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离子刻蚀

 
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EVG105抗蚀处理系统
EVG105抗蚀处理系统
价格:面议
  • 品牌: 奥地利EVG
  • 型号:EVG105
  • 产地:奥地利
  • 可以在EVG105烘焙模块上执行软烘焙、曝光后烘焙和硬烘焙过程。受控的烘烤环境确保了均匀的蒸发。可编程接近销提供了抗蚀剂硬化过程和温度曲线的最佳控制。EVG105烘焙模块可同时处理多达300毫米的晶

CIONE系列Mini 等离子反应离子刻蚀机
  • 品牌: 韩国Femto Science
  • 型号:CIONEMini
  • 产地:韩国
实验室专用原子层沉积设备 Savannah100,200,300
  • 品牌: 深圳科时达
  • 型号:Savannah100,200,300
  • 产地:深圳
  • 用于沉积纳米级薄膜、纳米粉末包覆、长深孔样品镀膜;具有Thermal-ALD、PEALD、Particle-ALD和生产型ALD;具备近100种膜层工艺。应用领域:芯片封装、半导体High-k介电层...

德国分子束外延 Laser MBE
  • 品牌: 美国SVT Associates
  • 型号:LaserMBE
  • 产地:美国
  • Laser MBELaser MBE特点模块化概念,Laser MBE可以轻松升级到ZY传输模块或其他模块UHV PLD主腔室、利用Load-lock实现衬底和靶材的UHV传输先进的工艺自动化功能,...

美国蚀刻和剥离系统 CESx124
  • 品牌: 深圳科时达
  • 型号:CESx124
  • 产地:深圳
  • 这款蚀刻和清洁系统专为满足当今晶圆、光掩模和基板的前沿应用的特殊工艺需求而设计。

美国 那诺-马斯特 NRE-3500 (A) 全自动RIE反应离子刻蚀机
  • 品牌: 美国Nano-Master
  • 型号:-NRE-3500(A)RIE
  • 产地:美国
  • RIE反应离子刻蚀机NRE-3500(A)全自动RIE反应离子刻蚀机概述:独立式RIE反应离子刻蚀系统,淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载...

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