光刻机

基于模块化平台，HERCULES将EVG成熟的光学掩模对准技术与集成的晶片清洗、抗蚀剂涂覆、烘焙和抗蚀剂显影模块相结合。HERCULES能够对各种尺寸的晶片进行盒式加工。大力神安全地处理厚，高度弯曲

VG50(全自动独立工具)和在线计量模块(集成在EVG的大批量制造系统中)采用不同的测量方法，为大量应用提供高精度的高速测量。该工具的应用范围涵盖多层厚度测量，用于确定中间层的总厚度变化(TTV)、焊

EVG40 NT(独立工具)和AVM (HVM集成模块)能够测量光刻相关参数，如临界尺寸，以及焊接对正精度。由于系统的高测量精度，可以验证是否符合严格的过程规范，并立即优化集成的过程参数。凭借其多样

分辨力≦280 nm纳0.62曝光光源I-线(365 nm波长)还原比1:4曝光场26毫米×33毫米叠置≦25 nm吞吐量≧200晶片/小时(300毫米晶片，76发片)，与200毫米晶片兼容

原产国: 韩国，唯一能做到图形化蓝宝石衬底（PSS）光刻机，高性价比 型号：KCMA-100； 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机，紫外曝光机等； ECOPIA为全球领先的半导体设...

VPG+800 / VPG+1100 / VPG+1400 大尺寸超高速圖形發生器 The Multi-Purpose Volume Pattern Generators

光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，紫外曝光机等；美国公司为全球领先的半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；...

小型台式无掩膜光刻机- MA1200 小型台式无掩膜光刻机- MicroWriter ML3是英国公司专为实验室设计开发，为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加...

品牌：恩科优（N&Q）型号：NXQ400-8产地：美国恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中，N&Q4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统优越的操作性，超高的分辨率，均匀的光学系统，现代...

品牌：恩科优（N&Q）型号：NXQ800-6产地：美国恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中，N&Q8000系列光刻机是以自动系统为主。该系统优越的操作性，超高的分辨率，均匀的光学系统，现代先...

PicoMaster 200无掩模激光直写光刻机●250纳米分辨率（375纳米激光源）●300纳米分辨率（405纳米激光源）●4095灰阶●业界ZJ实力的成套全息设计软件●ZD230x230毫米基板...

PicoMaster XF 500-H 是一款具有超高精度的多功能紫外激光直写设备，它具有每毫米超过1200条线的输出能力，特别适合用户在光敏层上自由地创造微结构。独有的全息设计软件，提供了许多预先...