无限制,甚至污水、化工液体、油料粘液也能雾化。    7、雾化量大小可随意调节,适于应用在工业领域。通过组合,雾化量可以满足用户的任何要求。 优点     •         高均匀性     •         节材环保     •         高可控性     •         高效节能     •         广泛应用 应用领域•          薄膜光伏电池•          薄膜太阳能涂料•          钙钛矿太阳能电池•          太阳能电池•          石墨烯涂层•          硅光伏电池•          燃料电池 

徕卡 低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪 Leica EM ACE200

徕卡 低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪 Leica EM ACE200

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: Leica EM AC
  • 产地:德国
  • 供应商:徕卡显微系统(上海)贸易有限公司

    配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后,可以在全自动化系统中获得可重复的结果,实现了一台EM ACE200具有喷金仪,喷碳仪,蒸镀仪三种功能。

徕卡 高真空镀膜机 Leica EM ACE600

徕卡 高真空镀膜机 Leica EM ACE600

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: Leica EM ACE600
  • 产地:德国
  • 供应商:徕卡显微系统(上海)贸易有限公司

    Leica EM ACE600是优良的多用途高真空薄膜沉积系统,设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的,细粒度的和导电的金属和碳涂层,用于zui高分辨率分析。

手动薄膜厚度监视器

手动薄膜厚度监视器

  • 品牌: 英国Agar Scientific
  • 型号: B7348
  • 产地:英国
  • 供应商:武汉迈可诺科技有限公司

    英国Agar ScientificB7348手动薄膜厚度监视器 一种紧凑,低成本,基于微处理器的薄膜厚度监视器,可与琼脂系列涂层单元配合使用。

Quorum Q150V PLUS 系列超精细离子溅射镀膜仪

Quorum Q150V PLUS 系列超精细离子溅射镀膜仪

  • 品牌: 英国Quorum
  • 型号: Q150V PLUS
  • 产地:英国
  • 供应商:南京覃思科技有限公司

    Q150V Plus功能特点: 1)全新升级的的用户界面: ? 电容式触摸屏灵敏度高,更易触控使用 ? 用户界面软件已广泛更新,使用现代智能手机界面技术 ? 上下文相关的全面帮助页面 ? USB接口可轻松进行软件更新,也可将镀膜程序文件备份/复制到U盘 ? log文件可通过USB端口导出,文件格式为.csv,便于在Excel或类似软件中分析,log文件包括日期、时间和工作参数。 ? 16GB的闪存可储存超过1000条镀膜程序;双核ARM处理器,可实现快速响应的显示。 2)允许多用户输入和储存镀膜参数程序,新功能可根据最近的使用情况来排列每个用户的程序。 3)智能逻辑系统自动识别插入头,并显示相应的操作设置和控制。 4)系统提示用户确认靶材,然后自动为该材料选择适当的参数。 5)直观的软件允许生手或偶用者快速输入和存储其处理参数。 为方便起见,系统已存储一些典型的溅射和镀碳程序,也允许用户创建自己的操作程序。 6)如果软件检测到在一段时间内无法达到一定真空,在真空泄漏的情况下会终止程序,以防真空泵过热。 7)可互换的镀膜插入头:允许用户将系统配置为溅射镀膜仪、蒸发或辉光放电系统 - 所有这些都是在一台设备中,节省空间。 碳绳可选碳绳蒸发。更换插件时自动检测镀膜插头类型。 8)可拆卸腔室,设有防爆罩:可拆卸式玻璃腔室,容易清洁底座和顶板。如有必要,用户可以快速更换腔室,以避免敏感样品的交叉污染。高腔室选项可用于碳蒸发,避免样品过热,提高溅射的均匀性和承载较高尺寸的样品。 9)多种样品台可选:Q150V Plus具有可满足大多数要求的样品台。 所有样品台都易于更换、插入式(无螺丝)和高度可调(旋转行星级除外)。 10)Q150V Plus符合行业CE标准 11)具有“适合TEM应用的全自动、厚度可控的碳棒精细蒸发”、“磁控冷溅射”、“脉冲清洁用于溅射Al”等独特技术。

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